서직 윤곽
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1. 개요
서직 윤곽은 은하의 표면 휘도 분포를 설명하는 데 사용되는 수학적 모델이다. 이 모델은 서직 지수(n)라는 변수를 사용하여 은하 중심으로부터의 거리에 따른 휘도의 변화를 나타내며, n 값에 따라 다양한 은하 형태를 근사할 수 있다. n=4일 때는 드보쿨뢰르 윤곽으로 타원 은하에, n=1일 때는 지수 윤곽으로 나선 은하에 적용된다. 서직 지수는 은하의 크기, 광도, 형태, 블랙홀 질량, 암흑 물질 헤일로 등과 연관되어 있으며, 핵-서직 모델 및 아인슈타인 프로파일과 같은 관련 모델도 존재한다.
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서직 윤곽 | |
---|---|
개요 | |
유형 | 광도 프로파일 |
적용 분야 | 은하 왜소 은하 벌지 항성 클러스터 |
수식 | |
서식 윤곽 | ln I(R) = ln I₀ - k R^(1/n) |
I(R) | R에서의 표면 광도 |
I₀ | R = 0에서의 표면 광도 |
R | 중심으로부터의 반지름 |
n | 서식 지수 |
k | 서식 지수 n에 의존하는 상수 |
역사적 맥락 | |
제안 | 호세 루이스 세르시크 (1963년) |
2. 정의
서직 윤곽(Sérsic profile)의 식은 다음과 같다.[2][3][18][19][20]
:
이때 은 , 즉 은하 중심에서의 휘도이다.
대신 유효반경 에서의 휘도 를 사용해서 쓰면
:
와 같이 표현할 수 있다. 여기서 ''R''은 은하 중심으로부터의 거리(타원 은하의 경우, 장축 ''R''의 타원)를 의미하고, 은 ''R''에서의 표면 휘도를 나타낸다.
변수 은 "서직 지수"(Sérsic index)라고 하며, 윤곽을 그래프로 그렸을 때 그래프의 만곡률을 조정한다. 값이 작을수록 중심에의 집중도가 떨어지고 반지름이 작을 때의 로그곡선이 완만해진다. 반지름이 작을 때 서직 윤곽은 다음 로그식으로 나타낼 수 있다.
:
은 에 대해 대략 으로 근사할 수 있다. 또한, 에 대해 은 로 근사 가능하다. 은 감마 함수 와 낮은 불완전 감마 함수 에 대해, 를 만족한다.
''n''이 1 이상일 때 은 :에 의해 근사할 수 있다.
2. 1. 서직 지수 (Sérsic index)
서직 윤곽(Sérsic profile)의 식은 다음과 같다.[2][3][18][19][20]:
이때 은 , 즉 은하 중심에서의 휘도이다.
대신 유효반경 에서의 휘도 를 사용해서 쓰면
:
와 같이 표현할 수 있다. 여기서 ''R''은 은하 중심으로부터의 거리(타원 은하의 경우, 장축 ''R''의 타원)를 의미하고, 은 ''R''에서의 표면 휘도를 나타낸다.
변수 은 "서직 지수"(Sérsic index)라고 하며, 윤곽을 그래프로 그렸을 때 그래프의 만곡률을 조정한다. 값이 작을수록 중심에의 집중도가 떨어지고 반지름이 작을 때의 로그곡선이 완만해진다. 반지름이 작을 때 서직 윤곽은 다음 로그식으로 나타낼 수 있다.
:
은 에 대해 대략 으로 근사할 수 있다. 또한, 에 대해 은 로 근사 가능하다. 은 감마 함수 와 낮은 불완전 감마 함수 에 대해, 를 만족한다.
''n''이 1 이상일 때 은 :에 의해 근사할 수 있다.
3. 응용
대부분의 은하는 1/2 < ''n'' < 10 범위의 지수를 갖는 서직 프로파일로 적합하다. 최적의 ''n'' 값은 은하의 크기와 광도와 상관관계가 있어 더 크고 밝은 은하일수록 더 큰 ''n'' 값으로 적합되는 경향이 있다.[5][6][26][27]
''n'' = 4를 대입하면 드보쿨뢰르 윤곽이 되며, 이는 일반적인 타원은하를 대략적으로 근사한 것이다.
''n'' = 1을 대입하면 지수 윤곽(exponential profile)이 되며, 이는 나선은하 원반을 잘 근사하며 왜소타원은하를 대략적으로 근사한다.
서직 지수(즉, 은하 집중도[7])와 은하 형태 사이의 상관관계는 때때로 먼 은하의 허블 유형을 결정하기 위한 자동화된 방식에 사용된다.[8] 서직 지수는 또한 은하 중심에 있는 초대질량 블랙홀의 질량과 상관관계가 있는 것으로 나타났다.[9]
서직 프로파일은 서직 지수가 헤일로 질량과 상관관계가 있는 암흑 물질 헤일로를 설명하는 데에도 사용될 수 있다.[10][11]
3. 1. 드보쿨뢰르 윤곽 (De Vaucouleurs profile)
대부분의 은하는 ½ < ''n'' < 10 범위 안에서 서직 윤곽을 만족한다. ''n'' 값은 은하의 크기와 광도에 상관이 있는데, 크고 밝은 은하일수록 ''n''이 커지는 경향이 있다.[26][27][5][6]''n'' = 4를 대입하면 드보쿨뢰르 윤곽이 되며,
:
이것은 타원은하에 잘 맞는다. 드 보클레르 법칙(''R''1/4 법칙)은 타원 은하나 나선 은하의 벌지 성분의 면 휘도 분포를 잘 설명한다.[22]
''n'' = 1을 대입하면 지수 윤곽(exponential profile)이 되며,
:
이것은 나선은하의 원반과 왜소타원은하에 잘 맞는다.
서직 지수(즉, 은하 집중도[7])와 은하 형태 사이의 상관관계는 때때로 먼 은하의 허블 유형을 결정하기 위한 자동화된 방식에 사용된다.[8] 서직 지수는 또한 은하 중심에 있는 초대질량 블랙홀의 질량과 상관관계가 있는 것으로 나타났다.[9]
서직 프로파일은 서직 지수가 헤일로 질량과 상관관계가 있는 암흑 물질 헤일로를 설명하는 데에도 사용될 수 있다.[10][11]
단, 실제 타원 은하 중에서도 셀식 지수 ''n''은 그 광도나 크기에 따라 다른 값을 갖는다. 어두운 타원 은하는 ''n'' ∼ 0.5 정도가 되지만, 가장 밝은 타원 은하는 ''n''이 10 이상이 된다.[18]
3. 2. 지수 윤곽 (Exponential profile)
대부분의 은하는 1/2 < ''n'' < 10 범위 안에서 서직 윤곽을 만족한다. ''n'' 값은 은하의 크기와 광도에 상관이 있는데, 크고 밝은 은하일수록 ''n''이 커지는 경향이 있다.[26][27]''n'' = 1을 대입하면 지수 윤곽(exponential profile)이 되며,
:
이것은 나선은하의 원반과 왜소타원은하에 잘 맞는다.
셀식 지수 ''n'' = 1일 때,
:
이며, 이는 지수 법칙이라고 불린다. 지수 법칙은 원반 은하의 원반 성분의 면 밝기 프로파일을 잘 설명한다.[24] 단, 원반 은하의 면 밝기 분포가 벌지와 원반의 두 셀식 법칙의 중첩으로부터 벗어나는 경우도 종종 관측된다.[24]
3. 3. 추가 응용 및 확장
대부분의 은하는 ½ < ''n'' < 10 범위 안에서 서직 윤곽을 만족한다. ''n'' 값은 은하의 크기와 광도에 상관이 있는데, 크고 밝은 은하일수록 ''n''이 커지는 경향이 있다.[26][27]''n'' = 4를 대입하면 드보쿨뢰르 윤곽이 되며,
:I(R) ∝ e^(-kR^(1/4))
이것은 타원은하에 잘 맞는다.
''n'' = 1을 대입하면 지수 윤곽(exponential profile)이 되며,
:I(R) ∝ e^(-kR)
이것은 나선은하의 원반과 왜소타원은하에 잘 맞는다.
대부분의 은하는 1/2 < ''n'' < 10 범위의 지수를 갖는 서직 프로파일로 적합하다.
최적의 ''n'' 값은 은하의 크기와 광도와 상관관계가 있어 더 크고 밝은 은하일수록 더 큰 ''n'' 값으로 적합되는 경향이 있다.[5][6]
''n'' = 4로 설정하면 드 보클레르 프로파일이 된다.
: I(R) ∝ e^(-bR^(1/4))
이는 일반적인 타원 은하를 대략적으로 근사한 것이다.
''n'' = 1로 설정하면 지수 프로파일이 된다.
: I(R) ∝ e^(-bR)
이는 나선 은하 원반을 잘 근사하며 왜소 타원 은하를 대략적으로 근사한다. 서직 지수(즉, 은하 집중도[7])와 은하 형태 사이의 상관관계는 때때로 먼 은하의 허블 유형을 결정하기 위한 자동화된 방식에 사용된다.[8] 서직 지수는 또한 은하 중심에 있는 초대질량 블랙홀의 질량과 상관관계가 있는 것으로 나타났다.[9]
서직 프로파일은 서직 지수가 헤일로 질량과 상관관계가 있는 암흑 물질 헤일로를 설명하는 데에도 사용될 수 있다.[10][11]
핵-서직 모델 (Core-Sérsic model)가장 밝은 타원 은하는 종종 서직의 법칙/Sérsic's law영어으로 잘 설명되지 않는 저밀도 핵을 가지고 있다. 이러한 은하를 설명하기 위해 핵-서직 모델군이 도입되었다.[12][13][14] 핵-서직 모델은 핵을 설명하는 추가적인 매개변수 집합을 가지고 있다.
왜소 타원 은하와 벌지는 종종 점과 같은 은하 핵을 가지고 있으며, 이 또한 서직의 법칙으로 잘 설명되지 않는다. 이러한 은하는 종종 핵을 나타내는 추가적인 중심 구성 요소를 가진 서직 모델로 맞추어진다.[15][16]
아인슈타인 프로파일은 *I* 가 체적 밀도인 *ρ* 로 대체되고, *R* 이 하늘에 투영되지 않은 중심으로부터의 내부 거리인 *r* 로 대체된다는 점을 제외하면 서직 프로파일과 수학적으로 동일하다.
3. 3. 1. 핵-서직 모델 (Core-Sérsic model)
가장 밝은 타원 은하는 종종 서직의 법칙/Sérsic's law영어으로 잘 설명되지 않는 저밀도 핵을 가지고 있다. 이러한 은하를 설명하기 위해 핵-서직 모델군이 도입되었다.[12][13][14] 핵-서직 모델은 핵을 설명하는 추가적인 매개변수 집합을 가지고 있다.왜소 타원 은하와 벌지는 종종 점과 같은 은하 핵을 가지고 있으며, 이 또한 서직의 법칙으로 잘 설명되지 않는다. 이러한 은하는 종종 핵을 나타내는 추가적인 중심 구성 요소를 가진 서직 모델로 맞추어진다.[15][16]
아인슈타인 프로파일은 *I* 가 체적 밀도인 *ρ* 로 대체되고, *R* 이 하늘에 투영되지 않은 중심으로부터의 내부 거리인 *r* 로 대체된다는 점을 제외하면 서직 프로파일과 수학적으로 동일하다.
3. 3. 2. 점광원 추가
요약(summary)에 내용이 없습니다. 요약에 내용을 채워주세요.3. 3. 3. 아인슈타인 프로파일
가장 밝은 타원 은하는 종종 서직의 법칙(Sérsic's law)으로 잘 설명되지 않는 저밀도 핵을 가지고 있다. 이러한 은하를 설명하기 위해 핵-서직 모델(core-Sérsic model)군이 도입되었다.[12][13][14] 핵-서직 모델은 핵을 설명하는 추가적인 매개변수 집합을 가지고 있다.왜소 타원 은하와 벌지는 종종 점과 같은 은하 핵을 가지고 있으며, 이 또한 서직의 법칙으로 잘 설명되지 않는다. 이러한 은하는 종종 핵을 나타내는 추가적인 중심 구성 요소를 가진 서직 모델로 맞추어진다.[15][16]
아인슈타인 프로파일은 체적 밀도()가 로 대체되고, 투영되지 않은 중심으로부터의 내부 거리()가 로 대체된다는 점을 제외하면 서직 프로파일과 수학적으로 동일하다.
참조
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1993
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1994
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