사무코

1. 개요

사무코는 1979년 일본 교토에서 설립된 반도체 제조 장비 회사이다. 플라즈마 CVD 시스템 개발로 시작하여, 증착, 식각, 표면 처리 장비를 제공하며, 광전자공학 및 전자 부품 분야에서 매출의 상당 부분을 차지한다. LS-CVD, 토네이도 ICP, 보쉬 공정 등 독자적인 기술을 보유하고 있으며, 전 세계 여러 지역에 지사 및 사무소를 운영하고 있다.

2. 회사 소개

SAMCO Inc.(주식회사 사무코)는 1979년 츠지 오사무에 의해 교토시 후시미구에서 설립되었다. 초기에는 "SAMCO International, Inc."로 불렸으며, 태양 전지에 사용되는 비정질 실리콘 박막 증착을 위한 플라즈마 CVD 시스템을 개발하는 두 명의 엔지니어로 시작했다. "SAMCO"라는 이름은 "Semiconductor and Materials Company(반도체 및 재료 회사)"의 약자로, 반도체 및 재료 연구의 획기적인 발전을 이루겠다는 비전을 가지고 선택되었다.

2012년 10월까지 SAMCO의 반도체 공정 장비 판매량은 3,000대에 달했으며, 2021년 1월에는 4,000대를 돌파했다. 광전자공학 (고휘도 LED 및 레이저 응용 분야) 및 전자 부품 (전력 소자 및 SAW 소자 응용 분야) 분야에서 매출의 70%를 차지한다. 최근에는 MEMS 응용 분야뿐만 아니라 질화 갈륨(GaN) 및 탄화 규소(SiC) 기반 전력 소자 응용 분야에 대한 판매를 확대하고 있다.

3. 제품

사무코는 다음과 같은 다양한 반도체 제조 장비를 제공한다.

; 증착 장비
사무코는 플라즈마 CVD 장치, LS-CVD 장치, ALD 장치를 제공한다. 이 장비들은 다양한 박막 증착 공정에 사용된다.

; 식각 장비
사무코는 RIE 장치, ICP 식각 장치, 고속 Si 딥 에칭 장치, XeF2 드라이 에칭 장치 등을 제공한다.

; 표면 처리 장비
사무코는 다양한 표면 처리 장비를 제공한다. 플라즈마를 이용한 Aqua Plazma 클리너, 플라즈마 클리너, 자외선을 이용한 UV 오존 클리너 등이 있다.

3.1. 증착 장비

사무코는 플라즈마 CVD 장치, LS-CVD 장치, ALD 장치를 제공한다. 이 장비들은 다양한 박막 증착 공정에 사용된다.

3.2. 식각 장비

사무코는 RIE 장치, ICP 식각 장치, 고속 Si 딥 에칭 장치, XeF2 드라이 에칭 장치 등을 제공한다.

3.3. 표면 처리 장비

사무코는 다양한 표면 처리 장비를 제공한다. 플라즈마를 이용한 Aqua Plazma 클리너, 플라즈마 클리너, 자외선을 이용한 UV 오존 클리너 등이 있다.

4. SAMCO의 기술

LS-CVD(액체 소스 화학 기상 증착, Liquid Source Chemical Vapor Deposition)는 캐소드 결합 방식의 플라즈마 CVD 장치이다. SiH4에 비해 안전한 액체 원료인 테오스/TEOS^영어를 기화시켜 플라즈마 내 이온을 이용할 수 있다. 캐소드 측의 시스 전계에서 얻을 수 있는 이온 에너지를 제어함으로써 응력, 막 밀도 등을 제어하고 커버리지를 개선할 수 있다. 캐소드 방식에서는 자체 바이어스에 의한 이온 어시스트로 성막하기 때문에 애노드 방식에 비해 저온에서의 성막이 가능하다.

토네이도 ICP는 ICP 식각 장치의 핵심인 코일 부분을 3차원 구조로 만든 ICP 코일이다. 코일 배치의 자유도를 높여 고르게 균일한 플라즈마를 생성할 수 있다. GaN, GaAs, InP 등의 화합물 반도체 가공부터 Si 및 각종 금속 박막 가공이 가능하다.

보쉬 공정은 등방성 식각과 보호막 증착의 두 단계를 번갈아 반복하여 실리콘의 깊은 구멍을 고속으로, 높은 종횡비로 구현한 식각 기술이다. 식각에는 SF6, 보호막에는 C4F8가 주로 사용되며 높은 선택비를 유지하여 고이방성 식각을 가능하게 한다. 삼코는 로버트 보쉬사가 1992년에 개발한 보쉬 공정의 라이선스를, 2003년에 일본의 반도체 제조 장치 메이커로서는 처음으로 취득했다. 보쉬 공정은 가속도 센서, 자이로 센서 등의 자동차 부품 분야, μTAS 등의 의료 기기 분야, 3차원 디바이스 등의 MEMS 시장에서 폭넓게 사용되고 있다.

4.1. LS-CVD (액체 소스 화학 기상 증착)

LS-CVD(액체 소스 화학 기상 증착, Liquid Source Chemical Vapor Deposition)는 캐소드 결합 방식의 플라즈마 CVD 장치이다. SiH4에 비해 안전한 액체 원료인 테오스/TEOS^영어를 기화시켜 플라즈마 내 이온을 이용할 수 있다. 캐소드 측의 시스 전계에서 얻을 수 있는 이온 에너지를 제어함으로써 응력, 막 밀도 등을 제어하고 커버리지를 개선할 수 있다. 캐소드 방식에서는 자체 바이어스에 의한 이온 어시스트로 성막하기 때문에 애노드 방식에 비해 저온에서의 성막이 가능하다.

4.2. 토네이도 ICP

토네이도 ICP는 ICP 식각 장치의 핵심인 코일 부분을 3차원 구조로 만든 ICP 코일이다. 코일 배치의 자유도를 높여 고르게 균일한 플라즈마를 생성할 수 있다. GaN, GaAs, InP 등의 화합물 반도체 가공부터 Si 및 각종 금속 박막 가공이 가능하다.

4.3. 보쉬 공정

보쉬 공정은 등방성 식각과 보호막 증착의 두 단계를 번갈아 반복하여 실리콘의 깊은 구멍을 고속으로, 높은 종횡비로 구현한 식각 기술이다. 식각에는 SF6, 보호막에는 C4F8가 주로 사용되며 높은 선택비를 유지하여 고이방성 식각을 가능하게 한다. 삼코는 로버트 보쉬사가 1992년에 개발한 보쉬 공정의 라이선스를, 2003년에 일본의 반도체 제조 장치 메이커로서는 처음으로 취득했다. 보쉬 공정은 가속도 센서, 자이로 센서 등의 자동차 부품 분야, μTAS 등의 의료 기기 분야, 3차원 디바이스 등의 MEMS 시장에서 폭넓게 사용되고 있다.

5. 연혁

* 1979년 9월 - 반도체 제조 장치의 제조 및 판매를 목적으로 주식회사 삼코 인터내셔널 연구소를 설립
* 1981년 4월 - 일본 최초의 화합물 반도체 제조용 MOCVD 장치 개발, 판매 개시
* 1985년 6월 - 교토시 후시미구 다케다 다나카미야초 33번지(현 와라야초 36번지)에 본사 이전
* 1985년 6월 - 미국 마취 인스트루먼츠사(현 Nordson Corporation사) 제품 판매 개시
* 1987년 2월 - 미국 캘리포니아주 실리콘밸리에 옵토 필름스 연구소 개설
* 1994년 2월 - 미국 심메트릭스사의 기술을 사용한 "강유전체 성막 장치"의 제조, 판매 개시
* 1995년 7월 - 박막 기술을 사용한 특정 프론 무공해화 기술의 기본 기술 개발
* 1997년 11월 - 기린맥주 주식회사와 공동으로 플라스틱 병에 다이아몬드 라이크 카본(DLC) 막을 형성하는 기술 개발
* 2000년 1월 - 영국 캠브리지 대학교 내에 연구소 개설
* 2001년 5월 - 일본 증권업협회에 주식점두 상장
* 2001년 7월 - 대만 신주시에 대만 사무소 개설(2009년 1월 폐쇄)
* 2003년 12월 - 독일 로버트 보쉬사로부터 실리콘의 고속 딥 에칭 기술 도입
* 2004년 11월 - 중국 상하이에 상하이 사무소 개설
* 2004년 12월 - 주식회사 삼코 인터내셔널 연구소에서 삼코 주식회사로 사명 변경
* 2004년 12월 - 일본 증권업협회에 점두 등록을 취소하고, 자스닥에 주식 상장
* 2006년 9월 - 중국 칭화대학교와 나노 가공 기술 공동 연구 조인
* 2008년 8월 21일 - 실리콘 웨이퍼 주식회사 SUMCO에 대한 상표권 침해 등 금지 청구 소송에 관한 화해가 성립。
* 2008년 10월 - 대만에 보수 서비스를 위한 현지 법인 "삼코 글로벌 서비스(莎姆克股分有限公司)"를 설립
* 2009년 1월 - "삼코 글로벌 서비스(莎姆克股分有限公司)"가 영업 개시
* 2010년 8월 - 미국 노스캐롤라이나주에 미국 동부 사무소 개설
* 2010년 9월 - 중국 베이징시에 베이징 사무소 개설
* 2012년 5월 - 베트남 호치민시에 베트남 서비스 오피스 개설
* 2013년 7월 24일 - 도쿄 증권 거래소 제2부에 시장 변경。
* 2014년 1월 9일 - 도쿄 증권 거래소 제1부 종목으로 지정。
* 2014년 5월 - 리히텐슈타인 공국 UCP Processing Ltd.의 주식 90%를 취득하여 자회사화(samco-ucp AG로 사명 변경)
* 2015년 9월 - 공모 증자를 통해 자본금을 16억 6,368만 엔으로 증자
* 2015년 12월 - 스웨덴 Epiluvac AB와 SiC 에피택셜 성막 장치의 판매 대리점 계약을 체결 전자 디바이스용 원자층 증착 장치 AL-1 개발·판매 개시
* 2016년 6월 - 제2 생산 기술동(교토시 후시미구)이 완성
* 2016년 8월 - 말레이시아에 말레이시아 사무소 개설
* 2016년 9월 - Aqua Plasma를 사용한 플라즈마 세척 장치 AQ-2000 개발, 판매 개시
* 2018년 12월 - 범용 ICP 에칭 장치 RIE-200iPN 판매 개시
* 2020년 7월 - 제2 생산 기술동 내에 CVD 장치의 데모룸 개설
* 2021년 12월 - 전자 디바이스 제조용 클러스터 툴 시스템 "클러스터 H™" 판매 개시
* 2022년 3월 - 제2 연구 개발동 내에 나노 박막 개발 센터를 설립
* 2022년 4월 - 도쿄 증권 거래소의 시장 구분의 개정으로 인해 도쿄 증권 거래소 제1부에서 프라임 시장으로 이행

5.1. 1970년대 ~ 1980년대

1979년 9월, 사무코는 반도체 제조 장치 제조 및 판매를 목적으로 하는 주식회사 삼코 인터내셔널 연구소로 설립되었다. 1981년 4월에는 일본 최초로 화합물 반도체 제조용 MOCVD 장치를 개발하여 판매하기 시작했다. 1985년 6월, 본사를 교토시 후시미구로 이전하고, 같은 해 미국 마취 인스트루먼츠사(현 Nordson Corporation사) 제품 판매를 개시했다. 1987년 2월에는 미국 캘리포니아주 실리콘밸리에 옵토 필름스 연구소를 개설했다.

5.2. 1990년대 ~ 2000년대

1994년 2월, 사무코는 미국 심메트릭스사의 기술을 사용하여 "강유전체 성막 장치" 제조 및 판매를 시작했다. 1995년 7월에는 박막 기술을 활용한 특정 프론 무공해화 기술의 기본 기술을 개발했고, 1997년 11월에는 기린맥주와 공동으로 플라스틱 병에 다이아몬드 라이크 카본(DLC) 막을 형성하는 기술을 개발했다.

2000년 1월, 사무코는 영국 캠브리지 대학교 내에 연구소를 개설했다. 2001년 5월에는 일본 증권업협회에 주식을 상장했으며, 같은 해 7월 대만 신주시에 대만 사무소를 개설했다가 2009년 1월 폐쇄했다. 2003년 12월에는 독일 로버트 보쉬사로부터 실리콘 고속 딥 에칭 기술을 도입했다.

2004년 11월, 중국 상하이에 상하이 사무소를 개설했고, 같은 해 12월, 회사명을 주식회사 삼코 인터내셔널 연구소에서 삼코 주식회사로 변경했다. 또한 일본 증권업협회 점두 등록을 취소하고 자스닥에 주식을 상장했다.

2006년 9월, 사무코는 중국 칭화대학교와 나노 가공 기술 공동 연구에 조인했다. 2008년 8월 21일에는 SUMCO에 대한 상표권 침해 등 금지 청구 소송에 관한 화해가 성립되었다. 2008년 10월, 대만에 보수 서비스를 위한 현지 법인 "삼코 글로벌 서비스"를 설립하고 2009년 1월부터 영업을 시작했다.

5.3. 2010년대 이후

2010년 8월 미국 노스캐롤라이나주에 미국 동부 사무소를 개설하고, 9월에는 중국 베이징시에 베이징 사무소를 개설했다. 2012년 5월에는 베트남 호치민시에 베트남 서비스 오피스를 개설했다. 2013년 7월 24일 도쿄 증권 거래소 제2부에 상장되었으며, 2014년 1월 9일 도쿄 증권 거래소 제1부 종목으로 지정되었다. 2014년 5월, 리히텐슈타인 공국의 UCP Processing Ltd.의 주식 90%를 취득하여 자회사(samco-ucp AG)로 만들었다.

2015년 9월 공모 증자를 통해 자본금을 16억 6,368만 엔으로 증자했다. 같은 해 12월, 스웨덴 Epiluvac AB와 SiC 에피택셜 성막 장치의 판매 대리점 계약을 체결하고, 전자 디바이스용 원자층 증착 장치 AL-1을 개발 및 판매하기 시작했다. 2016년 6월에는 제2 생산 기술동(교토시 후시미구)을 완공하고, 8월에는 말레이시아에 말레이시아 사무소를 개설했다. 2016년 9월에는 Aqua Plasma를 사용한 플라즈마 세척 장치 AQ-2000을 개발, 판매하기 시작했다.

2018년 12월, 범용 ICP 에칭 장치 RIE-200iPN 판매를 개시했다. 2020년 7월에는 제2 생산 기술동 내에 CVD 장치의 데모룸을 개설했으며, 2021년 12월에는 전자 디바이스 제조용 클러스터 툴 시스템 "클러스터 H™" 판매를 개시했다. 2022년 3월에는 제2 연구 개발동 내에 나노 박막 개발 센터를 설립하고, 4월에는 도쿄 증권 거래소의 시장 구분 개정에 따라 도쿄 증권 거래소 제1부에서 프라임 시장으로 이행했다.

6. 거점

사무코는 교토시 후시미구에 연구 개발 센터, 제품 서비스 센터, 생산 기술 연구동, 제2 연구 개발동, 제2 생산 기술동, 서일본 영업부를 두고 있다. 도쿄도 시나가와구 니시-고탄다에는 동일본 영업부가, 나고야시 메이토구 호가오카에는 도카이 지점이 있다. 이바라키현 쓰쿠바시 아즈마에는 쓰쿠바 영업소가 위치한다.

사무코는 해외 여러 지역에 지사 및 사무소를 두고 있다. 미국 캘리포니아주에는 옵토 필름스 연구소가 있으며, 뉴저지주에는 이스트 코스트 오피스가 있다. 중국에는 상하이 사무소와 베이징 사무소가 있다. 대한민국 경기도 수원시에는 한국 사무소가 있으며, 이 외에도 싱가포르, 말레이시아, 베트남에 지점 및 서비스 오피스를 운영하고 있다.

6.1. 일본

사무코는 교토시 후시미구에 연구 개발 센터, 제품 서비스 센터, 생산 기술 연구동, 제2 연구 개발동, 제2 생산 기술동, 서일본 영업부를 두고 있다. 도쿄도 시나가와구 니시-고탄다에는 동일본 영업부가, 나고야시 메이토구 호가오카에는 도카이 지점이 있다. 이바라키현 쓰쿠바시 아즈마에는 쓰쿠바 영업소가 위치한다.

6.2. 해외

사무코는 해외 여러 지역에 지사 및 사무소를 두고 있다. 미국 캘리포니아주에는 옵토 필름스 연구소가 있으며, 뉴저지주에는 이스트 코스트 오피스가 있다. 중국에는 상하이 사무소와 베이징 사무소가 있다. 대한민국 경기도 수원시에는 한국 사무소가 있으며, 이 외에도 싱가포르, 말레이시아, 베트남에 지점 및 서비스 오피스를 운영하고 있다. 또한, 리히텐슈타인의 루겔에는 samco-ucp ltd.가 있다.

6.3. 대만 현지 법인 (삼코 글로벌 서비스)

사무코는 대만에 신주 본사와 타이난 서비스 오피스를 두고 있다. 신주 본사는 17F-8 Empire Commercial Bldg. 295 Kuang-Fu Rd., Sec. 2 Hsinchu 300 Taiwan, R.O.C.에 위치해 있으며, 타이난 서비스 오피스는 1F, Room No. 107, 19 International Road, Sinshih Township, Tainan County, Taiwan, R.O.C.에 위치해 있다.