전기적 탄성
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1. 개요
전기적 탄성은 1886년 올리버 헤비사이드가 처음 제안한 용어로, 정전 용량의 역수를 의미한다. 헤비사이드는 전기 회로 분석에 사용되는 임피던스, 인덕턴스 등 다양한 용어를 만들었으며, 전기적 탄성은 저항과 저항률의 모델을 따랐다. 현재는 정전 용량과 유전율이 널리 사용되지만, 전기적 탄성은 회로망 이론 분석 및 마이크로파 공학에서 가끔 활용된다. 전기적 탄성은 전압과 전하의 비율로 정의되며, 역학적 시스템과의 유추를 통해 다양한 에너지 영역에서 사용될 수 있다.
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전위는 전기장 내 단위 전하의 위치 에너지로, 정전기학에서는 기준점에 따라 정의되며 전위차만이 의미를 갖고, 전기장의 음의 기울기로 표현되고, 전기 공학에서는 회로 해석에 활용된다. - 정전기학 - 정전기 유도
정전기 유도는 대전체가 다른 물체에 접근했을 때 쿨롱의 법칙에 의해 물체 내부의 전하 분포가 변하는 현상으로, 전도체에서는 자유 전자의 이동으로 전하가 양분되지만 부도체에서는 분극 현상이 발생하며 금박 검전기, 정전기 유도 트랜지스터, 정전기 발생기 등 다양한 분야에 응용되고 유도 장애를 일으키기도 한다. - 물리량 - 전위
전위는 전기장 내 단위 전하의 위치 에너지로, 정전기학에서는 기준점에 따라 정의되며 전위차만이 의미를 갖고, 전기장의 음의 기울기로 표현되고, 전기 공학에서는 회로 해석에 활용된다. - 물리량 - 전기장
전기장은 공간의 각 지점에서 단위 전하가 받는 힘으로 정의되는 벡터장으로, 전하 또는 시간에 따라 변하는 자기장에 의해 발생하며, 전기력선으로 표현되고 맥스웰 방정식으로 기술되는 전자기장의 한 요소이다.
전기적 탄성 |
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2. 역사
올리버 헤비사이드는 1886년에 "전기적 탄성"(elastance)과 "탄성률"(elastivity)이라는 용어를 만들었다.[7] 헤비사이드는 오늘날 회로 분석에 사용되는 임피던스, 인덕턴스, 어드미턴스, 전도도 등의 용어를 만들었다. 그의 용어는 저항과 저항률의 모델을 따랐으며, 확장적 성질에는 "-ance", 집약적 성질에는 "-ivity" 접미사를 사용했다. 확장적 성질은 회로 분석에, 집약적 성질은 장 분석에 사용된다. 헤비사이드의 명명법은 장과 회로의 해당 수량 간의 연결을 강조하도록 설계되었다.[8]
탄성률은 재료의 집약적 성질이며, 유전율의 역수이다. 헤비사이드는 "유전율은 허용도를 생성하고, 탄성률은 탄성을 생성한다"고 말했다.[9] 여기서 "허용도"는 헤비사이드가 정전 용량을 부르는 용어이다. 그는 축전기가 전하를 담는 용기 역할을 한다는 것을 암시하는 모든 용어를 거부하고, "용량"(정전 용량) 및 "용량성"(축전성)과 그 역수인 "무능력"과 "무능력"에 반대했다.[10] 당시 축전기는 "콘덴서" 또는 "라이덴 병"이라고 불렸는데, 헤비사이드는 기계적 유추를 선호하여 축전기를 압축된 스프링으로 보고 스프링의 특성을 암시하는 용어를 선호했다.[12]
헤비사이드의 견해는 제임스 클러크 맥스웰의 전류에 대한 관점, 즉 전류가 기계적 힘과 유사하게 기전력에 의해 구동되는 속도와 유사하다는 관점을 따랐다. 축전기에서 전류는 "변위 전류"를 생성하며, 이 변위는 압축된 스프링의 기계적 변형과 같은 전기적 변형으로 간주되었다. 헤비사이드는 물리적인 전하 흐름과 축전기 판에서의 축적에 대한 생각을 부인하고, 변위장의 발산 개념으로 대체했다.[13]
19세기 말과 20세기 초에 일부 저자는 헤비사이드의 용어 "전기적 탄성"과 "탄성률"을 채택했다.[14] 그러나 현재는 역수어인 "정전 용량"과 "유전율"이 전기 기술자들에 의해 거의 보편적으로 선호된다. 그럼에도 불구하고, 엘라스턴스는 여전히 이론적인 작업에 가끔 사용된다. 헤비사이드는 기계적 용어와 구별하기 위해 "탄성" 대신 "탄성률"을 선택했다.[15]
헤비사이드는 전자기학에 독특하도록 용어를 만들었으며, 역학과의 중복을 피했다. 아이러니하게도 그의 용어 중 많은 부분이 나중에 역학 및 기타 영역으로 차용되었다. 예를 들어, "전기 임피던스"와 "기계적 임피던스"를 구별해야 하는 경우도 있다.[16] "탄성"은 역학에서 유사한 양을 설명하기 위해 사용되기도 하지만, "강성"이 종종 선호된다. 그러나 "탄성"은 유체 역학, 특히 생물의학 및 생리학과 같은 분야에서 유사한 특성에 광범위하게 사용된다.[17]
2. 1. 올리버 헤비사이드의 공헌
올리버 헤비사이드는 1886년에 "전기적 탄성(elastance)"과 "탄성률(elastivity)"이라는 용어를 처음으로 제안했다.[7] 그는 저항과 저항률의 모델을 따라 확장적 성질에는 "-ance" 접미사를, 집약적 성질에는 "-ivity" 접미사를 사용했다. 확장적 성질은 회로 분석에, 집약적 성질은 장 분석에 사용된다. 헤비사이드의 명명법은 장과 회로의 해당 수량 간의 연결을 강조하기 위해 설계되었다.[8]탄성률은 재료의 집약적 성질로, 유전율의 역수이며, 부품의 부피 특성인 탄성에 해당한다. 헤비사이드는 유전율은 허용도를 생성하고, 탄성률은 탄성을 생성한다고 말했다.[9] 여기서 "허용도"는 헤비사이드가 정전 용량을 부르는 용어이다. 그는 축전기가 전하를 담는 용기 역할을 한다는 것을 암시하는 모든 용어를 거부하고, "용량"(정전 용량) 및 "용량성"(축전성)과 그 역수인 "무능력"과 "무능력"에 반대했다.[10] 당시 축전기는 "콘덴서" 또는 "라이덴 병"이라고 불렸는데, 헤비사이드는 기계적 유추를 선호하여 축전기를 압축된 스프링으로 보고 스프링의 특성을 암시하는 용어를 선호했다.[12]
헤비사이드는 제임스 클러크 맥스웰의 전류에 대한 관점, 즉 전류가 기계적 힘과 유사하게 기전력에 의해 구동되는 속도와 유사하다는 관점을 따랐다. 축전기에서 전류는 "변위 전류"를 생성하며, 이 변위는 압축된 스프링의 기계적 변형과 같은 전기적 변형으로 간주되었다. 헤비사이드는 물리적인 전하 흐름과 축전기 판에서의 축적에 대한 생각을 부인하고, 변위장의 발산 개념으로 대체했다.[13]
19세기 말과 20세기 초에 일부 저자는 헤비사이드의 용어를 채택했지만,[14] 오늘날에는 "정전 용량"과 "유전율"이 선호된다. 그럼에도 불구하고 탄성은 이론적인 작업에 가끔 사용된다. 헤비사이드는 전자기학에 독특하도록 용어를 만들었으며, 역학과의 중복을 피했다. 아이러니하게도 그의 용어 중 많은 부분이 나중에 역학 및 기타 영역으로 차용되었다. 예를 들어, "전기 임피던스"와 "기계적 임피던스"를 구별해야 하는 경우가 있다.[16] "탄성"은 역학에서 유사한 양을 설명하는 데 사용되기도 하지만, "강성"이 선호되는 경우가 많다. 그러나 "탄성"은 유체 역학, 생물의학, 생리학 등에서 유사한 특성에 광범위하게 사용된다.[17]
2. 2. 19세기 말 ~ 20세기 초
1886년, 올리버 헤비사이드는 "전기적 탄성"과 "탄성률"이라는 용어를 만들었다.[7] 헤비사이드는 오늘날 회로 분석에 사용되는 임피던스, 인덕턴스, 어드미턴스, 전도도 등의 용어를 만들었다. 그의 용어는 저항과 저항률의 모델을 따랐으며, 확장적 성질에는 "-ance", 집약적 성질에는 "-ivity" 접미사를 사용했다.[8] 탄성률은 재료의 집약적 성질이며, 부품의 부피 특성인 탄성에 해당하며, 유전율의 역수이다. 헤비사이드는 "유전율은 허용도를 생성하고, 탄성률은 탄성을 생성한다"고 하였다.[9] 여기서 "허용도"는 헤비사이드가 정전 용량을 부르는 용어이다. 그는 축전기가 전하를 담는 용기 역할을 한다는 것을 암시하는 모든 용어를 거부했다.[10]헤비사이드의 견해는 제임스 클러크 맥스웰의 전류에 대한 관점을 따랐다. 이 관점에 따르면, 전류는 기계적 힘과 유사하게 기전력에 의해 구동되는 속도와 유사하다. 축전기에서 전류는 전류와 동등한 변화율을 갖는 "변위 전류"를 생성한다. 이 변위는 압축된 스프링의 기계적 변형과 같은 전기적 변형으로 간주되었다. 헤비사이드는 물리적인 전하 흐름과 축전기 판에서의 축적에 대한 생각을 부인하고, 전하 흐름 관점에서 수치적으로 축적된 전하와 동일한 판에서의 변위장의 발산 개념으로 대체했다.[13]
19세기 말과 20세기 초에 일부 저자는 헤비사이드의 용어 "전기적 탄성"과 "탄성률"을 채택했다.[14] 그러나 현재는 역수어인 "정전 용량"과 "유전율"이 전기 기술자들에 의해 거의 보편적으로 선호된다. 헤비사이드는 특히 전자기학에 독특하도록 신중하게 용어를 만들었으며, 역학과의 중복을 피했다.[15]
2. 3. 현대
1886년, 올리버 헤비사이드는 "전기적 탄성"과 "탄성률"이라는 용어를 만들었다.[7] 헤비사이드는 임피던스, 인덕턴스, 어드미턴스 등 오늘날 회로 분석에 사용되는 많은 용어를 만들었다. 그의 용어는 저항과 저항률의 모델을 따랐으며, 확장적 성질에는 "-ance", 집약적 성질에는 "-ivity" 접미사를 사용했다. 확장적 성질은 회로 분석에, 집약적 성질은 장 분석에 사용된다. 헤비사이드의 명명법은 장과 회로의 해당 수량 간의 연결을 강조하도록 설계되었다.[8] 탄성률은 재료의 집약적 성질이며, 유전율의 역수이다. 헤비사이드는 "유전율은 허용도를 생성하고, 탄성률은 탄성을 생성한다"고 말했다.[9]19세기 말과 20세기 초에 일부 저자는 헤비사이드의 용어 "전기적 탄성"과 "탄성률"을 채택했다.[14] 그러나 현대에는 역수어인 "정전 용량"과 "유전율"이 전기 기술자들에 의해 거의 보편적으로 선호된다. 그럼에도 불구하고, 엘라스턴스는 여전히 이론적인 작업에 가끔 사용된다. 헤비사이드는 기계적 용어와 구별하기 위해 "탄성" 대신 "탄성률"을 선택했다.[15]
헤비사이드는 전자기학에 독특하도록 용어를 만들었으며, 역학과의 중복을 피했다. 아이러니하게도 그의 용어 중 많은 부분이 나중에 역학 및 기타 영역으로 차용되었다. 예를 들어, "전기 임피던스"와 "기계적 임피던스"를 구별해야 하는 경우도 있다.[16] "탄성"은 역학에서 유사한 양을 설명하기 위해 사용되기도 하지만, "강성"이 종종 선호된다. 그러나 "탄성"은 유체 역학, 특히 생물의학 및 생리학과 같은 분야에서 유사한 특성에 광범위하게 사용된다.[17]
3. 단위
엘라스턴스의 SI 단위는 패럿의 역수(F-1)이다. 이 단위에 대해 "다라프(daraf)"라는 용어가 사용되기도 하지만, SI에서 승인되지 않았으며 사용이 권장되지 않는다.[4] "다라프"라는 용어는 아서 E. 케넬리(Arthur E. Kennelly)에 의해 만들어졌으며, 1920년경부터 사용되었다.[6] "다라프"는 "패럿"이라는 단어를 거꾸로 한 것이다.[5]
4. 사용
엘라스턴스는 주로 회로망 이론가들의 분석에 사용된다. 엘라스턴스를 사용하는 한 가지 장점은 엘라스턴스가 증가하면 임피던스가 증가하여 다른 두 가지 기본 수동 소자인 저항 및 인덕턴스의 동작과 일치한다는 것이다. 엘라스턴스 사용의 예는 빌헬름 카우어의 1926년 박사 학위 논문에서 찾을 수 있다. 그는 회로망 합성을 시작하기 위해 루프 행렬 '''A'''를 개발했다.[2]
여기서 '''L''', '''R''', '''S''', '''Z'''는 각각 인덕턴스, 저항, 엘라스턴스 및 임피던스의 네트워크 루프 행렬이며, ''s''는 복소 주파수이다. 카우어가 엘라스턴스 대신 정전 용량 행렬을 사용했다면 이 표현식은 훨씬 더 복잡해졌을 것이다. 여기서 엘라스턴스의 사용은 수학자들이 더 일반적인 각도 단위 대신 라디안을 사용하는 것과 유사하게 주로 수학적 편의를 위한 것이다.[2]
엘라스턴스는 마이크로파 공학에도 적용된다. 이 분야에서 가변 용량 다이오드는 주파수 배가기, 파라메트릭 증폭기, 가변 필터와 같은 장치에서 전압 가변 축전기로 사용된다. 이러한 다이오드는 역 바이어스될 때 접합에 전하를 저장하여 축전기 효과를 생성한다. 이 맥락에서 전압-저장 전하 곡선의 기울기를 ''미분 엘라스턴스''라고 한다.[3]
4. 1. 회로망 분석
엘라스턴스(''S'')는 정전 용량(''C'')의 역수이다.[1] 즉,이다. 여기서 ''V''는 전압, ''Q''는 전하이다.
엘라스턴스는 직렬 연결된 축전기의 총 엘라스턴스가 개별 엘라스턴스의 합과 같다는 점에서 유용하다.[1] 엘라스턴스는 임피던스가 증가하면 함께 증가하여 다른 두 기본 수동 소자인 저항 및 인덕턴스의 동작과 일치한다는 장점이 있다.
엘라스턴스 사용의 예는 빌헬름 카우어의 1926년 박사 학위 논문에서 찾을 수 있다. 그는 회로망 합성을 위해 다음과 같은 루프 행렬 '''A'''를 개발했다.[2]
여기서 '''L''', '''R''', '''S''', '''Z'''는 각각 인덕턴스, 저항, 엘라스턴스 및 임피던스의 네트워크 루프 행렬이며, ''s''는 복소 주파수이다. 카우어가 엘라스턴스 대신 정전 용량 행렬을 사용했다면 이 표현식은 훨씬 더 복잡해졌을 것이다. 엘라스턴스의 사용은 수학자들이 라디안을 사용하는 것과 유사하게 수학적 편의를 위한 것이다.[2]
엘라스턴스는 마이크로파 공학에도 적용된다. 가변 용량 다이오드는 주파수 배가기, 파라메트릭 증폭기, 가변 필터와 같은 장치에서 전압 가변 축전기로 사용된다. 이러한 다이오드는 역 바이어스될 때 접합에 전하를 저장하여 축전기 효과를 생성하며, 이 경우 전압-저장 전하 곡선의 기울기를 ''미분 엘라스턴스''라고 한다.[3]
4. 2. 마이크로파 공학
마이크로파 공학에서 가변 용량 다이오드는 전압 가변 축전기로 사용되며, 주파수 배가기, 파라메트릭 증폭기, 가변 필터와 같은 장치에 활용된다.[3] 이러한 다이오드는 역 바이어스될 때 접합에 전하를 저장하여 축전기 효과를 생성하며, 이 때 전압-저장 전하 곡선의 기울기를 ''미분 엘라스턴스''라고 한다.[3]4. 3. 헤비사이드의 관점
헤비사이드는 전류를 기계적 힘에 의해 구동되는 속도와 유사하게 보았다. 축전기 내의 전류는 변위 전류로 간주되었는데, 이는 압축된 스프링의 기계적 변형과 유사한 전기적 변형으로 해석되었다.[19]탄성은 전압과 전하의 비율로 정의되며, 다른 에너지 영역에서는 일반화된 힘과 일반화된 변위의 비율이다. 따라서 탄성은 모든 에너지 영역에서 정의될 수 있다. ''탄성''이라는 용어는 결합 그래프와 같이 여러 에너지 영역이 관련된 시스템의 공식적인 분석에 사용된다.[20]
에너지 영역 | 일반화된 힘 | 일반화된 변위 | 탄성 이름 |
---|---|---|---|
전기 | 전압 | 전하 | 탄성 |
기계적(병진) | 힘 | 변위 | 강성/탄성[22] |
기계적(회전) | 토크 | 각도 | 회전 강성/탄성 강성/탄성의 모멘트 비틀림 강성/탄성[23] |
유체 | 압력 | 부피 | 탄성 |
열 | 온도 차이 | 엔트로피 | 가열 계수[24] |
자기 | 기자력 (mmf) | 자기 선속 | 퍼미언스[25] |
화학 | 화학 포텐셜 | 몰량 | 역 화학 커패시턴스[26] |
5. 역학적 유사체
역학-전기적 유추는 역학적 시스템과 전기적 시스템의 수학적 설명을 비교하여 설정된다. 동일한 형태의 방정식에서 대응하는 위치를 차지하는 양을 ''유사물''이라고 한다. 이러한 유추를 만드는 데에는 두 가지 주요 이유가 있다.
첫 번째 이유는 더 친숙한 역학적 시스템 측면에서 전기 현상을 설명하기 위해서이다. 예를 들어, 전기 RLC 회로(인덕터-캐패시터-저항 회로)를 지배하는 미분 방정식은 역학적 질량-스프링-댐퍼 시스템을 지배하는 미분 방정식과 동일한 형태를 갖는다. 이러한 경우 전기 도메인은 이해를 돕기 위해 역학 도메인으로 변환된다.
두 번째, 그리고 더 중요한 이유는 역학적 및 전기적 구성 요소를 모두 포함하는 시스템을 통합된 전체로 분석하기 위해서이다. 이러한 접근 방식은 기계적 요소와 전기적 요소의 통합이 일반적인 메카트로닉스 및 로봇 공학과 같은 분야에서 특히 유용하다. 이러한 경우, 전기 도메인에서의 회로망 분석이 더 발전하고 고도로 개발되었기 때문에 역학 도메인은 종종 전기 도메인으로 변환된다.[18]
5. 1. 맥스웰 유사체 (임피던스 유사성)
맥스웰 유사체(임피던스 유사성)에서 전압은 힘에, 전류는 속도에 대응된다.[19] 전원의 전압에 사용되는 "기전력"이라는 용어는 이러한 비유를 반영한다. 탄성은 전압과 전하의 비율로 정의되므로, 다른 에너지 영역에서 일반화된 힘과 일반화된 변위의 비율로 정의될 수 있다. ''탄성''이라는 용어는 결합 그래프와 같이 여러 에너지 영역이 관련된 시스템의 공식적인 분석에 사용된다.[20]에너지 영역 | 일반화된 힘 | 일반화된 변위 | 탄성 이름 |
---|---|---|---|
전기 | 전압 | 전하 | 탄성 |
기계적(병진) | 힘 | 변위 | 강성/탄성[22] |
기계적(회전) | 토크 | 각도 | 회전 강성/탄성 강성/탄성의 모멘트 비틀림 강성/탄성[23] |
유체 | 압력 | 부피 | 탄성 |
열 | 온도 차이 | 엔트로피 | 가열 계수[24] |
자기 | 기자력 (mmf) | 자기 선속 | 퍼미언스[25] |
화학 | 화학 포텐셜 | 몰량 | 역 화학 커패시턴스[26] |
5. 2. 다른 유사체 (가동성 유추 등)
맥스웰 유사체 외에도 기계 시스템과 전기 시스템 간의 유추를 구성하는 여러 방법이 있다. 일반적으로 사용되는 시스템 중 하나는 가동성 유추이다. 이 유추에서 힘은 전압이 아닌 전류에 매핑된다. 결과적으로 전기 임피던스는 더 이상 기계적 임피던스에 직접 대응되지 않으며, 마찬가지로 전기 탄성은 더 이상 기계적 탄성에 대응되지 않는다.참조
[1]
문서
Camara, p. 16-11
[2]
문서
Cauer, Mathis & Pauli, p.4. The symbols in Cauer's expression have been modified for consistency within this article and with modern practice.
[3]
문서
Miles, Harrison & Lippens, pp. 29–30
[4]
문서
Michell, p.168, Mills, p.17
[5]
문서
Klein, p.466
[6]
문서
Kennelly & Kurokawa, p.41, Blake, p.29, Jerrard, p.33
[7]
문서
Howe, p.60
[8]
문서
Yavetz, p.236
[9]
문서
Heaviside, p.28
[10]
문서
Howe, p.60
[11]
문서
Heaviside, p.268
[12]
문서
Yavetz, pp.150–151
[13]
문서
Yavetz, pp.150–151
[14]
문서
See, for example, Peek, p.215, writing in 1915
[15]
문서
Howe, p.60
[16]
문서
van der Tweel & Verburg, pp.16–20
[17]
문서
See for example Enderle & Bronzino, pp.197–201, especially equation 4.72
[18]
문서
Busch-Vishniac, pp.17–18
[19]
문서
Gupta, p.18
[20]
문서
Vieil, p.47
[21]
문서
Busch-Vishniac, pp.18–19, Regtien, p.21, Borutzky, p.27
[22]
문서
Horowitz, p.29
[23]
문서
Vieil, p.361, Tschoegl, p.76
[24]
문서
Fuchs, p.149
[25]
문서
Karapetoff, p.9
[26]
문서
Hillert, pp.120–121
[27]
문서
Busch-Vishniac, p.20
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