350 nm 공정
1. 개요
350 nm 공정은 350 나노미터 크기의 반도체 제조 공정을 의미한다. 이 공정은 인텔 펜티엄 프로, 펜티엄 P54CS, 초창기 펜티엄 II CPU, AMD K5, AMD K6, NEC VR4300, MTI VR4300i, МЦСТ-R150, Parallax Propeller, Atmel ATmega328, 엔비디아 RIVA 128 등 다양한 중앙 처리 장치(CPU), 마이크로컨트롤러, 그래픽 처리 장치(GPU) 및 기타 집적 회로(IC)에 적용되었다.
350 nm 공정
350 nm 공정
| 기술 세대 | 350 nm |
|---|---|
| 도입 시기 | 1993년 |
| MOSFET 채널 길이 | 0.35 μm |
| 금속 배선 간격 | 0.5 μm |
📚 더 읽어볼만한 페이지
-
국제 반도체 기술 로드맵 리소그래피 노드 -
22 nm 공정
22nm 공정은 2000년대 후반부터 개발된 반도체 제조 기술로, 주요 반도체 기업들이 관련 기술을 개발하고 제품을 출시했으며, 하이-K 유전체, 금속 게이트, 다중 패터닝 등의 기술 혁신을 통해 한국 반도체 산업의 경쟁력 강화에 기여했다. -
국제 반도체 기술 로드맵 리소그래피 노드 -
65 nm 공정
65 nm 공정은 반도체 제조 기술로 트랜지스터의 게이트 길이를 65 나노미터 수준으로 미세화한 기술이며, 광학 리소그래피와 이미징 기술을 사용해 회로를 형성하고, 고성능 또는 저전력에 초점을 맞춘 다양한 공정 버전으로 여러 프로세서 생산에 적용되었다.
2. 350nm 제조 공정 적용 제품
350nm 공정으로 제조된 제품은 다음과 같다.
* ST마이크로일렉트로닉스(SGS-Thomson) 5LM
프로세서에 대한 내용은 해당 하위 섹션을 참조.
2.1. 프로세서
350 nm 공정은 다양한 프로세서에 사용되었다.
* 인텔 펜티엄 프로, 펜티엄 P54CS, 초기 펜티엄 II CPU Klamath
* AMD K5, AMD K6 Model 6
* NEC VR4300
* R4200i
* МЦСТ-R150
* Parallax Propeller
* Atmel ATmega328
* 엔비디아 RIVA 128 GPU
2.1.1. 중앙 처리 장치 (CPU)
2.1.2. 기타 프로세서
* 닌텐도 64 게임 콘솔에 사용된 R4200i (1995) 프로세서.
* 8 코어 마이크로컨트롤러 Parallax Propeller (2006).
* 아두이노 UNO에 사용된 Atmel ATmega328.
* 엔비디아 RIVA 128 (1997) GPU.