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노볼락

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1. 개요

노볼락은 페놀과 포름알데히드의 반응으로 생성되는 사슬 모양의 고분자 화합물이다. 산성 촉매 하에서 제조되며, 레졸과 달리 자체적으로 경화되지 않아 가교제를 첨가하여 가열해야 경화된다. 노볼락은 가교제, 충전제와 혼합하여 성형용 혼합물로 사용되며, 금형에서 가열 및 가압 과정을 통해 다양한 성형품을 제작한다. 특히, 노볼락은 포토레지스트 물질로 사용되어 초소형 전자 공학 분야에서 중요한 역할을 한다.

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노볼락
기본 정보
노볼락의 일반적인 구조식
노볼락의 일반적인 구조식
다른 이름페놀-포름알데히드 수지
페놀 수지
페놀-포름알데히드 중합체
노볼락 수지
속성
화학식(C6H6O•CH2O)n
밀도1.2 g/cm3
열적 성질유리 전이 온도: 40 ~ 70 °C
열분해 온도: 300 °C 이상
관련 화합물
관련 화합물페놀
포름알데히드
레졸
위험성
GHS 위험 문구H315
H319
H335
GHS 예방 문구P261
P305 + P351 + P338
추가 정보
CAS 등록 번호9003-35-4

2. 제법 및 특징

산성 촉매 조건에서 페놀에 포름알데히드가 부가되는 속도보다 메틸올기가 다른 페놀과 축합하는 반응이 더 빠르기 때문에 비교적 사슬 모양의 분자가 만들어지기 쉽다. 이것을 노볼락이라고 부른다. 노볼락은 레졸과 달리 그 자체로는 경화할 수 없고, 헥사메틸렌디아민 등의 가교제를 첨가하여 가열하면 단시간 내에 망상 구조의 고분자를 형성하며 경화한다. 따라서 이 플라스틱은 가교제나 충전제를 넣은 성형용 혼합물로 만들어 금형에 넣고 가열·가압하여 여러 가지 성형품을 만든다.[4][5]

2. 1. 제법

산성 촉매 하에서 페놀에 포름알데히드가 부가되는 속도보다 메틸올기가 다른 페놀과 축합하는 반응이 더 빠르기 때문에 비교적 사슬 모양의 분자가 만들어지기 쉽다. 이것을 노볼락이라고 부른다. 노볼락은 레졸과 달리 그 자체로는 경화할 수 없고, 헥사메틸렌디아민 등의 가교제를 첨가하여 가열해야 단시간 내에 망상 구조의 고분자를 형성하며 경화한다.[4][5]

2. 2. 특징

산성 촉매 조건에서는 페놀에 포름알데히드가 부가되는 반응보다 메틸올기가 다른 페놀과 축합되는 반응이 더 빠르게 일어나, 비교적 사슬 형태의 분자가 쉽게 만들어진다. 이를 노볼락이라고 부른다. 노볼락은 레졸과 달리 스스로 경화될 수 없지만, 헥사메틸렌디아민과 같은 가교제를 첨가하고 가열하면 짧은 시간 안에 망상 구조의 고분자를 형성하며 경화된다.[4][5] 따라서 노볼락은 가교제나 충전제를 섞은 성형용 혼합물 형태로 만들어 금형에 넣고 가열 및 가압하여 다양한 성형품을 제조하는 데 사용된다.

노볼락은 포토레지스트로 사용되어 초소형 전자 공학 분야에서 특히 중요한 역할을 한다.[4][5]

3. 응용 분야

노볼락은 포토레지스트 물질로 사용되어 초소형 전자 공학에 특히 중요하다.[4][5] 또한, 헥사메틸렌디아민 등의 가교제를 가하여 가열하면 망상(網狀)의 고분자를 만들며 경화한다.

3. 1. 성형 재료

노볼락은 그 자체로 경화할 수 없고, 헥사메틸렌디아민 등의 가교제(架橋劑)를 가하여 가열하면 단시간 내에 망상(網狀)의 고분자를 만들며 경화한다. 따라서 노볼락은 가교제나 충전제를 넣은 성형용 혼합물로 만들어 금형 속에 넣고 가열·가압하여 여러 가지 성형품을 만드는 데 사용된다.[4][5]

3. 2. 포토레지스트

노볼락은 포토레지스트 물질로 사용되어 초소형 전자 공학에 특히 중요하다.[4][5]

참조

[1] 서적 Diazonaphthoquinone-based Resists Int. Soc. Optical Engineering
[2] 간행물 Lithographic Resists
[3] 보고서 Chemical Information Review Document for Diazonaphthoquinone Derivatives Used in Photoresists https://ntp.niehs.ni[...] National Toxicology Program 2006-01
[4] 간행물 Lithographic Resists
[5] 문서 Chemical Information Review Document for Diazonaphthoquinone Derivatives Used in Photoresists https://ntp.niehs.ni[...] National Toxicology Program 2006-01



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