ASML

1. 개요

ASML은 1984년 필립스와 ASM 인터내셔널의 합작 회사로 설립된 네덜란드 기업으로, 반도체 제조에 사용되는 포토 리소그래피 장비를 생산한다. 1988년 독립 후 ASML을 사명으로 사용했으며, 1995년 암스테르담 증권 거래소 및 나스닥에 상장되었다. ASML은 EUV(극자외선) 리소그래피 기술을 통해 시장에서 독점적 지위를 확보했으며, 2022년 기준 전 세계 노광 장비 시장 점유율 81.2%를 기록했다. 최근 미중 반도체 분쟁과 관련하여 중국으로의 장비 수출 제한 조치를 받기도 했다.

2. 역사

ASML은 1984년 필립스와 ASM 인터내셔널(기업)의 합작 회사로 설립되어, 1988년 독립했다. 회사 초기에는 'ASM Lithography'의 약자인 ASML을 사명으로 사용했으나, 현재는 공식 명칭으로 굳어졌다.

1990년대에 PAS 5500 시스템의 성공과 니콘, 캐논과의 경쟁을 통해 성장했고, 2000년대에는 실리콘 밸리 그룹(SVG) 인수를 통해 인텔과의 협력을 강화하며 시장 점유율을 확대했다.

2010년대에는 극자외선 리소그래피(EUVL) 기술 개발에 주력하여 인텔, TSMC, 삼성전자 등 주요 반도체 기업들로부터 투자를 유치했다. 2020년 현재, ASML은 7nm 노드 이하 공정에 필수적인 EUV 노광 장비를 세계에서 유일하게 제조하는 기업이다.

최근 ASML은 미국과 중국 간의 반도체 기술 패권 경쟁 속에서 핵심적인 위치를 차지하고 있다. 미국 연방 정부는 2019년부터 ASML의 EUV 장비 중국 수출을 제한하려는 움직임을 보였으며, 네덜란드 정부도 2023년부터 국가 안보를 이유로 칩 장비 수출 제한 조치를 시행하고 있다.

ASML의 주요 연혁은 다음과 같다.

2.1. 설립 초기

ASML은 1984년 네덜란드 기업 필립스와 ASM 인터내셔널(기업)의 합작 회사로 설립되었다. ASML이라는 사명은 ASM Lithography의 약어이다. 1988년 독립하였으나 필립스는 일부 지분을 계속 보유하였다. 회사가 독립했을 때, 이름을 바꾸는 것이 바람직하지 않다고 결정되었고, ASML이 공식 회사 이름이 되었다.

1995년 암스테르담 증권 거래소 및 나스닥에 상장되었다.

1991년에는 리소그래피 시스템 PAS 5500을 출시했는데, 이는 회사에게 매우 성공적인 플랫폼이 되었다. PAS 5500은 마이크론 테크놀로지에 의해 처음 사용되었으며, 이 PAS 5500 라인의 성공으로 ASML은 캐논 및 니콘과 치열한 경쟁을 벌이게 되었다.

1997년, ASML은 극자외선 사용으로의 전환을 연구하기 시작했고, 1999년에는 미국 에너지부가 수행한 기초 연구를 활용하기 위해 인텔과 다른 두 곳의 미국 반도체 제조업체를 포함하는 컨소시엄에 참여했다. ASML은 벨기에의 IMEC 및 세미테크와 협력했으며, 거울을 확보하기 위해 독일의 칼 자이스에 의존했다.

2000년, ASML은 인텔 코퍼레이션에 193 nm 스캐너를 공급하기 위해 EUV 연구 결과에 대한 라이선스를 받은 미국 리소그래피 장비 제조업체인 실리콘 밸리 그룹(SVG)을 인수했다. 이 인수를 통해 ASML은 최대 반도체 제조업체인 인텔에 대한 접근을 확보하고 급속히 점유율을 확대했다.

2001년 에이에스엠엘 재팬 주식회사를 설립하였다.

2.2. 성장과 경쟁

ASML은 1984년 네덜란드 필립스와 필립스에서 분사된 반도체 제조장비 기업 ASMI의 합작회사로 설립되었다. 'ASML'이라는 사명은 'ASM Lithography'의 약어이다. 1988년 독립하였으나 필립스는 일부 지분을 계속 보유하였다. ASML은 원래 ASM 리소그래피(ASM Lithography)라는 이름이었지만, 공식 명칭은 ASML이며 약자가 아니다. 1995년 암스테르담 증권 거래소 및 나스닥에 상장되었다.

1991년에 출시된 리소그래피 시스템 PAS 5500은 ASML에게 매우 성공적인 플랫폼이 되었다. PAS 5500은 마이크론 테크놀로지에 의해 처음 사용되었으며, 이 PAS 5500 라인의 성공으로 ASML은 캐논 및 니콘과 치열한 경쟁을 벌이게 되었다.

2000년에는 미국의 리소그래피 장비 제조업체인 실리콘 밸리 그룹(SVG)을 인수했다. 이를 통해 ASML은 인텔에 193nm 스캐너를 공급하기 위한 EUV 연구 결과에 대한 라이선스를 획득했다.

2002년에는 포토 리소그래피 시스템의 최대 공급 업체가 되었다.

2012년 미국 인텔은 극자외선 리소그래피 공정 개발을 위해 ASML 지분 15%를 인수하며 4100를 투자하였다. 중화민국 TSMC, 대한민국 삼성전자도 비슷한 이유로 지분을 투자하였다.

2019년 ASML의 EUV 노광장비 중화인민공화국 수출을 미국 연방 정부가 고급 기술 유출 방지를 이유로 막고 있다는 내용이 보도되었다. ASML은 네덜란드 정부의 수출허가를 기다리는 것일 뿐이라고 답하였다.

2020년 현재 ASML은 7 nm 노드 이하의 노광을 가능하게 하는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 장치를 세계에서 유일하게 제조하여 1대당 24에 판매한다.

ASML의 성장과 관련된 주요 연혁은 다음과 같다.

2.3. EUV 시대와 독점

2010년 집계에 따르면 ASML의 반도체 리소그래피 공정 장치 점유율은 67%에 달했다. 캐논, 니콘과 같은 경쟁 업체들이 존재하나, 이들과의 기술력 차이를 크게 벌렸다. 특히 기술적 난점이 많은 EUV 노광 장치 개발에 성공하여 최고의 반도체 제조 장치 업체로 꼽히던 어플라이드 머티어리얼즈의 시가총액을 추월하였다.

2012년 미국 인텔은 극자외선 리소그래피 공정 개발을 위해 ASML 지분 15%를 인수하며 4100를 투자하였다. 중화민국 TSMC, 대한민국 삼성전자도 비슷한 이유로 지분을 투자하였다. 2017년 ASML은 12대의 EUV 장비를 출하하였다.

2019년 ASML의 EUV 노광장비 중화인민공화국 수출을 미국 연방 정부가 고급 기술 유출 방지를 이유로 막고 있다는 내용이 보도되었다. 이 보도에 대해 ASML은 네덜란드 정부의 수출허가를 기다리는 것일 뿐이라고 답하였다.

2020년 현재 ASML은 7 nm 노드 이하의 노광을 가능하게 하는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 장치를 세계에서 유일하게 제조하여 1대당 240에 판매한다. 2018년에는 극자외선 최초의 양산기 "NXE:3400B"의 본격적인 출하와 사용이 시작되었다.

2.4. 대한민국과의 관계

1984년 네덜란드 기업 필립스와 ASMI의 합작회사로 ASML이 설립되었다. 2012년 대한민국 삼성전자는 극자외선 리소그래피 공정 개발을 위해 ASML에 지분을 투자하였다.

2.5. 미중 반도체 분쟁과 ASML

2019년, 미국 연방 정부는 극자외선 리소그래피(EUV) 기술의 중화인민공화국 유출을 우려하여 ASML의 EUV 노광장비 수출을 막으려 했다는 보도가 나왔다. ASML은 이에 대해 네덜란드 정부의 수출 허가를 기다리고 있을 뿐이라고 밝혔다.

2018년 도널드 트럼프 행정부의 압력에 이어, 2020–2023년 글로벌 반도체 부족 현상과 미국과 중국 간의 "기술 냉전"은 ASML에게 사업 기회가 되었다.

2023년 3월, 네덜란드 정부는 국가 안보를 이유로 칩 장비 수출에 대한 제한을 시행했다. 이는 글로벌 마이크로칩 공급망에서 가장 중요한 회사 중 하나인 ASML에 영향을 미쳤다. 수출 면허 요건은 2023년 9월에 발효되었다.

2024년 1월, 네덜란드 정부는 일부 첨단 칩 제조 장비의 중국 수출에 대한 추가적인 제한을 부과했다. 2024년 9월 6일, 네덜란드 정부는 안전 및 지정학적 문제로 인해 중국의 첨단 기술 접근을 제한하기 위해 자국 정책을 미국 제한 사항과 일치시켜 특정 ASML 칩 제조 장비에 대한 수출 통제를 강화했다.

2023년 2월, ASML은 전 중국인 직원이 회사 기술 정보를 "부정하게" 훔쳤다고 주장했다. 이는 ASML이 중국과 관련된 지적 재산권 침해와 연루된 혐의를 받은 첫 번째 사례가 아니었다. ASML은 2021년 연례 보고서에서 둥팡징위안 전자 유한 회사(Dongfang Jingyuan Electron Limited)가 "ASML의 지적 재산권을 침해할 수 있는 제품을 중국에서 적극적으로 마케팅하고 있다"고 언급했다. 당시 미국 상무부는 ASML에 대한 경제 스파이 행위에 대해 우려를 표명했다. 2023년 10월, 네덜란드 신문 NRC Handelsblad는 ASML 기술에 대한 데이터를 "부정하게" 훔친 전 직원이 이후 화웨이에서 일하게 되었다고 보도했다.

2023년 6월, 네덜란드 인권 연구소는 국가의 네덜란드 헌법이 국적에 따른 차별을 금지하고 있음에도 불구하고, ASML이 미국의 수출 관리 규정에 따라 제재를 받는 국가(예: 중국, 쿠바, 이란, 북한, 시리아)의 거주자에게 미국 법률을 준수하기 위해 채용 신청을 거부할 수 있다고 판결했다.

3. 제품

ASML은 집적 회로 생산에 사용되는 포토 리소그래피 장비를 생산한다. 이 장비는 빛에 민감한 물질(포토 레지스트) 필름으로 덮인 실리콘 웨이퍼에 광학적으로 패턴을 이미징하는 방식으로 작동한다. 이 과정은 웨이퍼 한 장에 수십 번 반복되며, 이후 포토 레지스트를 추가 처리하여 실제 전자 회로를 생성한다.

2010년 기준, ASML은 전 세계 리소그래피 장비 시장의 67%를 점유했다. 주요 경쟁사로는 캐논, 니콘 등이 있지만, ASML은 이들보다 기술력에서 앞서있다. 특히, 극자외선(EUV) 노광 장비 개발 성공으로 어플라이드 머티어리얼즈를 제치고 최고의 반도체 제조 장비 업체로 부상했다.

ASML의 광학계는 칼 자이스에서 공급하며, 렌즈는 형석 및 석영을 사용한다. 최근에는 반사경을 조합한 광학계도 사용되고 있다. 이러한 기술 아웃소싱 전략은 오픈 이노베이션의 성공 사례로 평가받고 있다. 2000년대 초, 자이스가 반도체 사업을 분사하여 설립한 SMT사에 자본 참여를 했으며, 2012년에는 광원 공급 업체인 미국의 사이머^영어를, 2020년에는 다른 광학 제조업체를 인수하여 광학 기술을 내재화했다.

2020년 현재, ASML은 7 nm 노드 이하의 노광을 가능하게 하는 극자외선 리소그래피(EUVL) 장치를 세계에서 유일하게 제조하여 판매하고 있다.

3.1. Immersion lithography (액침 노광)

린 번정이 1970년대에 침액 노광을 처음 제안한 이래, ASML은 TSMC와 협력해 왔다. 2004년, TSMC는 ASML의 액침 노광 기술을 사용하여 90나노미터 반도체 공정의 상업적 생산을 시작했다. 2011년 기준으로, ASML의 고급 TWINSCAN NXT:1950i 시스템은 침액 렌즈와 193 nm 파장의 빛을 생성하는 불화 아르곤 레이저를 사용하여 시간당 최대 200개의 웨이퍼로 32 나노미터까지의 패턴을 생산했다. 2011년 당시, 평균적인 노광 장비 가격은 27였다.

IDM 및 파운드리와 같은 반도체 제조업체는 무어의 법칙에 따라 제조하는 집적 회로(IC)를 미세화하고 있다. IC 제조 공정은 감광 재료(포토레지스트) 막으로 덮인 실리콘 웨이퍼 위에 패턴을 광학적으로 결상하여 노광하는 단계를 웨이퍼 한 장 위에서 30~40회 반복한 후 가공하여 실리콘 위에 전자 회로를 형성한다. 노광 장비의 성능은 IC의 성능과 직결되므로 ASML은 지속적으로 연구 개발을 진행하고 있다.

ASML은 액침 기술을 채택하여 2003년 이후 약진했다. 현대 액침 노광 기술에 관한 기본 특허를 보유한 니콘과는 2019년까지 여러 차례 법적 분쟁을 겪었다. 2006년에 출하된 "XT:1700i"는 45 나노미터(nm) 세대 양산을 위한 ArF 액침 스캐너로, 광학계의 개구수(NA)가 기존 한계치 1.00을 넘어 1.20을 실현했다.

최근 노광 장비는 광원으로 자외선을 방출하는 ArF 엑시머 레이저와 액침 노광 기술을 사용하며, 2019년에는 액침 노광 장치의 해상도가 13 nm에 달했다.

3.2. DUV lithography (심자외선 노광)

ASML의 심자외선(DUV) 리소그래피 장비는 마이크로칩 구조를 형성하는 작은 특징을 인쇄하기 위해 자외선 스펙트럼을 통과하는 빛을 사용한다. IDM 및 파운드리와 같은 반도체 제조업체는 집적 회로(IC)를 미세화하고 있다. IC 제조 공정은 감광 재료(포토레지스트) 막으로 덮인 실리콘 웨이퍼 위에 패턴을 광학적으로 결상하여 노광하는 단계를 웨이퍼 한 장 위에서 30~40회 반복한 후 가공하여 실리콘 위에 전자 회로를 형성한다. 노광 장비의 성능은 IC의 성능과 직결되므로 ASML은 지속적으로 연구 개발을 진행하고 있다.

ASML은 액침 기술을 채택하여 2003년 이후 약진했다. 현대의 액침 노광 기술에 관한 기본 특허를 보유한 니콘과는 2019년까지 여러 차례 법적 분쟁을 겪었다. 2006년에 출하된 "XT:1700i"는 45나노미터(nm) 세대의 양산을 위한 ArF 액침 스캐너로, 광학계의 개구수 (NA)가 기존 한계치 1.00을 넘어 1.20을 실현했다. 최근 노광 장비는 광원으로 자외선을 방출하는 ArF 엑시머 레이저와 액침 노광 기술을 사용하며, 2019년에는 액침 노광 장치의 해상도가 13 nm에 달했다.

3.3. EUV lithography (극자외선 노광)

극자외선 리소그래피(EUV)는 가장 작고 복잡한 칩 설계를 만드는 데 사용되는 핵심 기술이다. ASML은 EUV 시장에서 사실상 독점적 지위를 차지하고 있으며, 뚜렷한 직접 경쟁자는 없다. ASML의 기계는 8나노미터 크기의 패턴을 새길 수 있는데, 이는 사람의 머리카락 두께가 약 80,000나노미터라는 점을 감안할 때 놀라운 성과이다.

극자외선 리소그래피(EUV) 장비는 고에너지 레이저를 녹은 주석의 미세한 방울에 집중시켜 플라즈마를 생성하고, 이 플라즈마가 EUV 광선을 방출하여 13.5 nm 파장 범위의 빛을 생성한다. 이 빛은 자이스 거울에 반사되어 실리콘 웨이퍼 표면에 닿아 칩 설계를 전달한다.

2009년, 벨기에의 IMEC 연구 센터는 시제품 EUV 리소그래피 장비를 사용하여 세계 최초의 기능성 22 nm CMOS 정적 램 메모리 셀을 생산했다. 수십 년간의 개발 끝에 ASML은 2013년에 최초의 양산형 극자외선 노광 장치를 출하했다.

2022년 기준으로 ASML은 약 140대의 EUV 시스템을 출하했으며, 이를 제조하는 유일한 회사이다. ASML의 베스트셀러 EUV 제품은 TWINSCAN NXE:3600D로, 최대 200에 달한다. 트럭 크기의 기계를 운송하려면 180톤을 세 대의 보잉 747 항공기로 옮겨야 한다.

ASML은 차세대 EUV 시스템을 개발하고 있으며, 2023년 말에 연구 개발 목적으로 고객에게 첫 출하가 이루어질 것으로 예상된다. 이 플랫폼은 개구수 (NA)를 0.33에서 0.55로 증가시킬 예정이므로 High-NA로 지정되었으며, 각 시스템의 예상 비용은 300이다.

ASML의 EUV 장비는 최근 몇 년 동안 현대 전자 제품의 복잡성과 성능 요구 사항 증가에 힘입어 수요가 급증했다. 이러한 수요 증가는 회사의 꾸준한 수익 성장으로 이어져 5년 전 130억 달러에서 2023년에는 300억 달러에 달했다.

2020년 현재 ASML은 7 nm 노드 이하의 노광을 가능하게 하는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 장치를 세계에서 유일하게 제조하여 1대당 240억 엔에 판매한다.

3.4. 나노 임프린트 리소그래피

액침 리소그래피와 EUV 리소그래피 외에도, ASML은 임프린트 리소그래피를 포함하는 충실한 지적 재산권 포트폴리오를 보유하고 있다.

4. 기술

ASML에서 생산하는 광학 노광(Photolithography^영어) 공정 장비는 집적 회로의 패턴을 새길 때 사용한다. 패턴은 광학적 이미징을 통해 감광 물질이 코팅된 실리콘 웨이퍼 위에 만들어진다(포토레지스트 Photoresist^영어 공법). 이러한 절차는 웨이퍼 한 장 위에 수십 번 반복된다.

2010년 집계에 따르면 ASML의 반도체 리소그래피 공정 장치 점유율은 67%에 달했다. 캐논, 니콘 등 경쟁 업체가 있으나 기술력 차이를 크게 벌렸다. 특히 기술적 난점이 많은 EUV 노광 장치 개발 성공으로, 최고의 반도체 제조 장치 업체로 꼽히던 어플라이드 머티어리얼즈의 시가총액을 추월하였다. IDM 및 파운드리와 같은 반도체 제조업체는 제조하는 집적 회로(IC)를 미세화하고 있다. IC 제조 공정은 감광 재료(포토레지스트) 막으로 덮인 실리콘 웨이퍼 위에 패턴을 광학적으로 결상하여 노광하는 단계를 웨이퍼 한 장 위에서 30~40회 반복한 후 가공하여 실리콘 위에 전자 회로를 형성한다. 노광 장비의 성능은 IC의 성능과 직결되므로 ASML은 지속적으로 연구 개발을 진행하고 있다.

ASML은 액침 기술을 채택하여 2003년 이후 약진했다. 현대의 액침 노광 기술에 관한 기본 특허를 보유한 니콘과는 2019년까지 여러 차례 법적 분쟁을 겪었다. 2006년에 출하된 "XT:1700i"는 45나노미터 (nm) 세대의 양산을 위한 ArF 액침 스캐너로, 광학계의 개구수 (NA)가 기존 한계치 1.00을 넘어 1.20을 실현했다.

최근 노광 장비는 광원으로 자외선을 방출하는 ArF 엑시머 레이저와 액침 노광 기술을 사용하며, 2019년에는 액침 노광 장치의 해상도가 13 nm에 달했다.

2020년 현재 ASML은 7 nm 노드 이하의 노광을 가능하게 하는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 장치를 세계에서 유일하게 제조하여 1대당 24에 판매한다.

광학계는 이전부터 칼 자이스가 공급해 왔으며, 렌즈는 형석 및 석영을 사용하고 있으며, 최근에는 반사경을 조합한 광학계도 있다. 기술을 아웃소싱하는 전략은 국내외에서 오픈 이노베이션의 성공 사례로 평가받았다.

사업이 약진하기 시작하면서 2000년대 초 자이스가 반도체 사업을 분사하여 자회사로 한 SMT사에 자본 참여했으며, 2012년에는 이전부터 광원을 공급하는 미국의 사이머와 2020년에는 다른 광학 제조업체를 각각 인수하여 광학 기술을 내재화했다.

ASML은 네덜란드의 정책 금융으로 파산을 면한 후, 일본의 독주를 적대시한 미국이 보유한 기술을 도입하고, 타사를 인수하여 성장의 계기로 삼았다.

5. 시장 점유율

2010년 집계에 따르면 ASML의 반도체 리소그래피 공정 장치 점유율은 67%에 달하였다. 경쟁 업체로는 캐논, 니콘이 있으나 이들과 기술력 차이를 크게 벌렸으며, 특히 기술적 난점이 많은 EUV 노광 장치 개발 성공으로 최고의 반도체 제조 장치 업체로 꼽히던 어플라이드 머티어리얼즈의 시가총액을 추월하였다.

2019년 매출액 기준 ASML의 노광 장비 세계 시장 점유율은 81.2%이다. 1996년에는 일본의 니콘이 약 50% 미만, 캐논이 약 25%의 점유율을 차지했다. ASML은 2002년에 처음 1위를 차지했으며, 2005년 이후 니콘을 완전히 추월했다.

2018년 매출액 기준 노광 장비의 내역을 살펴보면, EUV에서 세계 시장 점유율 100%, ArF 액침에서 97%, KrF에서 65%로 고분해능 노광 장비에서 압도적인 점유율을 차지하고 있다.

6. 재무

ASML^영어의 재무 데이터는 다음과 같다.

2022년 6월 29일 기준 주요 기관 투자자는 다음과 같다.

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📌 열 고정 해제

투자자	주식 수	지분율	가치 (USD)
Price (T. Rowe) Associates Inc	10,991,878	2.70%	5152
Capital World Investors	6,492,254	1.60%	3043
Fisher Asset Management, LLC	4,595,741	1.13%	2154
Capital International Investors	3,919,239	0.96%	1837
Morgan Stanley	3,156,574	0.78%	1479
WCM Investment Management, LLC	3,089,503	0.76%	1448
Edgewood Management Company	2,919,498	0.72%	1368
State Farm Mutual Automobile Insurance Co	2,834,225	0.70%	1328
FMR, LLC	2,763,695	0.68%	1295
Sands Capital Management, LLC	1,942,740	0.48%	910

2022년 9월 29일 기준 주요 뮤추얼 펀드 투자자는 다음과 같다.

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📌 열 고정 해제

투자자	주식 수	지분율	가치 (USD)
American Balanced Fund	2,523,702	0.62%	1183
Growth Fund Of America Inc	2,407,395	0.59%	1128
iShares Core MSCI EAFE ETF	2,138,919	0.53%	1002
Washington Mutual Investors Fund	2,138,040	0.53%	1002
Advisors Inner Circle Fund-Edgewood Growth Fd	1,623,694	0.40%	761
Price (T.Rowe) Growth Stock Fund Inc.	1,627,216	0.40%	762
iShares MSCI Eafe ETF	1,319,874	0.32%	618
Invesco ETF Tr-Invesco QQQ Tr, Series 1 ETF	1,264,161	0.31%	592
New Perspective Fund Inc	1,217,878	0.30%	570
Investment Managers Ser Tr-WCM Focused International Growth Fd	1,197,952	0.29%	561

7. 수상

* ASML은 극자외선 리소그래피 시스템으로 IEEE 스펙트럼 신기술 2018 어워드를 수상했다. ASML은 현재 반도체 산업에 포토 리소그래피 시스템을 공급하는 최고의 기업이다.
* 바딤 바닌(Vadim Banine)은 마이크로칩 제조의 미래를 개척한 공로로 2018년 유럽 발명가상 인기상 부문을 수상했다.
* 유럽 최대의 독립 마이크로 전자 연구 센터인 IMEC에서 ASML의 마틴 반 덴 브링크(Martin van den Brink)는 2019년 IMEC 혁신 공로상을 수상했다.
* 네덜란드 투자 관계 협회(NEVIR)는 2019년 네덜란드 IR 어워드 연례 시상식에서 ASML에 "투자 관계 분야 최고의 기업" 부문 상을 수여했다.
* ASML은 SEMI의 마이크로 전자 공학 컨퍼런스인 SEMICON West 2020에서 극자외선 리소그래피(EUV)에 대한 협력적 접근 방식을 인정받아 SEMI 아메리카 어워드를 수상했다. 이는 상업적 실행 가능성을 높이고 새로운 기술적 가능성을 열어주었다.
* ASML은 2020년 인텔 우수 품질 공급업체(PQS) 어워드를 수상했다. ASML은 지속적인 품질 개선에 대한 약속을 통해 인텔의 기대를 지속적으로 뛰어넘는 수준의 성과를 달성했다.
* ASML은 Wassenaar의 Kasteel Wittenburg에서 열린 제4회 전국 BID AVROTROS 혁신 만찬에서 2021년 네덜란드 혁신상을 수상했다.
* ASML은 기업과 스타트업 간의 가장 성공적이고 영향력 있는 혁신적 파트너십에 대한 첫 번째 CoSta 어워드를 수상했다.

8. 일본 법인

2001년에 설립되어 도쿄(고텐야마 트러스트 타워)에 본사 사무실을 두고 있으며, 이와테현 기타카미시, 야마가타현 쓰루오카시, 미에현 요카이치시, 히로시마현 히가시히로시마시, 나가사키현 이사하야시, 구마모토현 마시키군, 오이타현 오이타시에 사무실을 두고 있다.