실리센
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1. 개요
실리센은 1994년 이론적으로 예측되었으나 2010년 처음 실험적으로 관찰된 2차원 물질로, 규소 원자가 육각형 벌집 구조를 형성한다. 그래핀과 유사한 구조를 가지지만, 밴드갭 조절 가능성, 더 강한 스핀-궤도 결합, 화학적 기능화 용이성 등 차이점을 보인다. 은(Ag) 표면에서 자기 조립 방식으로 성장하며, 2015년에는 실리센 전계 효과 트랜지스터가 개발되어 전자 소자 분야의 응용 가능성을 열었다.
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실리센 | |
---|---|
개요 | |
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종류 | 2차원 물질 |
화학식 | Si |
결정 구조 | 육각형 |
관련 물질 | 실리콘 그래핀 |
설명 | |
정의 | 실리콘의 2차원 동소체 |
구조 | 그래핀과 유사한 벌집 모양의 구조를 가짐 |
특성 | 높은 전자 이동 속도 스핀-궤도 결합으로 인한 특이한 전자 구조 |
응용 분야 | 차세대 트랜지스터 에너지 저장 장치 센서 |
역사 | |
이론적 예측 | 2007년 |
최초 합성 보고 | 2012년 |
합성 방법 | 은(Ag) 기판 위에 실리콘 증착 아이리듐 박막 성장 |
물리적 특성 | |
안정성 | 공기 중에서 불안정하며, 산화되기 쉬움 |
밴드 갭 | 가변적, 수소 첨가 또는 표면 기능화를 통해 조절 가능 |
기타 | |
참고 자료 |
2. 역사
1994년부터 이론가들은 실리센의 존재와 그 성질을 예측했지만,[49][50][51] 2010년에 처음으로 실험적으로 관찰되었다.[5][6]
2015년에는 실리센 전계 효과 트랜지스터가 시험되었다.[13] 이는 기초 과학 연구 및 전자 응용 분야에서 2차원 실리콘에 대한 기회를 열어준다.[14][15][16]
2. 1. 초기 발견
1994년부터 이론가들에 의해 실리센의 존재와 그 성질이 예측되었지만,[49][50][51] 2010년에야 실리센으로 추정되는 규소 구조가 처음 관찰되었다.[5][6]주사 터널링 현미경(STM)을 이용하여 과학자들은 은(Ag) 단결정 위에 성장된 자기 조립 실리센 나노리본과 실리센 시트를 관찰하였다.[7] STM 이미지는 그래핀과 비슷한 육각형 벌집 구조를 보여주었지만, 이는 은 표면의 영향으로 인해 나타나는 것으로 오해되기도 했다.[7] 밀도 범함수 이론(DFT) 계산 결과, 규소 원자는 은 표면 위에서 벌집 구조를 형성하며, 약간의 굴곡을 통해 그래핀과 유사한 구조를 만드는 경향이 있는 것으로 나타났다.[7] 그러나 이러한 모델은 Si/Ag(110)에 대해서는 무효화되었고, 관찰된 벌집 구조는 팁 인공물이라는 것이 밝혀졌다.[8][9]
2. 2. 구조 규명
밀도범함수 이론(DFT) 계산에 의하면, 은 표면에서 규소 원자들이 작은 굴곡을 따라 그래핀과 같은 벌집 구조를 형성한다고 한다.[7] 그러나 이러한 모델은 Si/Ag(110)에 대해서는 무효화되었고, Ag 표면은 Si 흡착 시 결손 행 재구성을 나타내며[8], 관찰된 벌집 구조는 팁 인공물이다.[9]2013년에는 실리센에서 덤벨 재구성이 발견되었는데,[10] 이는 층상 실리센[11]과 Ag 위의 실리센 형성 메커니즘을 설명한다.[12]
2022년에는 Si/Ag(111) 표면 합금 위에 실리센/Ag(111)을 성장시키는 것이 2차원 층의 기반과 골격 역할을 한다는 것을 발견했다.[17]
3. 그래핀과의 공통점과 차이점
실리콘과 탄소는 주기율표에서 서로 위아래에 위치하며, s2 p2 전자 구조를 갖는 유사한 원자이다. 실리센과 그래핀은 공통점과 차이점을 모두 가지고 있는데, 요약하면 다음과 같다.
- 공통점:
- 디랙점 주변에 디랙 원뿔과 선형 전자 분산을 갖는다.
- 양자 스핀 홀 효과를 갖는다.
- 전하를 운반하는 질량이 없는 디랙 페르미온의 특성을 가질 것으로 예상된다. (단, 실리센의 경우 아직 관찰되지 않음)[18]
- 차이점:
- 실리센은 그래핀과 달리 표면 합금에서 성장하는 경향이 있어, 분리가 더 어렵거나 불가능할 수 있다.[17]
- 실리센은 찌그러진 육각형 구조를 하고 있어, 밴드갭 조절과 같은 특성에서 차이가 난다. (자세한 내용은 하위 섹션 참조)
실리센이 만들어지는 기판은 실리센의 전자적 특성에 상당한 영향을 미치는 것으로 여겨진다.[18]
3. 1. 구조적 차이
탄소와 실리콘은 주기율표에서 서로 위아래에 위치하며, 둘 다 s2 p2 전자 구조를 갖는 유사한 원자이다. 실리센과 그래핀의 2차원 구조 또한 매우 유사하지만, 중요한 차이점도 있다. 둘 다 육각형 구조를 형성하지만, 그래핀은 완전히 평평한 반면, 실리센은 찌그러진 육각형 모양을 형성한다. 실리센의 찌그러진 구조는 외부 전기장을 가하여 밴드갭을 조절할 수 있게 해준다.[18] 이는 실온에서 작동하는 전계 효과 트랜지스터(FET)에 필요한 특성이다.[20] 실리센의 수소화 반응은 그래핀보다 더 발열적이다. 또 다른 차이점은 실리콘의 공유 결합에는 파이 스태킹이 없기 때문에, 실리센은 흑연과 같은 형태로 뭉치지 않는다는 것이다. 그래핀의 평면 구조와 달리 실리센에서 찌그러진 구조가 형성되는 것은, 근접한 채워진 전자 상태와 빈 전자 상태 사이의 진동-전자 결합으로 인해 발생하는 강한 유사 얀-텔러 변형 때문이라고 여겨진다.[18]그래핀과 비교하여 실리센은 몇 가지 두드러진 장점을 가지고 있다. 더 강한 스핀-궤도 결합으로, 실험적으로 접근 가능한 온도에서 양자 스핀 홀 효과를 실현할 수 있다.[20] 또한, 밸리 편광이 더 쉬워 밸리트로닉스 연구에 더 적합하다.[20]
3. 2. 전자 구조적 차이
실리콘과 탄소는 주기율표에서 서로 위아래에 위치하며, 둘 다 s2 p2 전자 구조를 갖는 유사한 원자이다. 실리센과 그래핀은 둘 다 육각형 구조를 가지지만, 그래핀은 완전히 평평한 반면 실리센은 찌그러진 육각형 모양을 갖는다는 차이점이 있다. 이러한 실리센의 찌그러진 구조는 외부 전기장을 가하여 밴드갭을 조절할 수 있게 해준다. 실리센의 수소화 반응은 그래핀보다 더 발열적이다. 또한 실리콘의 공유 결합에는 파이 스태킹이 없기 때문에, 실리센은 흑연과 같은 형태로 뭉치지 않는다. 실리센에서 찌그러진 구조가 형성되는 것은, 근접한 채워진 전자 상태와 빈 전자 상태 사이의 진동-전자 결합으로 인해 발생하는 강한 유사 얀-텔러 변형 때문이라고 여겨진다.[18]실리센과 그래핀은 디랙점 주변에 디랙 원뿔과 선형 전자 분산을 갖는 등 유사한 전자 구조를 보인다. 또한 둘 다 양자 스핀 홀 효과를 가지며, 전하를 운반하는 질량이 없는 디랙 페르미온의 특성을 가질 것으로 예상된다. 하지만, 이러한 특성은 실리센에 대해서만 예측되었고, 아직 합성되지 않은 자유 실리센에서만 발생할 것으로 예상되므로 관찰되지 않았다. 실리센이 만들어지는 기판이 실리센의 전자적 특성에 상당한 영향을 미치는 것으로 여겨진다.[18]
그래핀의 탄소 원자와 달리, 실리콘 원자는 실리센에서 ''sp''2 혼성보다 ''sp''3 혼성을 채택하는 경향이 있다. 이는 표면에서 실리센을 매우 화학적으로 활성화시키고 화학적 기능화를 통해 전자 상태를 쉽게 조절할 수 있게 해준다.[19]
실리센은 그래핀에 비해 몇 가지 두드러진 장점을 가진다. 첫째, 훨씬 더 강한 스핀-궤도 결합으로, 실험적으로 접근 가능한 온도에서 양자 스핀 홀 효과를 실현할 수 있다. 둘째, 밴드갭의 더 나은 조절성으로, 실온에서 작동하는 전계 효과 트랜지스터(FET)에 필요하다. 셋째, 더 쉬운 밸리 편광과 밸리트로닉스 연구에 더 적합하다.[20]
그래핀과 달리, 적어도 Ag(111)에 지지된 실리센은 표면 합금에서 성장하는 것으로 나타났다.[17] 따라서 실리센을 분리하는 것은 그래핀을 분리하는 것보다 훨씬 덜 간단하며, 어쩌면 불가능할 수도 있다.
3. 3. 화학적 성질 차이
탄소와 실리콘은 주기율표에서 서로 위아래에 위치하며, 둘 다 s2 p2 전자 구조를 갖는 유사한 원자이다. 실리센과 그래핀은 둘 다 육각형 구조를 가지지만, 그래핀은 완전히 평평한 반면 실리센은 찌그러진 육각형 모양을 갖는다는 차이점이 있다. 이러한 실리센의 찌그러진 구조는 외부 전기장을 가하여 밴드갭을 조절할 수 있게 해준다. 실리센의 수소화 반응은 그래핀보다 더 발열적이다. 또한 실리콘의 공유 결합에는 파이 스태킹이 없기 때문에, 실리센은 흑연과 같은 형태로 뭉치지 않는다.[18]실리센과 그래핀은 디랙점 주변에 디랙 원뿔과 선형 전자 분산을 갖고, 둘 다 양자 스핀 홀 효과를 가지며, 전하를 운반하는 질량이 없는 디랙 페르미온의 특성을 가질 것으로 예상된다는 점에서 유사한 전자 구조를 갖는다. 그러나 이러한 특성은 실리센에 대해서만 예측되었고, 아직 합성되지 않은 자유 실리센에서만 발생할 것으로 예상되어 관찰되지 않았다. 실리센이 만들어지는 기판이 실리센의 전자적 특성에 상당한 영향을 미치는 것으로 여겨진다.[18]
그래핀의 탄소 원자와 달리, 실리콘 원자는 실리센에서 ''sp''2 혼성보다 ''sp''3 혼성을 채택하는 경향이 있다. 이는 실리센을 표면에서 매우 화학적으로 활성화시키고, 화학적 기능화를 통해 전자 상태를 쉽게 조절할 수 있게 해준다.[19]
그래핀과 비교했을 때 실리센은 몇 가지 두드러진 장점을 갖는다.
- 훨씬 더 강한 스핀-궤도 결합으로, 실험적으로 접근 가능한 온도에서 양자 스핀 홀 효과를 실현할 수 있다.
- 밴드갭의 더 나은 조절성으로, 실온에서 작동하는 전계 효과 트랜지스터(FET)에 필요하다.
- 더 쉬운 밸리 편광과 밸리트로닉스 연구에 더 적합하다.[20]
그래핀과 달리, 적어도 Ag(111)에 지지된 실리센은 표면 합금에서 성장하는 것으로 나타났다.[17] 따라서 실리센을 분리하는 것은 그래핀을 분리하는 것보다 훨씬 덜 간단하며, 어쩌면 불가능할 수도 있다.
4. 표면 합금
Ag(111) 위의 실리센은 Si/Ag(111) 표면 합금 위에 성장하며, 이는 다양한 측정 기술의 조합을 통해 밝혀졌다.[17] 이 표면 합금은 실리센의 성장보다 먼저 나타나며, 2차원 층의 기반이자 골격 역할을 한다. 실리콘의 도포량을 더 증가시키면 합금은 실리센으로 덮이지만, 모든 도포량에서 광범위하게 존재한다. 이는 층의 특성이 합금에 의해 강하게 영향을 받는다는 것을 의미한다.
5. 띠틈 (Band gap)
실리센은 띠틈 조절이 가능하다는 특징을 가지며, 이는 다양한 응용 분야에 활용될 수 있는 잠재력을 제공한다.[21] 초기 연구에서는 도펀트를 통해 띠틈을 조절하는 방법이 연구되었다.[21] 산소 부착 원자를 이용하여 띠틈을 제로 갭 타입에서 반도체 타입으로 조절하는 연구도 진행되었다. 조절 가능한 띠틈을 통해 특정 띠틈이 필요한 응용 분야에 맞게 특정 전자 부품을 맞춤 제작할 수 있다. 띠틈은 0.1 eV까지 낮출 수 있으며, 이는 기존의 전계 효과 트랜지스터(FET)에서 발견되는 띠틈(0.4 eV)보다 상당히 작다.[21]
실리센 내에 n형 반도체 도핑을 유도하려면 알칼리 금속 도펀트가 필요하다. 양을 변경하면 띠틈이 조절된다. 최대 도핑 시 띠틈이 0.5eV 증가한다. 과도한 도핑으로 인해 공급 전압도 약 30V가 되어야 한다. 알칼리 금속 도핑된 실리센은 n형 반도체만 생성할 수 있다. 현대 전자 제품에는 상보적인 n형 및 p형 반도체 접합이 필요하다. 발광 다이오드(LED)와 같은 장치를 생산하려면 중성 도핑(i형)이 필요하다. LED는 p-i-n 접합을 사용하여 빛을 생성한다. p형 도핑된 실리센을 생성하려면 별도의 도펀트를 도입해야 한다. 이리듐(Ir) 도핑된 실리센은 p형 실리센 생성을 가능하게 한다. 백금(Pt) 도핑을 통해 i형 실리센이 가능하다.[21] n형, p형 및 i형 도핑된 구조의 조합을 통해 실리센은 전자 분야에서 활용될 기회를 갖는다.
6. 성질
2차원 실리센은 완전히 평평한 구조가 아니며, 고리에서 의자형 휨 변형이 나타나 정렬된 표면 잔물결이 생긴다. 실리센을 실레인으로 수소화하는 것은 발열 반응으로, 이는 수소 저장의 후보가 될 수 있다는 예측으로 이어졌다. 흑연은 분산력으로 약하게 결합된 그래핀 층의 쌓임으로 구성된 반면, 실리센의 층간 결합은 매우 강하다.
실리센의 육각형 구조가 휘는 현상은 유사 야-텔러 변형 (PJT)에 의해 발생한다.[18] 이는 진동 결합의 강한 비어있는 분자 궤도 함수 (UMO)와 채워진 분자 궤도 함수 (OMO) 때문에 발생한다. 이 궤도 함수들은 에너지 측면에서 실리센의 대칭성이 높은 구성으로 변형을 일으킬 만큼 충분히 가깝다. 리튬 이온을 첨가하여 UMO와 OMO 사이의 에너지 간격을 증가시키면 PJT 변형을 억제하여 휨 구조를 평평하게 만들 수 있다.
실리센은 기존 반도체 기술과의 잠재적 호환성 외에도, 가장자리가 산소 반응성을 나타내지 않는다는 장점이 있다.[22]
2012년, 여러 연구 그룹에서 Ag(111) 표면에서 정렬된 상을 독립적으로 보고했다.[23][24][25] 주사 터널링 분광법 측정 결과[26] 및 각도 분해 광전자 분광법 (ARPES) 결과는 실리센이 그래핀과 유사한 전자적 특성, 즉 브릴루앙 영역의 K점에서 상대론적 디랙 페르미온과 유사한 전자 분산을 가질 것으로 보였지만,[23] 이 해석은 나중에 논쟁의 대상이 되었고 기질 밴드에서 비롯된 것으로 밝혀졌다.[27][28][29][30][31][32][33] 밴드 펼침 기법을 사용한 ARPES 결과 해석은 관찰된 선형 분산의 기질 기원을 밝혀냈다.[34]
실리센은 은 외에도 [35]과 이리듐 위에서도 성장하는 것으로 보고되었다.[36] 이론 연구에 따르면 실리센은 꿀벌집 구조의 단일층으로 Al(111) 표면에서 안정적이며 (4x4 Ag(111) 표면에서 관찰된 것과 유사한 결합 에너지) "다각형 실리센"이라고 불리는 새로운 형태도 안정적인데, 그 구조는 3-, 4-, 5- 및 6면 다각형으로 구성된다.[37]
Ag와 Si 사이의 p-d 혼성화 메커니즘은 거의 평평한 실리콘 클러스터를 안정화하는 데 중요하며, 실리센 성장에 대한 Ag 기질의 효과는 DFT 계산과 분자 역학 시뮬레이션으로 설명된다.[32][38] Ag(111)에 에피택셜 4 × 4 실리센의 고유한 혼성화된 전자 구조는 실리센 표면의 높은 화학 반응성을 결정하며, 이는 주사 터널링 현미경 및 각도 분해 광전자 분광법으로 밝혀졌다. Si와 Ag 간의 혼성화는 금속 표면 상태를 초래하며, 이는 산소 흡착으로 인해 점차적으로 감소할 수 있다. X선 광전자 분광법은 산소 처리 후 Si-Ag 결합의 분리뿐만 아니라 4 × 4 실리센 [Ag(111)에 관하여]과 비교하여 Ag(111) 표면의 상대적인 산소 저항성을 확인한다.[32]
6. 1. 기능화된 실리센 (Functionalized silicene)
페닐 고리로 기능화된 산소가 없는 실리센 시트인 유기 변형 실리센이 성공적으로 성장했다.[39] 이러한 기능화는 실리센 구조가 유기 용매에 균일하게 분산되도록 하며, 이는 다양한 기능화된 실리콘 시스템 및 유기 실리콘 나노시트 개발의 가능성을 제시한다.7. 실리센 트랜지스터
실리센은 높은 전자 이동도와 밴드갭 조절 가능성을 바탕으로 차세대 트랜지스터 소재로 주목받고 있다. 그래핀은 높은 전자 이동도를 가지지만 밴드갭이 없어 트랜지스터로 사용하기 어렵다. 실리센은 자연 상태에서 제로 밴드갭을 가지지만, 밴드갭을 형성하는 기술이 개발되면서 트랜지스터 활용 가능성이 열렸다.[41] 기판이 실리센에 미치는 영향은 결정립계의 산란과 음향 포논의 제한된 수송,[42] 실리센과 기판 사이의 대칭 파괴 및 혼성화 효과로 설명된다.[43] 음향 포논은 격자 구조에서 두 개 이상의 유형의 원자가 평형 위치에서 동기적으로 움직이는 것을 말한다.
7. 1. 개발 현황
미국 육군 연구소는 2014년부터 실리센 연구를 지원했다. 연구 목표는 그래핀과 같은 기존 재료를 넘어선 특성과 기능을 위해 실리센과 같은 원자 규모의 재료를 분석하는 것이었다.[40] 2015년, 데지 아킨완데는 이탈리아 CNR의 알레산드로 몰레 그룹과 미국 육군 연구소와 협력하여 실리센을 공기 중에서 안정화하는 방법을 개발하고 기능성 실리센 전계 효과 트랜지스터 장치를 보고했다. 작동하는 트랜지스터는 밴드갭을 가져야 하며, 높은 전자 이동도를 가질 경우 더 효과적으로 작동한다. 밴드갭은 재료의 가전자대와 전도대 사이의 영역으로, 전자가 존재하지 않는 영역이다. 그래핀은 높은 전자 이동도를 가지지만, 밴드갭을 형성하는 과정에서 다른 전기적 잠재력이 감소한다.[41]실리센과 같은 그래핀 유사체를 전계 효과 트랜지스터로 사용하는 연구가 진행된 이유가 여기에 있다. 실리센은 자연 상태에서 제로 밴드갭을 가지지만, 아킨완데와 몰레는 미국 육군 연구소와 협력하여 실리센 트랜지스터를 개발했다. 이들은 실리센의 공기 중 불안정성을 극복하기 위해 "네이티브 전극을 사용한 실리센 캡슐화 박리"(SEDNE)라는 과정을 설계했다. 그 결과 얻어진 안정성은 Si-Ag의 p-d 혼성화 때문이라고 주장했다. 연구진은 에피택시를 통해 Ag 층 위에 실리센 층을 성장시키고, 두 층을 알루미나(Al2O3)로 덮었다. 실리센, Ag, Al2O3는 상온에서 진공 상태로 보관되었으며, 두 달 동안 추적 관찰했다. 샘플은 라만 분광법을 사용하여 열화 징후를 검사했지만 발견되지 않았다. 이 복잡한 스택은 Ag가 위를 향하도록 하여 SiO2 기판 위에 놓였다. Ag는 실리센 채널을 드러내기 위해 중간에 얇은 스트립으로 제거되었다. 기판 위의 실리센 채널은 공기에 노출되었을 때 라만 스펙트럼을 잃을 때까지 2분 동안 지속되었다. 약 210 meV의 밴드갭이 보고되었다.[42][41] 밴드갭 개발에 있어 기판이 실리센에 미치는 영향은 결정립계의 산란과 음향 포논의 제한된 수송,[42] 뿐만 아니라 실리센과 기판 사이의 대칭 파괴 및 혼성화 효과로 설명된다.[43] 음향 포논은 격자 구조에서 두 개 이상의 유형의 원자가 평형 위치에서 동기적으로 움직이는 것을 의미한다.
7. 2. 성능 및 전망
미국 육군 연구소(U.S. Army Research Laboratory)의 지원으로 실리센 기반 전계 효과 트랜지스터 연구가 진행되었다. 실리센은 그래핀과 유사하지만, 자연 상태에서는 제로 밴드갭을 가진다. 데지 아킨완데(Deji Akinwande)와 알레산드로 몰레 그룹은 미국 육군 연구소(U.S. Army Research Laboratory)와 협력하여 실리센 트랜지스터를 개발했다.[41]연구진은 "네이티브 전극을 사용한 실리센 캡슐화 박리"(SEDNE)라는 과정을 통해 실리센의 공기 중 불안정성을 극복했다. 이들은 에피택시를 통해 Ag 층 위에 실리센 층을 성장시키고, Al2O3로 덮는 방식으로 안정성을 확보했다. 이렇게 만들어진 샘플은 라만 분광법으로 열화 징후를 검사했지만, 두 달 동안 발견되지 않았다.[42]
Ag를 제거하여 실리센 채널을 노출시킨 결과, 약 210 meV의 밴드갭이 보고되었다.[42][41] 밴드갭 형성은 기판이 실리센에 미치는 영향, 즉 결정립계의 산란, 음향 포논의 제한된 수송,[42] 실리센과 기판 사이의 대칭 파괴 및 혼성화 효과로 설명된다.[43]
8. 실리센 나노시트
2차원 실리센 나노시트는 고전압 대칭 슈퍼커패시터의 매력적인 전극 재료로 사용된다.[44]
참조
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Two-Dimensional Silicon Makes Its Device Debut
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