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350 nm 공정

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1. 개요

350 nm 공정은 350 나노미터 크기의 반도체 제조 공정을 의미한다. 이 공정은 인텔 펜티엄 프로, 펜티엄 P54CS, 초창기 펜티엄 II CPU, AMD K5, AMD K6, NEC VR4300, MTI VR4300i, МЦСТ-R150, Parallax Propeller, Atmel ATmega328, 엔비디아 RIVA 128 등 다양한 중앙 처리 장치(CPU), 마이크로컨트롤러, 그래픽 처리 장치(GPU) 및 기타 집적 회로(IC)에 적용되었다.

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350 nm 공정
350 nm 공정
기술 세대350 nm
도입 시기1993년
MOSFET 채널 길이0.35 μm
금속 배선 간격0.5 μm

2. 350nm 제조 공정 적용 제품

350nm 공정으로 제조된 제품은 다음과 같다.



프로세서에 대한 내용은 해당 하위 섹션을 참조.

2. 1. 프로세서

350 nm 공정은 다양한 프로세서에 사용되었다.

2. 1. 1. 중앙 처리 장치 (CPU)

CPU제조사출시일비고
펜티엄 프로인텔1995년
펜티엄 P54CS인텔1995년
펜티엄 II Klamath인텔1997년초창기 모델
K5AMD1996년
AMD K6 Model 6AMD1997년
VR4300NEC닌텐도 64 게임 콘솔
R4200i1995년닌텐도 64 게임 콘솔
МЦСТ-R1502001년
Parallax Propeller2006년8 코어 마이크로컨트롤러[2]
ATmega328Atmel아두이노 UNO[3][4]


2. 1. 2. 기타 프로세서


  • 닌텐도 64 게임 콘솔에 사용된 R4200i (1995) 프로세서.[2]
  • 8 코어 마이크로컨트롤러 Parallax Propeller (2006).[2]
  • 아두이노 UNO에 사용된 Atmel ATmega328.[3][4]
  • 엔비디아 RIVA 128 (1997) GPU.

참조

[1] 웹사이트 RIVA 128 gains support as preferred Direct3D developer platform press release https://web.archive.[...] Nvidia 2023-12-03
[2] 웹사이트 Propeller I semiconductor process technology? Is it 350nm or 180nm? https://archive.toda[...] 2015-09-13
[3] 논문 Optical Fault Injections: a Setup Comparison 2018
[4] 서적 Constructive Side-Channel Analysis and Secure Design 2017



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