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엑시머 레이저

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1. 개요

엑시머 레이저는 여기된 이량체(excimer) 또는 여기된 착물(exciplex)을 이용하는 레이저로, 자외선 영역의 빛을 생성한다. 1960년대에 제안되어 1970년대에 개발이 시작되었으며, 아르곤, 크립톤, 크세논 등의 비활성 기체와 플루오린, 염소 등의 할로겐을 혼합하여 사용한다. 엑시머 레이저는 마이크로일렉트로닉스 소자 제조의 포토리소그래피, 의료 분야의 시력 교정 수술, 과학 연구, 핵융합 연구 등 다양한 분야에서 활용된다. 특히, 엑시머 레이저 리소그래피는 반도체 기술 발전에 크게 기여했으며, 의료 분야에서는 정밀 수술과 피부 질환 치료에 사용된다.

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엑시머 레이저
엑시머 레이저
엑시머 레이저 개략도
엑시머 레이저의 개략도
기본 정보
유형자외선 기체 레이저
작동 매질희가스 할로겐
일반적인 작동 파장157 nm ~ 351 nm
일반적인 맥박 에너지수백 mJ
일반적인 맥박 지속 시간수 ns
일반적인 평균 출력수십 W ~ 수백 W
작동 원리
활성 매질희가스 (예: 아르곤, 크립톤, 제논) 및 할로겐 (예: 불소, 염소)의 혼합 기체
여기방전에 의한 여기
레이저 광 방출엑시머 (여기된 이량체) 형성 및 붕괴를 통한 자외선 방출
특징
파장짧은 파장자외선
맥박맥박 형태의 빛 방출
에너지높은 광자 에너지
특성고출력, 고효율, 정밀한 레이저 가공 가능
활용 분야
반도체 산업리소그래피 공정에서 반도체 회로를 만드는 데 사용
마이크로머시닝다양한 재료의 정밀 가공
의료 분야라식 수술과 같은 안과 수술
피부과 치료
심혈관 수술
과학 연구분광학, 화학 반응 연구 등에 사용
기타레이저 어블레이션, 표면 처리, 박막 증착
안전
주의 사항자외선에 대한 노출은 눈과 피부에 해로울 수 있음
안전 장비 (보안경, 보호복) 사용 필수

2. 용어 및 역사

"엑시머(excimer)"는 "여기된 이량체(excited dimer)"를 줄인 말이며, "엑시플렉스(exciplex)"는 "여기된 착물(excited complex)"을 줄인 말이다. 대부분의 엑시머 레이저는 비활성 기체 할라이드 유형이며, 이 경우 "엑시머"라는 용어는 엄밀히 말하면 잘못된 용어이다. (덜 일반적으로 사용되지만, 이러한 유형에 대한 적절한 용어는 '''엑시플렉스 레이저'''이다.)[1]

엑시머 레이저는 1960년 프리츠 하우터만스(Fritz Houtermans)에 의해 제안되었다. 1971년 니콜라이 바소프(Nikolai Basov), V. A. Danilychev, Yu. M. Popov이 모스크바레베데프 물리학 연구소에서 액체 크세논 이량체(Xe2)를 전자 빔으로 여기시켜 176 나노미터(nm)에서 초기 스펙트럼 선폭 좁아짐을 관찰하였다.[2] 1972년 H.A. Koehler 등은 고압 크세논 가스를 사용하여 유도 방출에 대한 더 나은 근거를 제시했다.[3] 1973년 3월, 마니랄 바우믹(Mani Lal Bhaumik)이 12기압의 고압 가스를 사용하고 전자 빔으로 여기시킨 173nm에서의 크세논 엑시머 레이저 작동에 대한 결정적인 증거를 제시하였다.[4][5][6] 1975년, 여러 그룹이 비활성 기체 할로겐화물 (원래 크세논(Xe) 브롬(Br))을 사용한 엑시머 레이저를 개발하였다.[7]

3. 작동 원리 및 구조

엑시머 레이저는 일반적으로 비활성 기체(아르곤, 크립톤, 또는 크세논)와 반응성 기체(플루오린 또는 염소)의 조합을 사용한다. 적절한 전기 자극 및 고압 조건에서 엑시머(또는 비활성 기체 할라이드의 경우 엑시플렉스)라고 하는 준분자가 생성되는데, 이는 에너지화된 상태에서만 존재할 수 있으며 자외선 영역에서 레이저 광을 생성할 수 있다.[15][16]

엑시머 분자에서의 레이저 작동은 결합된(결합성) 여기 상태를 가지지만, 반발성(해리성) 바닥 상태를 가지기 때문이다. 크세논과 크립톤과 같은 비활성 기체는 매우 비활성하여 일반적으로 화합물을 형성하지 않는다. 그러나 여기 상태(전기 방전 또는 고에너지 전자빔에 의해 유도됨)일 때, 이들은 자신들(엑시머) 또는 플루오린염소와 같은 할로겐(엑시플렉스)과 일시적으로 결합된 분자를 형성할 수 있다. 여기된 화합물은 자발적인 또는 유도 방출을 통해 과잉 에너지를 방출할 수 있으며, 이는 매우 빠르게(피코초 단위로) 두 개의 비결합 원자로 해리되는 강하게 반발적인 바닥 상태 분자를 생성한다. 이것이 반전 분포를 형성한다.

일반적으로 사용되는 비활성 기체는 아르곤, 크립톤, 크세논이며, 할로겐은 플루오린, 염소이다. 혼합 기체 내에서 펄스방전에 의해 생성되는 여기 상태의 비활성 기체 원자와 할로겐 원자에 의해 형성된 엑시머로부터의 방사광에 의해 펄스 발진한다.

대표적인 엑시머 레이저의 발진 파장은 다음과 같다.


  • Ar F - 193 nm
  • KrF - 248 nm
  • Xe Cl - 308 nm
  • XeF - 351 nm

3. 1. 파장 결정

엑시머 레이저의 파장은 사용되는 분자에 따라 달라지며, 보통 자외선 영역에 존재한다.[17]

엑시머파장 (nm)상대 출력 (mW)
Ar2*126
Kr2*146
F2*157
Xe2*172, 175
ArF19360
KrF248100
XeBr282
XeCl30850
XeF35145
KrCl22225



XeF와 KrF와 같은 엑시머 레이저는 다양한 프리즘과 회절격자 공진기 내부 배열을 사용하여 약간 ''조정''할 수 있다.[17]

3. 2. 펄스 반복률

전자빔 여기 엑시머 레이저는 높은 단일 에너지 펄스를 생성할 수 있지만, 일반적으로 수 분 간격으로 분리되어 있다. 예외적으로 관성 융합 연구를 위해 설계된 일렉트라(Electra) 시스템은 10초 동안 500J를 측정하는 10개의 펄스 버스트를 생성할 수 있었다.[18] 반대로, 해군 연구소에서 처음으로 시연된 방전 여기 엑시머 레이저는 꾸준한 펄스 흐름을 출력할 수 있다.[19][20] 1980년부터 1988년 사이에 캘리포니아 산타클라라에 있는 XMR, Inc에서 일련의 산업용 레이저가 개발되었다.[21] 생산된 레이저의 대부분은 XeCl이었으며, 초당 300펄스의 반복률에서 펄스당 1J의 지속 에너지가 표준 등급이었다. 이 레이저는 고출력 사이라트론과 코로나 예 이온화를 사용한 자기 스위칭을 사용했으며, 주요 유지보수 없이 1억 펄스로 평가되었다.

4. 주요 응용 분야

엑시머 레이저는 산업 및 의료 분야에서 다양하게 활용된다. 산업용으로는 기계 가공, 반도체 제조의 포토리소그래피, 박막 제작 방법 중 하나인 PLD(펄스 레이저 증착) 등에 사용된다.

의료 분야에서는 시력 교정(굴절 교정) 수술에 사용된다. 엑시머 레이저 광은 파장이 짧아 각막의 일부분을 정밀하게 제거할 수 있으며, 열이나 충격파가 없어 각막 조직에 악영향을 주지 않는다. 1995년 미국 식품의약국(FDA)와 2000년 일본 후생성(현 후생노동성)에서 사용이 인가되었으며, 발암성이 없는 것으로 확인되었다.

4. 1. 산업 응용

엑시머 레이저는 마이크로일렉트로닉스 소자 제조에 사용되는 핵심 기술인 심자외선 포토리소그래피에 널리 응용된다.[23][24] 1980년대 중반까지는 수은-제논 램프가 리소그래피에 사용되었으나, 반도체 산업의 고해상도 및 고처리량 요구를 충족시키기에는 한계가 있었다. 1982년 IBM의 칸티 자인이 심자외선 엑시머 레이저 리소그래피를 제안 및 시연하면서 이러한 문제가 극복되었다.[23][25][24][26]

2021년 현재, 리소그래피 장비는 주로 248nm 및 193nm 파장의 KrF 및 ArF 엑시머 레이저에서 나오는 심자외선(DUV) 광을 사용하며, 이를 통해 트랜지스터 특징 크기를 7nm까지 축소할 수 있었다.[23][25][24][30] 이처럼 엑시머 레이저 리소그래피는 무어의 법칙을 지속적으로 발전시키는 데 중요한 역할을 해왔다.[31] 그러나 2020년경부터 극자외선 리소그래피(EUV)가 반도체 회로 리소그래피 공정의 해상도를 더욱 향상시키기 위해 엑시머 레이저 리소그래피를 대체하기 시작했다.[32]

엑시머 레이저는 기계 가공이나 반도체 제조의 포토리소그래피 외에도, 박막 제작 방법 중 하나인 PLD(펄스 레이저 증착)에도 일반적으로 사용된다.

4. 2. 의료 응용

엑시머 레이저에서 나오는 자외선은 생물학적 물질과 유기 화합물에 잘 흡수된다. 엑시머 레이저는 재료를 태우거나 절단하는 대신 표면 조직의 분자 결합을 끊을 만큼 충분한 에너지를 가하여, 연소가 아닌 에이브레이션을 통해 공기 중으로 미세하게 조절된 방식으로 효과적으로 분해한다. 따라서 엑시머 레이저는 남은 재료에는 거의 열이나 변화를 주지 않고 표면 재료의 매우 미세한 층을 제거할 수 있어, 정밀한 수술에 적합하다.

1980년~1983년, IBM의 T. J. 왓슨 연구 센터에서 랑가스와미 스리니바산, 새뮤얼 블룸, 제임스 J. 와인은 자외선 엑시머 레이저가 생체 재료에 미치는 영향을 관찰했다. 그 결과 레이저가 정밀하고 깨끗한 절단을 하는 것을 발견했는데, 이는 정밀 수술에 이상적이었다. 이들은 연구 공로로 2002년 전국 발명가 명예의 전당에 선출되었고, 2012년 대통령 버락 오바마로부터 미국 기술 혁신 메달을 수상했다.[35] 이후 연구를 통해 혈관 성형술에 엑시머 레이저를 사용하는 방법이 도입되었다.[36]

  • '''시력 교정(굴절 교정) 수술''': 각막의 일부분을 정확하게 제거하여 시력을 교정하는 데 사용된다. (예: LASIK 눈 수술) 엑시머 레이저 광은 파장이 짧기 때문에 각막의 일부분을 필요한 만큼 정확하게 제거하는 것이 가능하다. 레이저는 열을 발생시키는 것이 아니고, 충격파가 없기 때문에 열에 약한 각막 조직에 악영향을 미치는 일이 없다. 따라서 엑시머 레이저를 사용한 라식 수술은 통증을 거의 수반하지 않고, 시력 회복이 빠르다는 특징이 있다. 미국에서는 1995년FDA(미국 식품의약국)에 의해, 일본에서는 2000년 1월에 후생성(현・후생노동성)에 의해 그 사용이 인가되었다. 또한, 엑시머 레이저에 발암성이 없는 것이 확인되었다.

  • '''피부 질환 치료''': 염화제논(308 nm) 엑시머 레이저는 건선, 백반증, 아토피 피부염, 원형탈모증 및 백색증을 포함한 다양한 피부 질환 치료에도 사용된다.


웨이브프런트 방법이 고차 수차를 더 잘 교정할 수 있기 때문에 기존 엑시머 레이저 굴절 수술과 웨이브프런트 유도 또는 웨이브프런트 최적화 굴절 수술 간의 안전성 및 효과 결과의 차이점을 비교하기 위한 연구가 진행되고 있다.[37] 광원으로서 엑시머 레이저는 일반적으로 크기가 크다는 단점이 의료 분야에서의 응용에 있지만, 지속적인 개발을 통해 크기가 빠르게 줄어들고 있다.

4. 3. 과학 연구

색소 레이저의 여기 광원으로, 특히 XeCl 엑시머 레이저는 파장 가변 색소 레이저(주로 스펙트럼의 청록색 영역에서 빛을 방출하는 레이저 색소 여기)의 여기 광원으로 널리 사용된다.[38][39] 엑시머 레이저는 높은 플루언스, 짧은 파장, 비연속 빔 특성으로 다양한 재료의 절삭에 이상적이기 때문에 펄스 레이저 증착 시스템에서 일반적으로 사용된다.[40]

4. 4. 핵융합 연구

미국 해군 연구소(Naval Research Laboratory)는 관성 가둠 핵융합(Inertial Confinement Fusion) 방식을 증명하기 위한 접근법을 시험하기 위해 크립톤 플루오라이드 레이저(Krypton fluoride laser, 248 nm)와 아르곤 플루오라이드 레이저(Argon fluoride laser, 193 nm) 두 시스템을 개발했다. 이것들이 바로 일렉트라(Electra)와 나이키 레이저(Nike laser) 시스템이다. 엑시머 레이저는 기체 기반 시스템이기 때문에 국립 점화 시설(National Ignition Facility)이나 레이저 에너지 연구소(Laboratory for Laser Energetics, Omega Laser)와 같은 고체 상태 시스템처럼 가열되지 않는다. 일렉트라는 10시간 동안 9만 회의 발사를 시연했는데, 이는 관성 핵융합 발전소(Inertial fusion power plant)에 이상적이다.[33]

참조

[1] 논문 Über Massen-Wirkung im optischen Spektralgebiet un die Möglichkeit absolut negativer Absorption für einige Fälle von Molekülspektren (Licht-Lawine)
[2] 논문 Stimulated emission in the vacuum ultraviolet region http://dx.doi.org/10[...] 1971-01-31
[3] 논문 Stimulated VUV emission in high-pressure xenon excited by high-current relativistic electron beams http://dx.doi.org/10[...] 1972-09-01
[4] 논문 Xe Laser Operation at 1730 Ǻ https://doi.org/10.1[...] 1973-03-01
[5] 논문 The News in Focus 1973-05-01
[6] 논문 Xenon molecular laser in the vacuum ultraviolet http://dx.doi.org/10[...] 1973-03-01
[7] 서적 Second International Symposium on Laser Precision Microfabrication 2002
[8] 논문 Laser action on the 2Σ+1/22Σ+1/2 bands of KRF and XeCl 1975
[9] 논문 100 MW, 248.4 nm, KRF laser excited by an electron beam 1975
[10] 논문 High-power xenon fluoride laser 1975
[11] 논문 Stimulated emission at 281.8 nm from XeBr 1975
[12] 논문 High efficiency microwave discharge XeCl laser 1985
[13] 문서 Microwave discharge resulted in much smaller footprint, very high pulse repetition rate excimer laser, commercialized under U. S. Patent 4,796,271 by Potomac Photonics, Inc
[14] MSc Thesis A Comprehensive Study of Excimer Lasers, Robert R. Butcher https://digitalrepos[...] University of New Mexico
[15] 백과사전 excimer laser
[16] 서적 Excimer Laser Technology Springer
[17] 서적 Tunable Lasers Handbook Academic
[18] 논문 Electra: Repetitively pulsed, 500 J, 100 ns, KRF oscillator
[19] 논문 Ultraviolet-preionized discharge-pumped lasers in XeF, KRF, and ArF 1976
[20] 문서 Original device acquired by the National Museum of American History's Division of Information Technology and Society for the Electricity and Modern Physics Collection (Acquisition #1996.0343).
[21] 문서 Personal notes of Robert Butcher, Laser Engineer at XMR, Inc.
[22] 논문 Lifetime extension of XeCl and KRCL lasers with additives 1980
[23] 논문 Ultrafast deep UV Lithography with excimer lasers https://ieeexplore.i[...] 1982
[24] 서적 "Excimer Laser Lithography" SPIE Press
[25] 논문 Deep UV exposure of Ag2Se/GeSe2utilizing an excimer laser https://ieeexplore.i[...] 1984
[26] 서적 Excimer Laser Technology 2005
[27] 웹사이트 American Physical Society / Lasers / History / Timeline http://www.laserfest[...]
[28] 보고서 SPIE / Advancing the Laser / 50 Years and into the Future http://spie.org/Docu[...] 2010-01-06
[29] 웹사이트 Lasers in Our Lives / 50 Years of Impact https://web.archive.[...] U.K. Engineering & Physical Sciences Research Council 2011-09-13
[30] 서적 "Optical Lithography" SPIE Press
[31] 웹사이트 Lasers and Moore's Law http://spie.org/x421[...] SPIE Professional 2010-10-01
[32] 웹사이트 Samsung 5 nm and 4 nm Update https://fuse.wikichi[...] WikiChip Fuse 2019-10-19
[33] 논문 High-energy krypton fluoride lasers for inertial fusion 2015
[34] 특허 Far ultraviolet surgical and dental procedures
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[36] 논문 Far-ultraviolet laser ablation of atherosclerotic lesions
[37] 논문 Wavefront excimer laser refractive surgery for adults with refractive errors 2017-01-01
[38] 서적 Dye Laser Principles Academic
[39] 서적 High Power Dye Lasers Springer
[40] 서적 Pulsed Laser Deposition of Thin Films Wiley
[41] 논문 Zh. Eksp. Fiz. i Tekh. Pis’ma. Red. 12, 473



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