잠상
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1. 개요
잠상은 빛이 할로겐화 은 입자에 작용하여 형성되는 금속 은의 부위로, 사진 현상 전의 필름이나 인화지 위에 존재하며, 광화학 반응의 결과로 나타나는 화상을 의미한다. 잠상은 사진 감도를 높이기 위해 전자 트랩을 조작하거나, 현상 가능한 잠상의 임계 크기를 줄이는 등의 방법으로 활용된다. 또한, 상반칙 불궤 현상, 잠상 위치, 잠상의 안정성 등과 관련된 연구가 진행되었으며, 사진, 인쇄, 화폐, 신분 증명서 등 다양한 분야에서 위조 방지 기술로 사용된다.
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- 사진술 - 영상
영상은 이미지 제작의 역사, 종류, 기술적 측면, 사회문화적 의미 등을 포괄하는 개념이며, 기록, 종교, 소통 등 다양한 역할을 해왔고, 양식, 기술, 사회문화적 맥락 등 다양한 기준으로 분류된다. - 사진술 - 초점 심도
초점 심도는 이미지 센서 또는 필름 평면에서 허용 가능한 선명도를 유지하는 이미지 생성 영역의 범위로, 피사계 심도와 구별되며, 조리개 값, 초점 거리, 피사체 거리 등에 영향을 받고, 사진 촬영에서 피사계 심도에 비해 덜 중요하지만 소형 카메라나 영화 촬영에서는 고려해야 할 요소이며, 천문학에서는 파면 오차를 기준으로 다르게 정의된다.
잠상 | |
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기본 정보 | |
정의 | 빛에 노출된 감광 물질에 의해 생성된 보이지 않는 이미지 |
형성 과정 | 감광 물질이 빛에 노출되면 화학적 또는 물리적 변화가 일어나 잠상이 형성됨 |
가시화 | 현상 과정을 통해 잠상이 가시적인 이미지로 변환됨 |
중요성 | 사진, 영화, 방사선 촬영 등 다양한 이미징 기술의 핵심 단계 |
사진술에서의 잠상 | |
설명 | 사진술에서 잠상은 빛에 노출된 후, 하지만 아직 현상되지 않은 사진 필름이나 인화지에 존재하는 보이지 않는 이미지 |
형성 원리 | 빛이 할로겐화 은 결정에 닿으면 은 이온이 중성의 은 원자로 환원되어 잠상을 형성 |
현상 과정 | 현상액은 잠상의 은 원자를 더 많은 은 원자로 변환시켜 이미지를 증폭시키고, 가시적인 이미지를 생성 |
예시 | 사진 촬영 시 필름에 기록되는 이미지, X선 촬영 시 필름에 기록되는 이미지 |
디지털 이미징에서의 잠상 | |
설명 | 디지털 이미징에서 잠상은 이미지 센서에 기록된 전기적 신호 |
형성 원리 | 빛이 이미지 센서의 광다이오드에 닿으면 전자가 생성되어 전하 형태로 저장됨 |
처리 과정 | 저장된 전하량은 디지털 값으로 변환되어 이미지 데이터를 생성 |
예시 | 디지털 카메라로 촬영한 사진, 의료용 디지털 이미징 시스템에서 생성된 이미지 |
기타 이미징 기술에서의 잠상 | |
방사선 촬영 | X선이나 다른 형태의 방사선에 노출된 후, 하지만 아직 현상되지 않은 방사선 필름에 존재하는 보이지 않는 이미지 |
전자 현미경 | 전자 빔에 노출된 후, 기록 매체에 형성되는 보이지 않는 이미지 |
홀로그래피 | 간섭 패턴 형태로 기록 매체에 저장되는 보이지 않는 이미지 |
2. 형성 메커니즘
잠상은 빛이 분자 내 원자의 전하를 변화시킬 때 형성된다. 예를 들어 브롬을 할로겐화물로 사용하면, 빛이 할로겐화 은 분자에 닿을 때 할로겐화물의 전하가 음전하에서 중성으로 바뀌면서 전자가 방출되고, 이 전자는 은의 전하를 양전하에서 중성으로 바꾼다.[1]
2. 1. 거니-모트 이론
빛이 유제 내의 할로겐화 은 입자에 작용하면 입자 내에 금속성 은의 부위가 형성된다. 이러한 현상이 일어나는 기본적인 메커니즘은 1938년 R. W. 거니와 N. F. 모트가 처음 제안했다. 들어오는 광자는 할로겐화 은 결정에서 광전자로 불리는 전자를 방출한다. 광전자는 얕은 전자 포획 부위(감광 부위)로 이동하여 전자가 은 이온을 환원시켜 금속성 은 반점을 형성한다. 양의 전자 정공도 생성되지만, 이는 거의 무시된다. 이후의 연구에서 이 그림이 약간 수정되어 "정공" 포획도 고려되었다(Mitchell, 1957). 그 이후, 감광 및 잠상 형성 메커니즘에 대한 이해가 크게 향상되었다.[1]잠상은 빛이 분자 내 원자의 전하를 변화시킬 때 형성된다. 예시에서 브롬을 할로겐화물로 사용하면 빛이 할로겐화 은 분자에 닿을 때 할로겐화물의 전하가 음전하에서 중성으로 바뀌면서 전자가 방출되고, 이 전자는 은의 전하를 양전하에서 중성으로 바꾼다.[1]
2. 2. 추가 연구
빛이 유제 내의 할로겐화 은 입자에 작용하면 입자 내에 금속성 은의 부위가 형성된다. 이러한 현상이 일어나는 기본적인 메커니즘은 1938년 R. W. 거니와 N. F. 모트에 의해 처음 제안되었다. 들어오는 광자는 할로겐화 은 결정에서 광전자로 불리는 전자를 방출한다. 광전자는 얕은 전자 포획 부위(감광 부위)로 이동하여 전자가 은 이온을 환원시켜 금속성 은 반점을 형성한다. 양의 전자 정공도 생성되어야 하지만, 이는 거의 무시된다. 이후의 연구에서 이 그림이 약간 수정되어 "정공" 포획도 고려되었다(Mitchell, 1957). 그 이후, 감광 및 잠상 형성 메커니즘에 대한 이해가 크게 향상되었다.[1]잠상은 빛이 분자 내 원자의 전하를 변화시킬 때 형성된다. 예시에서 브롬을 할로겐화물로 사용하면 빛이 할로겐화 은 분자에 닿을 때 할로겐화물의 전하가 음전하에서 중성으로 바뀌면서 전자가 방출되고, 이 전자는 은의 전하를 양전하에서 중성으로 바꾼다.[1]
3. 사진 감도
사진 감도를 높이는 방법에는 전자 트랩 조작, 금 감광, 광공 분리 등이 있다. 전자 트랩 조작은 결정 내 얕은 전자 트랩을 만들어 광전자가 잠상 중심으로 모이게 한다. 금 감광은 결정 표면에 금 반점을 생성하여 잠상 형성을 돕고, 현상에 필요한 은 원자 수를 줄인다. 광공 분리는 광전자와 광공의 재결합 확률을 낮춰 감광 효율을 높인다.
반면에 깊은 전자 트랩이나 재결합을 쉽게 하는 곳은 광전자와 경쟁하므로 감도를 감소시킨다. 그러나 이러한 조작은 유제의 명암비를 향상시키는 데 사용되기도 한다.[1]
3. 1. 전자 트랩 조작
사진 감도를 높이는 매우 중요한 방법 중 하나는 각 결정 내의 전자 트랩을 조작하는 것이다. 순수하고 결함이 없는 결정은 잠상 형성을 용이하게 하는 얕은 전자 트랩이 없기 때문에 사진 감도가 낮다. 이러한 경우, 많은 광전자가 은 할로겐화물 결정과 재결합하여 소모된다. 얕은 전자 트랩은 황 감광, 결정 결함(가장자리 전위)의 도입, 그리고 미량의 비은 염을 도핑제로 혼합하여 생성된다. 얕은 트랩의 위치, 종류 및 수는 광전자가 잠상 중심을 생성하는 효율, 따라서 사진 감도에 엄청난 영향을 미친다.3. 2. 금 감광
사진 감도를 높이는 매우 중요한 방법 중 하나는 현상 가능한 잠상의 임계 크기를 줄이는 것이다. 코즐로프스키의 금 감광은 결정 표면에 금속 금 반점을 생성하며, 이것만으로는 결정을 현상 가능하게 만들지 않는다. 잠상이 금 반점 주위에 형성되면, 금의 존재는 결정을 현상 가능하게 만드는 데 필요한 금속 은 원자의 수를 줄이는 것으로 알려져 있다.[1]3. 3. 광공 분리
사진 감도를 높이는 매우 중요한 방법 중 하나는 광공을 광전자 및 감광 부위로부터 분리하는 것이다. 이는 재결합 확률을 줄여야 가능하다. 환원 감광은 이러한 개념을 구현한 한 가지 방법이다. 최근의 2전자 감광 기술도 이 개념을 기반으로 한다. 그러나 광공의 행동에 대한 과학적 이해는 광전자의 행동에 대한 이해보다 제한적이다.[1]4. 상반칙 불궤 (Reciprocity Law Failure)
상반칙 불궤(Reciprocity Law Failure)는 조도와 노출 시간의 곱인 노출량이 같아도, 조도(및 노출 시간)가 변하면 이미지 농도가 다르게 나타나는 현상이다.
상반칙 불궤에는 고강도 상반칙 불궤(HIRF)와 저강도 상반칙 불궤(LIRF) 두 가지가 있으며, 모두 잠상 중심을 생성하기 위한 광전자 활용 효율이 낮다는 공통점을 지닌다.
4. 1. 고강도 상반칙 불궤 (HIRF)
고강도 상반칙 불궤(HIRF)는 플래시 튜브와 같이 강렬하지만 짧은 빛에 결정이 노출될 때 흔히 발생한다. 이는 사진 속도와 콘트라스트를 감소시킨다. 이는 오래된 에멀젼 기술을 사용하여 장시간 노출에 가장 민감하도록 최적화된 에멀젼에서 흔히 발생한다.[1]HIRF는 작은 크기로 인해 현상할 수 없는 많은 잠재적인 부분 이미지가 생성되기 때문에 발생한다. 짧고 강렬한 노출로 인해 많은 광전자가 동시에 생성된다. 이는 하나 또는 소수의 잠재적 이미지(결정을 현상할 수 있음)가 아닌 많은 잠재적 부분 이미지(결정을 현상할 수 없음)를 만든다.[1]
HIRF는 임시적인 깊은 전자 트랩을 생성하는 도펀트를 통합하고, 황 감광의 정도를 최적화하며, 결정 결함(가장자리 전위)을 도입하여 개선할 수 있다.[1]
최근 몇 년 동안 많은 사진 인쇄물이 스캐닝 레이저 노출을 통해 제작된다. 사진 용지의 각 위치는 매우 짧지만 강렬한 레이저에 의해 노출된다. HIRF로 인한 문제는 이러한 제품 개발의 주요 기술적 과제였다. 컬러 사진 용지는 일반적으로 매우 높은 비율의 염화은(약 99%)으로 만들어지며 나머지는 브롬화물 및/또는 요오드화물이다. 염화물 에멀젼은 특히 HIRF가 좋지 않으며 일반적으로 LIRF로 어려움을 겪는다. 제지 제조업체는 이 새로운 응용 분야에서 HIRF를 개선(사실상 제거)하기 위해 도펀트와 전위 위치를 정밀하게 제어한다.[1]
4. 2. 저강도 상반칙 불궤 (LIRF)
저강도 상반칙 불궤(LIRF)는 천체 사진과 같이 오랜 시간 동안 약한 빛에 결정이 노출될 때 발생한다.LIRF는 잠상 형성이 비효율적이기 때문에 발생하며, 이는 사진 속도를 감소시키지만 콘트라스트를 증가시킨다. 낮은 수준의 노출 조도(강도)로 인해, 단일 결정은 충분한 수의 광자를 흡수하기 위해 상당한 시간을 기다려야 할 수 있다. 안정적인 잠상 중심을 만드는 과정에서 작고 덜 안정적인 은 점이 만들어진다. 이 점을 더 크고 안정적인 잠상으로 성장시키기 위해서는 추가적인 광전자의 생성이 필요하다. 이 중간 불안정 점이 다음 가용 광전자가 이를 안정화시키기 전에 분해될 유한한 확률이 존재한다. 이 확률은 조도 수준이 감소함에 따라 증가한다.
LIRF는 잠상 하위 이미지의 안정성을 최적화하고, 황화물 감광을 최적화하며, 결정 결함(가장자리 전위)을 도입함으로써 개선될 수 있다.
5. 잠상 위치
은염 결정에 따라 잠상은 결정 내부 또는 외부에 형성될 수 있다. 잠상이 형성되는 위치에 따라 사진 특성과 현상액에 대한 반응이 달라진다. 현재의 에멀젼 기술은 여러 가지 방법으로 이 요소를 매우 정밀하게 조작할 수 있게 해준다.[1]
각 에멀젼은 각 결정 내에 잠상이 우선적으로 형성되는 위치를 가지고 있으며, 이를 "감광 중심"이라고 부른다. 잠상을 내부에서 형성하는 에멀젼을 내부 감광 에멀젼, 표면에서 잠상을 형성하는 에멀젼을 표면 감광 에멀젼이라고 한다. 감광 유형은 잠상을 효과적으로 형성하는 매우 얕은 전자 트랩의 위치를 주로 반영한다.[1]
직접 포지티브 에멀젼과 같은 다른 응용 분야를 위해 다른 구조의 에멀젼이 만들어졌다. 직접 포지티브 에멀젼은 에멀젼의 핵심에 안개 중심이 내장되어 있으며, 노출 시 생성된 광공에 의해 표백된다. 이러한 유형의 에멀젼은 반전 처리를 거치지 않고 기존의 현상액으로 현상할 때 포지티브 이미지를 생성한다.
5. 1. 내부 감광 에멀젼
은염 결정에 따라 잠상은 결정 내부 또는 외부에 형성될 수 있다. 잠상이 형성되는 위치에 따라 사진 특성과 현상액에 대한 반응이 달라진다. 현재의 에멀젼 기술은 여러 가지 방법으로 이 요소를 매우 정밀하게 조작할 수 있게 해준다.각 에멀젼은 각 결정 내에 잠상이 우선적으로 형성되는 위치를 가지고 있다. 이를 "감광 중심"이라고 부른다. 잠상을 내부에서 형성하는 에멀젼을 내부 감광 에멀젼이라고 한다. 감광 유형은 잠상을 효과적으로 형성하는 매우 얕은 전자 트랩의 위치를 주로 반영한다.[1]
대부분의 구형 기술의 네거티브 필름 에멀젼은 의도치 않게 생성된 많은 가장자리 전위 부위(및 기타 결정 결함)를 내부에 가지고 있었고, 황 감광 처리는 결정 표면에서 수행되었다. 여러 감광 중심이 존재했기 때문에 에멀젼은 내부 감광성과 표면 감광성을 모두 가지고 있었다. 즉, 광전자는 여러 감광 중심 중 하나로 이동할 수 있었다. 이러한 에멀젼의 최대 감도를 활용하기 위해, 일반적으로 현상액이 내부 잠상 부위에 접근할 수 있도록 약간의 할로겐화 은 용해 작용을 가져야 한다고 여겨졌다.[1]
5. 2. 표면 감광 에멀젼
은염 결정에 따라 잠상은 결정 내부 또는 외부에 형성될 수 있다. 잠상이 형성되는 위치에 따라 사진 특성과 현상액에 대한 반응이 달라진다. 현재의 에멀젼 기술은 여러 가지 방법으로 이 요소를 매우 정밀하게 조작할 수 있게 해준다.[1]각 에멀젼은 각 결정 내에 잠상이 우선적으로 형성되는 위치를 가지고 있다. 이를 "감광 중심"이라고 부른다. 잠상을 표면에서 형성하는 에멀젼을 표면 감광 에멀젼이라고 한다.[1] 감광 유형은 잠상을 효과적으로 형성하는 매우 얕은 전자 트랩의 위치를 주로 반영한다.[1]
대부분의 구형 기술의 네거티브 필름 에멀젼은 의도치 않게 생성된 많은 가장자리 전위 부위(및 기타 결정 결함)를 내부에 가지고 있었고, 황 감광 처리는 결정 표면에서 수행되었다. 여러 감광 중심이 존재했기 때문에 에멀젼은 표면 감광성을 가지고 있었다. 즉, 광전자는 여러 감광 중심 중 하나로 이동할 수 있다.[1] 현대 네거티브 에멀젼은 결정 내부를 결함 없이 유지하면서, 충분한 수의 가장자리 전위가 의도적으로 생성되는 층을 결정 표면 바로 아래에 도입한다. 화학적 감광(예: 황 + 금 감광)은 표면에 적용된다. 결과적으로 광전자는 결정 표면 또는 그 근처의 소수의 감광 부위에 집중되어 잠상 생성 효율을 크게 향상시킨다.[1]
6. 할로겐화 은 결정의 현상
현상액은 할로겐화 은 결정을 금속 은 입자로 변환하지만, 잠상 중심을 가진 결정에만 작용한다. 모든 할로겐화 은 결정을 금속 은 입자로 변환하는 용액은 ''포깅 현상액''이라고 하며, 이는 역전 현상의 두 번째 현상액에 사용된다.[1] 이러한 변환은 전기화학적 환원에 의해 발생하며, 이 과정에서 잠상 중심은 촉매 역할을 한다.[1]
6. 1. 현상액의 환원 전위
현상액은 잠상 중심을 가진 충분히 노출된 할로겐화 은 결정을 현상할 수 있을 정도로 충분히 강한 환원 전위를 가져야 한다. 동시에, 현상액은 노출되지 않은 할로겐화 은 결정을 환원시키지 않을 정도로 충분히 약한 환원 전위를 가져야 한다.적절하게 배합된 현상액에서는, 전자가 잠상(latent image)인 은 반점만을 통해 할로겐화 은 결정에 주입된다. 따라서 현상액 ''용액''의 화학적 환원 전위(현상제의 표준 환원 전위가 아님)가 작은 금속 은 클러스터(즉, 잠상)의 페르미 에너지 준위보다 높고, 노출되지 않은 할로겐화 은 결정의 전도대보다 훨씬 낮아야 하는 것이 매우 중요하다.
일반적으로 약하게 노출된 결정은 더 작은 은 클러스터를 갖는다. 더 작은 크기의 은 클러스터는 더 높은 페르미 준위를 가지며, 따라서 현상액의 환원 전위가 증가함에 따라 더 많은 결정이 현상된다. 그러나 현상액 전위는 할로겐화 은 결정의 전도대보다 훨씬 낮아야 한다. 따라서 현상액 전위를 높여 시스템의 사진 속도를 높이는 데에는 제한이 있다. 용액의 환원 전위가 더 작은 은 클러스터를 활용할 수 있을 만큼 높게 설정되면, 어느 시점에서는 용액이 노출 여부에 관계없이 할로겐화 은 결정을 환원시키기 시작한다. 이를 포그(fog)라고 하며, 이는 할로겐화 은 결정의 비화상성(노출 비특이적) 환원에 의해 만들어진 금속 은이다. 또한 현상액 용액이 최적으로 배합될 때, 최대 사진 속도는 현상제의 선택에 매우 민감하지 않으며, 현상될 수 있는 은 클러스터의 크기에 대한 제한이 존재한다는 것이 밝혀졌다.
이 문제를 개선하는 한 가지 방법은 Koslowski의 금 감광 기술을 사용하는 것이다. 결정의 현상을 방지할 수 있을 정도로 충분히 높은 페르미 준위를 가진 작은 금속 금 클러스터를 사용하여, 결정을 현상 가능하게 할 수 있는 금속 은 클러스터의 임계 크기를 줄인다.
자세한 내용은 Tani 1995 및 Hamilton 1988을 참조하십시오.
6. 2. 포그 (Fog)
현상액은 잠상 중심을 가진 충분히 노출된 할로겐화 은 결정을 현상할 수 있을 정도로 충분히 강한 환원 전위를 가져야 한다. 동시에, 현상액은 노출되지 않은 할로겐화 은 결정을 환원시키지 않을 정도로 충분히 약한 환원 전위를 가져야 한다.일반적으로 약하게 노출된 결정은 더 작은 은 클러스터를 갖는다. 더 작은 크기의 은 클러스터는 더 높은 페르미 준위를 가지며, 따라서 현상액의 환원 전위가 증가함에 따라 더 많은 결정이 현상된다. 그러나 현상액 전위는 할로겐화 은 결정의 전도대보다 훨씬 낮아야 한다. 따라서 현상액 전위를 높여 시스템의 사진 속도를 높이는 데에는 제한이 있다. 용액의 환원 전위가 더 작은 은 클러스터를 활용할 수 있을 만큼 높게 설정되면, 어느 시점에서는 용액이 노출 여부에 관계없이 할로겐화 은 결정을 환원시키기 시작한다. 이를 '''포그(fog)'''라고 하며, 이는 할로겐화 은 결정의 비화상성(노출 비특이적) 환원에 의해 만들어진 금속 은이다.
7. 잠상의 안정성
일반적인 조건에서 잠상은 각 할로겐화은 입자 위에 몇 개의 금속 은 원자만큼 작을 수 있으며, 수개월 동안 안정적이다. 이후의 현상을 통해 가시적인 금속 이미지를 드러낼 수 있다. S. A. 안드레의 1897년 북극 열기구 탐험에서 닐스 스트린드베리가 찍은 사진은 잠상 안정성의 좋은 예시이다.
7. 1. S. A. 안드레의 북극 탐험 사진
닐스 스트린드베리가 찍은 사진은 S. A. 안드레의 불운한 1897년 북극 열기구 탐험에서 찍은 것으로, 잠상의 안정성을 보여주는 유명한 예시이다. 이 사진들은 탐험대가 얼음 위에 좌초된 지 약 33년 후에 발견되어 현상되었다.8. 잠상의 이용
잠상은 공정 과정 중에 나타나기도 하고, 잠상 그 자체를 이용하기도 한다. 현대에는 특히 보안 분야에서 잠상을 활용하는 사례와 연구가 많다.[1]
아부리다시나 투시 또한 잠상의 일종이며, 소설, 특히 추리 소설이나 스파이물에서 비밀스러운 은신처를 묘사할 때 자주 사용된다.
8. 1. 사진
잠상은 주로 사진 용어로서, 현상 전의 감광된 필름이나 인화지 위에 존재하는, 광화학 반응이 끝난 물질이 그리는 화상을 가리킨다. 흑백 필름의 경우, 도포된 무색의 브롬화은이 감광하면 미량의 은이 석출되어 잠상핵이 된다. 이 은은 육안으로 확인할 수 없으며, 가시화하려면 현상이 필요하다.[1]8. 2. 인쇄
주로 위조 방지 기술로서, 형광안료에 의한 화상을 가시광선에서는 동색조의 비형광 안료에 겹쳐서 인쇄하고, 암소에서 자외선으로 현상화시키는 형광 잠상이 종래부터 이용되어 왔다. 이 외에도, 자기를 띤 잉크를 사용하여 철가루로 현상화되는 것, 축광성 안료(야광 안료)나 감열 발색 잉크에 의한 것 등이 있다.[1]8. 3. 화폐 및 지폐
2000년에 발행된 2000엔 지폐에는 고도의 인쇄 기술을 이용한 잠상이 도입되었다. 이 지폐에는 보는 각도에 따라 앞면에서는 「2000」 등의 금액이, 뒷면에서는 「NIPPON」이라는 문자가 나타난다. 2004년부터는 1000엔 지폐 E호권, 5000엔 지폐 E호권, 10000엔 지폐 E호권에도 동일한 기술이 사용되었다.8. 3. 1. 500원 동전
2000년(헤이세이 12년)에 발행이 시작된 500엔 니켈 황동화에는, 뒷면의 0 부분에 보는 각도에 따라 「500엔」의 문자가 세로로 떠오르는 잠상이 장착되어 있었다. 2021년(레이와 3년)부터 발행 시작된 500엔 바이컬러 클래드 화폐에서는, 잠상의 문자가 「500엔」에서 「JAPAN」과 「500YEN」으로 변경되었다. 영국의 2 파운드 동전 등 세계에서도 도입하는 나라가 늘고 있다.8. 3. 2. 지폐
2000년(헤이세이 12년)에 발행이 시작된 500엔 니켈 황동화 뒷면의 숫자 '0' 부분에는 보는 각도에 따라 「500엔」이라는 문자가 세로로 나타나는 잠상이 적용되었다. 2021년(레이와 3년)부터 발행된 500엔 바이컬러 클래드 화폐에서는 이 잠상 문자가 「500엔」에서 「JAPAN」과 「500YEN」으로 변경되었다. 영국의 2 파운드 동전 등 세계 여러 나라에서도 이러한 잠상 기술을 도입하고 있다.2000엔 지폐에도 이와 동일한 잠상 기술이 적용되었는데, 앞면에서는 보는 각도에 따라 「2000」 등의 금액이, 뒷면에서는 「NIPPON」이라는 문자가 나타난다. 이후 2004년(헤이세이 16년)부터 발행된 1000엔 지폐 E호권, 5000엔 지폐 E호권, 10000엔 지폐 E호권에도 같은 기술이 사용되었다.
8. 4. 신분 증명서 및 각종 면허증
신분 증명서, 각종 면허증 및 면장, 자격증류에는 위조 변조 방지를 위해 투시나 홀로그램과 병용하는 형태로 잠상이 사용되는 경우가 있다.8. 5. 복사기
PPC복사기는 감광 드럼 표면에 원고의 농담에 따라 정전기를 대전시키고 토너를 흡착시킨다. 이때 전압의 고저가 정전 인력의 강약이 되어 농담이 형성된다. 이 과정에서 정전기에 의한 영상이 잠상, 토너의 흡착(또는 그것에 의한 인쇄)이 현상화가 된다.[1]8. 6. 복사 식별 용지
원고를 복사기로 복제하면 '복사 금지', '복사', '무효' 등의 문자가 나타나는 안티 카피 기술이 있다. 이는 주민등록등본이나 호적 관계 증명서 등 관공서가 발행하는 증명서처럼 위조나 변조를 방지할 필요가 있는 서류에 사용되어, 복사물과 원본을 쉽게 구별할 수 있게 한다. 기술적으로는, 원고의 그림과 바탕이 각각 가는 선과 가는 점으로 그려져 있지만 시각적으로는 동일한 농도로 보여 눈에 띄지 않다가, 복사기의 특성 때문에 복사 후에는 다른 농도로 보이게 된다. 이 경우 원고에 인쇄된 패턴이 잠상이고, 복사 결과로 인해 눈에 띄게 된 것이 현상화라고 할 수 있다.8. 7. 기타
잠상은 공정 도중에 나타나거나 잠상 자체를 이용하는 경우가 있다. 현대에는 특히 보안 분야에서 활용되는 사례와 연구가 많다.; 사진
사진 용어로서 잠상은 현상 전의 감광된 필름이나 인화지 위에 존재하는, 광화학 반응을 마친 물질이 그리는 화상을 의미한다. 흑백 필름의 경우, 브롬화은이 감광하면 미량의 은이 석출되어 잠상핵이 된다. 이 은은 육안으로 확인이 불가능하며, 현상을 통해 가시화해야 한다.
; 인쇄
주로 위조 방지 기술로 사용되며, 형광안료를 사용한 화상을 가시광선에서는 같은 색조의 비형광 안료와 겹쳐 인쇄하고, 어두운 곳에서 자외선으로 현상하는 형광 잠상이 이용된다. 이 외에도 자기 잉크를 사용하여 철가루로 현상하거나, 축광성 안료(야광 안료)나 감열 발색 잉크를 사용하는 방법 등이 있다.
; 화폐·지폐
2000년에 발행된 500엔 니켈 황동화에는 뒷면의 숫자 0 부분에 보는 각도에 따라 「500엔」 문자가 세로로 나타나는 잠상이 적용되었다. 2021년부터 발행된 500엔 바이컬러 클래드 화폐에서는 잠상 문자가 「500엔」에서 「JAPAN」과 「500YEN」으로 변경되었다. 영국의 2 파운드 동전 등 세계 여러 나라에서 도입하고 있다. 지폐의 경우, 2000년부터 발행된 2000엔 지폐에 고도의 인쇄 기술을 통해 잠상이 도입되었다. 앞면에서는 각도에 따라 「2000」 등의 금액이, 뒷면에서는 「NIPPON」 문자가 나타난다. 2004년부터는 1000엔 지폐 E호권, 5000엔 지폐 E호권, 10000엔 지폐 E호권에도 같은 기술이 적용되었다.
; 신분 증명서·각종 면허증 및 면장, 자격증
위조 및 변조 방지를 위해 투시나 홀로그램과 함께 사용되는 경우가 많다.
; PPC복사기
감광 드럼 표면에 원고의 농담에 따라 정전기를 대전시켜 토너를 흡착시킨다. 전압의 차이에 의해 정전 인력의 강약이 달라져 농담이 형성된다. 이때 정전기에 의한 영상이 잠상, 토너 흡착(또는 인쇄)이 현상에 해당한다.
; 복사 식별 용지
원고를 복사기로 복제하면 「복사 금지」, 「복사」, 「무효」 등의 문자가 나타나는 복사 방지 기술이 있다. 증명서(관공서 발행 주민등록 등본이나 호적 관련 증명서 등)와 같이 위조나 변조를 막아야 하는 서류에 사용되며, 복사본과 원본을 쉽게 구별하도록 돕는다. 원본에서는 그림과 바탕이 가는 선과 점으로 그려져 시각적으로 같은 농도로 보이지만, 복사기의 특성 때문에 복사 후에는 농도가 다르게 나타난다. 이 경우 원고에 인쇄된 패턴이 잠상, 복사 결과로 눈에 띄게 된 것이 현상이다.
; 기타
소설, 특히 추리 소설이나 스파이물에서 비밀 은신처로 자주 등장한다. 아부리다시나 투시도 잠상의 일종이다.
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