이온 빔 퇴적물
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1. 개요
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| 이온 빔 퇴적물 | |
|---|---|
| 개요 | |
| 정의 | 이온 빔을 사용하여 기판에 박막을 증착하는 기술 |
| 응용 분야 | 광학 코팅 마이크로 전자공학 표면 개질 생체 재료 |
| 작동 원리 | |
| 이온 소스 | 이온을 생성하고 가속화 |
| 타겟 | 증착될 물질을 포함 |
| 기판 | 박막이 형성될 표면 |
| 스퍼터링 | 이온이 타겟에 충돌하여 타겟 물질을 방출 |
| 증착 | 방출된 타겟 물질이 기판에 증착되어 박막 형성 |
| 주요 특징 | |
| 장점 | 높은 박막 품질 우수한 접착력 정밀한 두께 제어 다양한 재료 증착 가능 |
| 단점 | 낮은 증착 속도 높은 장비 비용 복잡한 공정 |
| 기술 종류 | |
| 이온 빔 스퍼터링 (IBS) | 이온 빔을 사용하여 타겟 물질을 스퍼터링하고 기판에 증착 |
| 이온 빔 보조 증착 (IBAD) | 증착과 동시에 이온 빔을 조사하여 박막 특성 제어 |
| 질량 선택 이온 빔 증착 (MSIBD) | 질량 분석기를 사용하여 특정 이온 종을 선택적으로 증착 |
| 응용 분야 상세 | |
| 광학 코팅 | 반사 방지 코팅, 고반사 코팅, 필터 등 제작 |
| 마이크로 전자공학 | 반도체 박막, 절연 박막, 금속 배선 등 제작 |
| 표면 개질 | 내마모성 향상, 내식성 향상, 생체 적합성 향상 등 |
| 생체 재료 | 임플란트 코팅, 약물 전달 시스템 등 |
| 관련 기술 | |
| 스퍼터링 | 이온 빔 퇴적의 주요 메커니즘 |
| 박막 증착 | 이온 빔 퇴적을 포함하는 다양한 기술 |
| 표면 분석 | 이온 빔 퇴적으로 형성된 박막 특성 평가 |
| 참고 문헌 | |
참조
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