위상절연체
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1. 개요
위상절연체는 물질 내부가 절연체이지만 표면에서는 전기가 통하는 물질이다. 2005년에 제안되었으며, 전자의 거동을 나타내는 수식에 위상수학이 사용되어 명명되었다. 마요라나 페르미온과 유사한 현상이 표면에서 관측되며, 불순물에 영향을 받지 않고 경계 조건에 따라 안정적인 전자의 거동을 보인다. 양자 컴퓨터 실현의 핵심 요소로 여겨지며, 2015년에는 '위상 주기율표' 완성에 기여한 공로로 인시카상을 수상했다. 1980년대에 3차원 위상절연체 모델이 제시되었고, 2000년대에는 2차원 위상절연체 모델이 제안되었다. 2007년에는 비스무트 화합물에서 3차원 위상절연체가 발견될 수 있다는 예측이 있었으며, 2007년 2차원 위상절연체가 처음 구현되었다. 위상절연체는 양자 스핀 홀 효과 및 양자 컴퓨터를 위한 소자, 자기전자공학 및 광전자공학 소자에 응용될 수 있으며, 열전재료로도 활용된다. 다양한 방법으로 합성되며, 분자선에피택시(MBE)가 가장 일반적인 기술이다. 위상절연체는 블로흐 정리를 이용하여 분류되며, 시간 역전 대칭성, 입자-홀 대칭성, 카이랄 대칭성을 고려하여 위상 불변량을 식별한다. 향후 고대칭성 전자띠와 간편한 합성이 가능한 재료 개발에 대한 연구가 진행될 것이다.
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절연체는 전기 전도성을 막아 전기의 흐름을 제어하고 안전을 확보하며, 밴드 이론에 따라 큰 띠틈을 가져 외부 전압이 띠틈을 넘어서면 절연 파괴가 발생하며, 유리에서 세라믹, 고분자 복합 재료 등으로 제작되어 전선, 케이블 등 다양한 분야에 사용된다.
위상절연체 | |
---|---|
지도 정보 | |
기본 정보 | |
유형 | 물질 상태 |
발견자 | 찰스 케인 진 멜 |
발견 시기 | 2005년 |
특징 | |
주요 특징 | 내부(bulk)는 절연체, 표면(boundary)은 전도체 강력한 스핀-궤도 결합을 갖는 특정 물질에서 나타남 시간 반전 대칭에 의해 보호되는 전도성 표면 상태 결함 및 불순물에 강한 전도 특성 위상학적 불변량에 의해 특징지어짐 |
작동 원리 | 물질의 밴드 구조가 반전되어 나타남 내부 에너지 밴드의 위상학적 성질과 표면 전도 상태의 연결 |
위상학적 불변량 | Z2 위상 불변량 |
대칭성 | 시간 반전 대칭 결정 대칭 |
종류 | |
2차원 위상 절연체 | 양자 스핀 홀 효과 유효 해밀토니안을 통한 접근 |
3차원 위상 절연체 | 강한 위상 절연체 약한 위상 절연체 디락 반금속 |
물질 | |
주요 물질 | 비스무트 셀레나이드 (Bi2Se3) 비스무트 텔루라이드 (Bi2Te3) 안티몬 텔루라이드 (Sb2Te3) 수은 텔루라이드 (HgTe) 카드뮴 텔루라이드 (CdTe) |
다른 물질 | 하프 호이즐러 합금 페로브스카이트 구조 물질 |
응용 분야 | |
잠재적 응용 | 스핀트로닉스 소자 양자 컴퓨터 초전도 저전력 전자 소자 테라헤르츠 광학 장치 센서 |
관련 연구 분야 | |
관련 분야 | 응집물질물리학 고체물리학 위상수학 양자역학 |
추가 정보 | |
기타 정보 | 시간 반전 대칭을 깨뜨리면 위상학적 보호가 깨짐 자기 위상 절연체 연구 활발 광자 및 음향 위상 절연체 연구 |
2. 일반적 설명
위상절연체가 이러한 특이한 성질을 갖는 이유는, 전자가 1937년에 제창된 마요라나 페르미온처럼 행동하기 때문이라는 추측이 있다. 이 물질의 표면이 전기를 통하는 조건에는 불순물이나 격자 결함 등의 영향을 받지 않고, 경계 조건만이 영향을 준다. 안정된 전자의 거동은 양자 컴퓨터 실현의 핵심 요소로 여겨진다[85]。
수은텔루라이드(HgTe)/카드뮴텔루라이드(CdTe) 계면 디락 상태의 존재는 2007년 로렌스 W. 몰렌캠프(Laurens W. Molenkamp) 연구팀에 의해 2차원 위상절연체에서 실험적으로 검증되었다.[14]
카사 마사오(笠真生)와 후루사키 아키라(古崎昭)는 A.P.Schnyder와 S.W.Ludwig와의 공동 연구를 통해 "위상 주기율표"를 완성하고, 3차원 위상 초전도체의 존재를 예언 및 실제로 존재함을 보인 공로로 2015년 인시카상(仁科賞)을 수상했다[86]。
2016년에는 반금속 비스무트가 위상 물질임이 밝혀졌다[87]。
3. 이론적 예측
3. 1. 초기 모델 (1980년대)
3차원 위상절연체의 최초 모델은 1985년 B. A. 볼코프와 O. A. 판크라토프가 제안했으며,[12] 1987년 판크라토프, S. V. 파호모프, 볼코프가 추가 연구를 진행했다.[13] 밴드 역전 접촉면에서 납텔루라이드(PbTe)/주석텔루라이드(SnTe)[12]와 수은텔루라이드(HgTe)/카드뮴텔루라이드(CdTe)[13] 이종구조에서 갭 없는 2차원 디락 상태가 존재하는 것으로 나타났다.
3. 2. 2차원 위상절연체 모델 (2000년대)
이후 2차원 위상절연체(양자 스핀 홀 절연체로도 알려짐)에 대한 이론적 모델은 2005년 찰스 L. 케인(Charles L. Kane)과 유진 J. 멜레(Eugene J. Mele)에 의해,[15] 그리고 2006년 B. 안드레이 베르네비그(B. Andrei Bernevig)과 장소청(Shoucheng Zhang)에 의해 제안되었다.[16] 케인(Kane)과 멜레(Mele)의 연구에서 위상 불변량이 구성되었고, 시간 역전 대칭의 중요성이 명확해졌다.[17] 이후 베르네비그(Bernevig), 테일러 L. 휴즈(Taylor L. Hughes), 장소청(Zhang)은 카드뮴텔루라이드(CdTe) 사이에 수은텔루라이드(HgTe)의 양자 우물(매우 얇은 층)에서 1차원(1D) 나선형 에지 상태를 가진 2차원 위상절연체가 실현될 것이라는 이론적 예측을 했다.[18] 1차원 나선형 에지 상태에 의한 수송은 실제로 2007년 몰렌캠프(Molenkamp) 연구팀의 실험에서 관찰되었다.[14]
3. 3. 3차원 위상절연체 예측 (2007년)
2007년, 비스무트를 포함하는 이원 화합물에서 3차원 위상절연체가 발견될 수 있으며,[19][20][21][22] 특히 양자 스핀 홀 상태의 여러 복사본으로 축소될 수 없는 "강한 위상절연체"가 존재한다는 예측이 있었다.[23] 2000년대에 위상 분류와 시간 역전 대칭의 중요성이 제기되었지만, 위상절연체의 모든 필수 요소와 물리는 이미 1980년대 연구에서 이해되었다.
4. 실험적 구현
2차원 및 3차원 위상 절연체 발견 이후, 여러 관련 연구 결과들이 보고되었다. Bi1 − xSbx 합금이 3차원 디랙 입자를 가질 수 있다는 예측은 2차원 그래핀[28]과 순수 비스무트[29]에서 전하 양자 홀 분수화 관찰로 인해 주목받았다. 셀렌화비스무트에서도 위상 절연 현상이 관찰되었다.[34][35] 이러한 재료 중 일부에서는 자연적으로 발생하는 결함으로 인해 페르미 준위가 전도띠 또는 원자가띠에 위치하며, 도핑 또는 게이팅을 통해 벌크 갭으로 이동해야 한다.[38][39] 3차원 위상 절연체의 표면 상태는 전자의 스핀이 선형 운동량에 고정된 새로운 유형의 2차원 전자 기체(2DEG)이다.[31]
Bi 기반 재료는 표면 수송 측정에서 완전히 벌크 절연체이거나 고유 3차원 위상 절연체 상태를 가진다.[40] 약간의 Sn(주석) 도핑이 된 새로운 Bi 기반 칼코겐화물(Bi1.1Sb0.9Te2S)은 페르미 에너지와 디랙 점이 벌크 갭에 위치하는 고유 반도체 거동을 보이며, 표면 상태는 전하 수송 실험으로 조사되었다.[41]
2008년과 2009년에는 위상 절연체를 양자화된 자기전기 효과를 가진 벌크 3차원 자기전기체로 이해하는 것이 가장 좋다는 제안이 있었다.[42][43] 이는 위상 절연체를 자기장에 놓으면 드러낼 수 있으며, 입자 물리학의 가상적인 액시온 입자와 유사한 언어로 설명할 수 있다.[44] 존스홉킨스 대학교와 럿거스 대학교 연구원들은 THz 분광법을 사용하여 패러데이 회전이 미세 구조 상수에 의해 양자화됨을 보여주었다.[45]
4. 1. 2차원 위상절연체 (2007년)
2차원 위상 절연체는 2007년 카드뮴 텔루라이드 사이에 끼워진 텔루르화수은 양자 우물을 포함하는 시스템에서 처음으로 구현되었다.[24]4. 2. 3차원 위상절연체
실험적으로 처음 구현된 3차원 위상 절연체는 Bi1-xSbx였다.[24][25][26] 순수한 상태의 비스무트는 작은 전자 띠 간격을 가진 반금속이다. 각분해 광전자 분광법과 여러 다른 측정을 사용하여 Bi1-xSbx 합금이 임의의 한 쌍의 크라머스 점 사이에 홀수 표면 상태(SS) 교차를 나타내고, 벌크 특징은 질량이 있는 디랙 페르미온을 나타낸다는 것을 관찰하였다.[25]그 직후, 순수 안티몬, 셀렌화비스무트, 텔루르화비스무트 및 텔루르화안티몬에서도 각분해 광전자 분광법(ARPES)을 사용하여 대칭으로 보호되는 표면 상태가 관찰되었다.[30][31][32][33][34] 하이슬러 재료의 광범위한 계열 내의 많은 반도체는 이제 위상 표면 상태를 나타내는 것으로 여겨진다.[36][37]
4. 3. 기타 연구 결과
2012년에 위상 콘도 절연체가 저온에서 벌크 절연체인 육붕화사마륨에서 확인되었다.[46][47] 2014년에는 스핀 토크 컴퓨터 메모리와 같이 자기 성분을 위상 절연체로 조작할 수 있다는 것이 입증되었다.[48][49]5. 플로케 위상절연체 (Floquet topological insulators)
위상절연체는 합성하기 어렵고, 고체 물질로 접근할 수 있는 위상적 상(phase)이 제한적이다.[50] 이러한 이유로 위상절연체의 기본 원리를 시뮬레이션하는 시스템에서 위상적 상을 찾는 연구가 활발히 진행되었다. 이산 시간 양자 워크(DTQW)는 플로케 위상절연체(FTI, Floquet topological insulator)를 만드는 데 제안되었다. 이 주기적으로 구동되는 시스템은 위상적으로 비자명한 유효(플로케) 해밀토니안을 시뮬레이션한다.[51] 이 시스템은 1차원에서 3차원까지 모든 보편적인 종류의 위상절연체의 유효 해밀토니안을 복제한다.[52][53][54][55] 흥미롭게도, 플로케 위상절연체의 위상적 성질은 외부 자기장이 아닌 외부 주기적 구동을 통해 제어될 수 있다. 거리 선택적 리드베르크 상호작용에 의해 강화된 원자격자는 1, 2 또는 3차원에서 수백 개의 사이트와 단계에 걸쳐 다양한 종류의 FTI를 시뮬레이션할 수 있다.[55] 장거리 상호작용을 통해 위상적으로 정렬된 주기적 경계 조건을 설계할 수 있으며, 이는 실현 가능한 위상적 상을 더욱 풍부하게 한다.[55]
6. 특성 및 응용
위상절연체의 스핀-모멘텀 고정[31]은 3차원 위상절연체 표면에 근접 효과를 통해 초전도성이 유도될 경우 대칭성으로 보호되는 표면 상태가 마요라나 입자를 가질 수 있게 한다.[56] 위상절연체의 비자명성은 나선형 디랙 페르미온 기체의 존재에 담겨 있다. 위상절연체의 가장 유망한 응용 분야는 양자 홀 효과[14] 및 양자 이상 홀 효과[62]에 기반한 스핀트로닉스 소자와 양자 컴퓨터를 위한 소산 없는 트랜지스터이다. 또한, 위상절연체 재료는 고급 자기전자공학 및 광전자공학 소자에도 실용적인 응용 분야를 찾았다.[63][64]
6. 1. 열전재료로서의 응용
일부 가장 잘 알려진 위상절연체는 열전재료이기도 한데, 예를 들어 Bi₂Te₃와 Bi₂Se₃ (n형 열전재료) 및 Sb₂Te₃ (p형 열전재료)와의 합금이 있다.[65] 높은 열전 변환 효율은 낮은 열전도율, 높은 전기 전도율, 그리고 높은 제벡 계수(온도 변화에 따른 전압 변화율)를 가진 재료에서 실현된다. 위상절연체는 종종 무거운 원자로 구성되어 열전도율이 낮아지는 경향이 있으며, 따라서 열전에 유리하다. 최근 연구에 따르면, 띠 역전에 의해 유도되는 벌크 띠 구조의 왜곡으로 인해 위상절연체에서 우수한 전기적 특성(높은 전기 전도율 및 제벡 계수)이 나타날 수 있다는 것을 보여주었다.[66] 종종 전기 전도율과 제벡 계수는 열전재료의 상충되는 특성이며 동시에 최적화하기 어렵다. 위상절연체의 띠 역전에 의해 유도되는 띠 왜곡은 전자/정공의 유효 질량을 감소시키고 계곡 축퇴도(전하 수송에 기여하는 전자띠의 수)를 증가시킴으로써 두 가지 특성을 매개할 수 있다. 결과적으로 위상절연체는 일반적으로 열전 응용 분야에 흥미로운 후보이다.7. 합성
위상절연체는 금속유기화학기상증착법(MOCVD),[67] 물리기상증착법(PVD),[68] 용매열합성법,[69] 초음파화학적 기법[70] 및 분자선 에피택시(MBE)[34] 등 다양한 방법으로 성장시킬 수 있다. 이 중 MBE가 가장 일반적인 실험 기법이다. 박막 위상절연체의 성장은 약한 반데르발스 상호작용에 의해 지배된다.[71] 이러한 약한 상호작용을 통해 깨끗하고 완벽한 표면을 가진 벌크 결정에서 박막을 박리할 수 있다. 반데르발스 에피택시(VDWE)는 층상 물질 간의 약한 반데르발스 상호작용에 의해 지배되는 현상으로,[72] 이 방식을 통해 이종구조 및 집적회로를 위해 다른 기판 위에 층상 위상절연체를 성장시킬 수 있다.[72]
7. 1. 분자선에피택시(MBE) 성장
분자선 에피택시(MBE)는 결정질 기판에 결정질 물질을 성장시켜 정렬된 층을 형성하는 에피택시 방법이다. MBE는 고진공 또는 초고진공에서 수행되며, 원소들은 서브리메이션(승화)될 때까지 서로 다른 전자빔 증발기에서 가열된다. 그런 다음 기체 상태의 원소들은 웨이퍼에 응축되어 서로 반응하여 단결정을 형성한다.[34]
MBE는 고품질 단결정 박막 성장에 적합한 기술이다. 계면에서의 큰 격자 불일치 및 결함을 피하기 위해 기판과 박막은 유사한 격자 상수를 가져야 한다. MBE는 합성이 고진공에서 수행되므로 오염이 적다는 점에서 다른 방법에 비해 장점이 있다. 또한, 기판 계면에 존재하는 원료 물질의 종류와 성장 속도에 영향을 줄 수 있기 때문에 격자 결함이 감소된다.[73] 게다가 MBE에서는 층별로 시료를 성장시킬 수 있으므로, 설계된 이종구조를 위해 매끄러운 계면을 가진 평평한 표면을 얻을 수 있다. 또한 MBE 합성 기술은 위상절연체 시료를 성장 챔버에서 각도분해 광전자 분광법(ARPES) 또는 주사터널링현미경(STM) 연구와 같은 특성 분석 챔버로 쉽게 이동할 수 있다는 장점이 있다.[74]
약한 반데르발스 결합으로 인해 격자 정합 조건이 완화되어 TI는 Si(111),[76][77] GaAs(111),[78] InP(111), CdS(0001) 등과 같은 다양한 기판[75]에 성장될 수 있다.
7. 2. 물리기상증착법(PVD) 성장
PVD 기법은 박리법의 단점을 갖지 않으며, 동시에 분자선 에피택시(MBE)를 이용한 완벽하게 제어된 성장법보다 훨씬 간단하고 저렴하다. PVD 방법을 이용하면 위상절연체(예: Bi₂Se₃, Bi₂Te₃)를 포함한 다양한 층상 준이차원 물질의 단결정을 재현성 있게 합성할 수 있다.[79] 생성된 단결정은 잘 정의된 결정학적 방향을 가지며, 조성, 두께, 크기 및 원하는 기판 상의 표면 밀도를 제어할 수 있다.두께 제어는 특히 일반적인(벌크) 전자 채널이 주로 수송 특성을 지배하고 위상(표면) 모드의 반응을 가리는 3차원 위상절연체(3D TIs)에서 중요하다. 두께를 줄이면 전체 전도에 대한 일반적인 벌크 채널의 기여를 낮추어 위상 모드가 전류를 운반하도록 한다.[80]
7. 3. 비스무트 기반 위상절연체
지금까지 위상절연체 분야는 Bi]₂8. 확인
위상절연체를 확인하는 첫 번째 단계는 합성 직후, 즉 진공을 깨거나 시료를 대기 중으로 옮기지 않고 수행된다. 각도 분해 광전자 분광법(ARPES)이나 주사터널링현미경(STM) 기술을 사용하여 이를 수행할 수 있다.[74]
9. 분류
블로흐 정리를 이용하면 각 파수 벡터를 브릴루앙 영역에 있는 행렬에 할당하여 물질의 파동 전파 특성을 완전히 특징지을 수 있다. 수학적으로 이러한 할당은 벡터 묶음을 생성한다. 서로 다른 물질은 서로 다른 파동 전파 특성을 가지므로 서로 다른 벡터 묶음을 갖는다.[7]
대칭성이 존재하면 이 공간을 제한하여 결과적인 위상을 변경할 수 있다. 일반적으로 고려되는 세 가지 대칭성은 시간 역전 대칭성, 입자-홀 대칭성, 카이랄 대칭성(또는 부격자 대칭성)이다. 이들은 각각 반유니터리 작용소는 해밀토니안과 교환하고, 반유니터리 작용소는 해밀토니안과 반교환하며, 유니터리 작용소는 해밀토니안과 반교환한다.[7]
10. 향후 발전 방향
위상절연체 분야는 아직 개발이 필요하다. 비스무트 칼코겐화물계 위상절연체 중 가장 성능이 좋은 것들도 전하 때문에 약 10meV의 띠 간격 변화를 보인다.[74] 향후 연구는 고대칭성 전자띠의 존재와 간편한 합성이 가능한 재료의 두 가지 측면 모두에 집중해야 한다. 후보 물질 중 하나는 하프-하이슬러 화합물이다.[74] 이러한 결정 구조는 다양한 원소로 구성될 수 있다. 띠 구조와 띠 간격은 원자가 배열에 매우 민감하며, 부위 간 교환과 무질서의 가능성이 높아 특정 결정 배열에도 매우 민감하다. 제일원리 계산을 이용하여 다양한 18전자 하프-하이슬러 화합물에서 알려진 2차원 및 3차원 위상절연체 재료와 유사한 띠 배열을 보이는 비자명적인 띠 구조가 예측되었다.[83] 하지만 이러한 재료들은 실제 실험에서 아직까지 고유한 위상절연체 거동의 징후를 보이지 않았다.
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