맨위로가기 타임라인 바로가기

집적 회로

"오늘의AI위키"는 AI 기술로 일관성 있고 체계적인 최신 지식을 제공하는 혁신 플랫폼입니다.
"오늘의AI위키"의 AI를 통해 더욱 풍부하고 폭넓은 지식 경험을 누리세요.
타임라인 바로가기

1. 개요

집적 회로는 회로 소자들을 상업적 목적으로 불가분하게 배선한 것으로, 모놀리식 집적 회로, 3D IC, 2.5D IC, 멀티칩 모듈 등 다양한 형태로 제작된다. 1949년 독일의 베르너 야코비의 반도체 증폭기 특허를 시작으로, 잭 킬비와 로버트 노이스의 독자적인 기술 개발을 통해 발전했다. 집적 회로는 트랜지스터의 수에 따라 SSI, MSI, LSI, VLSI, ULSI 등으로 분류되며, 제조 기술의 발전에 따라 지속적으로 미세화되어 왔다. 현재는 5nm 공정 기술이 사용되고 있으며, 수율, 반도체 고장 분석, 보안 칩, 지적 재산권 등의 다양한 측면에서 연구 및 기술 개발이 이루어지고 있다. 한국은 반도체 제조 강국으로, 세계적인 수준의 제조 기술과 설비를 보유하고 있다.

더 읽어볼만한 페이지

  • 1949년 컴퓨팅 - 에드삭
    케임브리지 대학교에서 모리스 윌크스가 설계한 에드삭은 수은 지연선 메모리와 진공관을 사용하여 과학 연구 및 게임 개발에 활용되었으며, 최초의 어셈블러를 포함한 실용적인 저장 프로그램식 컴퓨터 중 하나로 소프트웨어 산업 발전에 기여했다.
  • 반도체 소자 - 서미스터
    서미스터는 온도에 따라 저항이 변하는 반도체 소자로, 온도-저항 특성에 따라 NTC, PTC, CTR 서미스터로 나뉘며 온도 센서, 과전류 방지 등 다양한 용도로 사용되고, 저항-온도 관계는 B 상수 방정식이나 슈타인하르트-하트 방정식으로 표현되어 여러 분야에 적용된다.
  • 반도체 소자 - 태양 전지
    태양전지는 빛 에너지를 전기 에너지로 변환하는 장치로, 기술 발전을 거듭하여 발전 효율이 크게 향상되었고 다양한 분야에 응용되고 있으며, 고집광 태양전지와 페로브스카이트 태양전지 등의 새로운 기술 개발과 투자가 지속적으로 요구되는 지속 가능한 에너지원이다.
  • 집적 회로 - 실시간 시계
    실시간 시계(RTC)는 CPU 개입 없이 독립적으로 시간을 유지하며, 저전력 소비와 시간 민감 작업의 부담 감소, 절전 모드 유지를 위해 디지털 카운터 회로, 결정 진동자, 배터리 등으로 구성되어 PC 메인보드에 부착되거나 사우스브리지 칩 또는 마이크로컨트롤러에 내장된다.
  • 집적 회로 - NMOS 논리
    NMOS 논리는 n형 MOSFET만을 사용하여 논리 게이트를 구현하는 방식으로, 저항을 부하로 사용하여 NOR 게이트 등을 구현할 수 있지만, Low에서 High로의 전환 속도가 느리고 전력 소비가 높아 CMOS 논리에 밀려 현재는 제한적으로 사용된다.
집적 회로
지도
기본 정보
다른 이름마이크로칩, 칩
영어integrated circuit
개요
정의작은 반도체 조각 위에 만들어진 전자 회로
관련 기술반도체 기술
기술적 특징
구성 요소트랜지스터
다이오드
저항
커패시터
집적도수백만 개 이상의 전자 부품 집적 가능
종류
분류아날로그 집적 회로
디지털 집적 회로
기능별 분류메모리
마이크로프로세서
논리 회로
증폭기
전원 관리 회로
제조 과정
핵심 공정웨이퍼 제조
산화 공정
포토 공정
식각 공정
이온 주입
금속 배선
패키징
역사
초기 개발1950년대 후반
초기 제품게르마늄 기반 트랜지스터
실리콘 기술 발전1960년대
집적도 발전VLSI (초고밀도 집적 회로), ULSI (극초고밀도 집적 회로)
응용 분야
전자 기기컴퓨터
스마트폰
가전 제품
산업 자동화
자동차
의료 기기
기타
참고다이 (die)

2. 정의

집적 회로는 "모든 또는 일부의 회로 소자들이 상업용 따위의 목적으로 불가분하게 배선돼있는 것"으로 정의된다.[149] 이 정의를 만족하는 회로들은 박막 트랜지스터, 박막기술, 하이브리드 집적 회로 등이 있다.[150][151]

3. 역사

집적 회로(IC)의 역사는 여러 단계의 발전을 거쳐왔다. 초기에는 진공관을 대체하기 위한 노력에서 시작되었으며, 이후 트랜지스터의 발명과 함께 본격적인 집적 회로 개발이 이루어졌다.

1926년에는 여러 부품을 하나의 장치에 결합하려는 시도로 뢰베 3NF 진공관[4][5]이 제작되었다. 이 진공관은 독일에서 라디오 수신기 소켓 수에 따라 세금을 부과했기 때문에, 세금 탈루를 목적으로 설계되었으며, 라디오 수신기에 단일 진공관 소켓을 사용할 수 있게 해주었다. 100만 개가 제조되었으며, "무선 전자 장치 통합의 첫걸음"이었다.[6] 이 장치는 6핀 장치 내에 3개의 삼극관, 2개의 커패시터, 4개의 저항기로 구성된 증폭기를 포함하고 있었다.[7]

초기 집적 회로 개발은 여러 연구자들의 노력으로 이루어졌다. 1949년 독일의 베르너 야코비는 5개의 트랜지스터를 3단계 증폭기 배열로 배치한 반도체 증폭 장치에 대한 특허를 출원했다.[12] 그는 소형 보청기를 특허의 예시로 제시했지만, 상업적 이용은 보고되지 않았다. 영국의 제프리 더머는 1952년 워싱턴 D.C.에서 열린 심포지엄에서 집적 회로 아이디어를 발표했다.[13] 그는 여러 심포지엄을 통해 아이디어를 알렸지만, 1956년 회로 제작 시도는 실패했다. 1950년대에는 시드니 달링턴과 야스오 타루이가 여러 트랜지스터가 공통 활성 영역을 공유하는 칩 설계를 제안했지만, 전기적 절연은 없었다.[10]

장 에르니의 평면 공정과 쿠르트 레호벡의 P-N 접합 절연 발명은 단일 기판 집적 회로 칩을 가능하게 했다. 에르니의 발명은 이산화규소 마스킹과 전예침착에 의한 표면 보호 및 패시베이션에 관한 연구를 기반으로 했다.[14][15][16]

잭 킬비는 1958년 텍사스 인스트루먼트에서 최초의 작동하는 집적 회로를 시연했고,[25] 로버트 노이스페어차일드 반도체에서 실리콘 기반의 단일 기판 IC 칩을 발명했다.[31][30] 노이스의 칩은 평면 공정을 사용하여 제작되었고, 현대 IC 칩의 기반이 되었다.[31][30] 1961년부터 1965년까지 NASA의 아폴로 계획은 집적 회로의 가장 큰 소비자였다.[32]

RCA의 마이크로 모듈, 웨스팅하우스 일렉트릭의 분자 전자 장치, 텍사스 인스트루먼츠의 솔리드 스테이트 회로 등 여러 기업이 집적회로 실현을 목표로 개발을 진행했다.[127] 초기 집적 회로는 모놀리식 IC보다는 하이브리드 IC에 가까웠으며, 박막 집적 회로와 후막 집적 회로가 개발되었다.[127] 1958년 웨스팅하우스는 "Molectronics"라는 집적 회로 개념을 발표했고,[124] 1960년 전기시험소는 멀티칩 구조의 하이브리드 IC 시제품 제작에 성공했다.[125][126] 1961년 미쓰비시 전기는 11종류의 모레트론을 발표했다.[127] 일본 최초의 모놀리식 집적 회로는 도쿄대학과 일본전기(NEC)의 공동 개발로 여겨진다.[128]

집적 회로 특허는 텍사스 인스트루먼츠의 잭 킬비와 페어차일드 세미컨덕터의 로버트 노이스에게 각각 발행되었지만, 특허 우선권을 둘러싼 법적 분쟁이 발생했다. 결국 노이스의 특허가 유효한 것으로 인정되었지만, 실제로는 양사 간 라이선스 제공 합의가 이루어져 큰 의미는 없었다.

집적 회로는 집적하는 소자의 수에 따라 SSI, MSI, LSI 등으로 분류된다.[129] 초기에는 SSI(소규모 집적) 수준이었지만, 기술 발전으로 MSI(중규모 집적), LSI(대규모 집적)를 거쳐 VLSI(초고밀도 집적), ULSI(초대규모 집적)로 발전했다.

3. 1. 집적 회로의 탄생

초기 집적 회로 개발은 1949년 독일 공학자 베르너 야코비가 집적 회로와 유사한 반도체 증폭 기기에 대한 특허를 획득하면서 시작되었다.[152][153] 야코비는 공통 기판 위에 5개의 트랜지스터를 배치한 3단 증폭기 배열을 특허로 제시했고, 그 예시로 작고 저렴한 보청기를 들었지만, 상업적 사용은 알려지지 않았다.

집적 회로의 아이디어는 영국 국방성의 왕립 레이다 시설에서 일하던 레이다 과학자 제프리 더머가 고안했다. 더머는 1952년 5월 7일 워싱턴 D.C.에서 열린 심포지엄에서 이 아이디어를 발표하고[154] 여러 심포지엄에서 알렸지만, 1956년 회로 구현 시도는 실패했다.

1958년, 잭 킬비는 미 육군에 소형 세라믹 기판에 개별 소자를 통합하는 마이크로모듈을 제안했고, 이는 미 육군의 초소형 전자제품 개발 계획으로 이어졌다.[155] 그러나 킬비는 콘덴서저항기를 트랜지스터와 동일한 반도체 물질 기판 위에 제조, 집적하는 혁신적인 집적 회로를 고안했다.

텍사스 인스트루먼트에 입사한 킬비는 1958년 7월에 집적 회로에 대한 아이디어를 기록하고, 1958년 12월 12일에 작동하는 집적 회로를 시연했다.[156] 1959년 2월 6일 특허 신청서에서 킬비는 "모든 소자들이 전자회로 안에 완벽히 집적된 반도체 몸체"라고 묘사했다.[157] 그의 첫 고객은 미국 공군이었다.[158] 킬비는 1982년 미국 발명가 명예의 전당에 오르고 2000년 노벨 물리학상을 받았다.[159]

킬비의 발명 반년 후, 페어차일드 반도체로버트 노이스는 킬비가 풀지 못한 실용적 문제들을 해결한 집적 회로 아이디어를 고안했다. 노이스의 집적 회로는 게르마늄 대신 실리콘으로 만들어졌고, P-N 접합 절연을 통해 실리콘 위 트랜지스터를 독립적으로 동작시켰다.[160]

페어차일드 반도체는 또한 1968년 이탈리아 물리학자 페데리코 파긴이 개발한 셀프 얼라인 게이트를 이용한 첫 실리콘 게이트 집적 회로를 만들었다. 파긴은 이후 인텔에 합류하여 첫 단일 칩 CPU인 인텔 4004를 개발했고, 2010년 전미 기술메달을 받았다.

킬비와 노이스는 모두 미국 국가 기술상을 받고, 미국 발명가 명예의 전당에 올랐다.

3. 2. SSI, MSI, LSI

초기 집적 회로는 트랜지스터 몇 개만 포함된 소규모 집적(SSI, small-scale integration) 회로였다. SSI 디지털 회로는 수십 개의 트랜지스터만을 포함하여 소수의 논리 게이트를 구현했다. 예를 들어 초기 리니어 IC는 2개의 트랜지스터만으로 구성되었다. '대규모 집적'이라는 용어는 IBM의 연구원 롤프 란다우어가 이론적 개념을 설명하면서 처음 사용했으며, 여기서 SSI, MSI, VLSI, ULSI와 같은 용어가 유래했다.[105]

1960년대 후반에는 한 칩에 수백 개의 트랜지스터를 집적한 중규모 집적(MSI, Middle Scale Integration) 회로가 등장했다. MSI는 100~1000개의 트랜지스터를 포함하며, 인코더, 디코더, 카운터, 레지스터, 멀티플렉서 및 디멀티플렉서, 소형 기억 장치 등 더 복잡한 기능을 수행했다. MSI 소자는 SSI 소자보다 생산 비용이 조금 더 들었지만, 더 복잡한 시스템을 구현할 수 있어 경제적이었다.

1970년대 중반에는 한 칩에 수만 개의 트랜지스터를 포함하는 대규모 집적(LSI, large-scale integration) 회로가 개발되었다. LSI는 메모리 등과 같이 하나의 칩에 1,000~10,000개에 이르는 등가 게이트를 포함하는 부류이다. 1974년경에는 컴퓨터의 메인 메모리와 2세대 마이크로프로세서에 사용되는 LSI 회로가 생산되기 시작했다.

약어명칭연도트랜지스터 수[103]논리 게이트 수[104]
SSI소규모 집적(small-scale integration)19641~101~12
MSI중규모 집적(medium-scale integration)196810~50013~99
LSI대규모 집적(large-scale integration)1971500~20,000100~9,999
VLSI초대규모 집적(very large-scale integration)198020,000~1,000,00010,000~99,999
ULSI초고집적(ultra-large-scale integration)19841,000,000 이상100,000 이상


3. 3. VLSI

1980년대에는 수십만 개 이상의 트랜지스터를 집적한 초고밀도 집적 회로(VLSI) 기술이 등장했다. 이 발전은 1980년대 초 수십만 개의 트랜지스터로 시작해서 2009년 수십억 개의 트랜지스터를 넘어서며 발전하고 있다.[163]

이러한 집적도를 높이기 위해 여러 단계의 발전이 필요했다. 생산 기업들은 수율을 유지하면서 더 많은 트랜지스터를 포함하는 칩을 만들기 위해 세밀한 설계와 깨끗한 생산시설을 추구했다. CMOS는 에너지 효율이 더 좋기 때문에, 전력 소비의 증가를 피하면서 NMOS(N-channel metal oxide semiconductor, N형 금속 산화막 반도체)와 PMOS(P-channel metal oxide semiconductor, P형 금속 산화막 반도체)를 대체했다. 1986년에 백만 개가 넘는 트랜지스터를 포함하는 최초의 1Mb 크기의 램이 소개되었다. 1989년 마이크로프로세서 칩에는 백만 개가 넘는 트랜지스터가 들어갔고, 2005년에는 십억 개의 트랜지스터가 들어갔다.[163] 기술 발전은 조금도 수그러들지 않고, 2007년에는 수백억 개의 메모리 트랜지스터가 들어간 칩이 개발되었다.[164]

인텔 80486DX2 마이크로프로세서 다이의 상층 배선 층


복잡성이 더욱 커진 것을 반영하는 ULSI(Ultra-Large-Scale Integration)는 백만 개가 넘는 트랜지스터를 포함하는 초대규모 집적을 의미한다.[165] 트랜지스터를 1,000,000개 이상 포함하고, 인텔의 486이나 펜티엄이 ULSI에 해당한다. VLSI와 ULSI를 정확하게 구분하기는 어렵다.

3. 4. ULSI, WSI, SoC, 3D-IC

1980년대 후반에는 100만 개 이상의 트랜지스터를 집적하는 초대규모 집적(ULSI) 기술이 등장했다.[165] ULSI는 트랜지스터를 1,000,000개 이상 포함하며, 인텔의 486이나 펜티엄이 이에 해당한다. VLSI와 ULSI를 정확하게 구분하기는 어렵다.

웨이퍼 스케일 통합(WSI)은 웨이퍼 전체를 사용해 하나의 거대한 집적 회로를 만드는 기술이다.[166] WSI는 큰 규모와 줄어든 패키징을 통해, 특히 병렬 슈퍼컴퓨터 같은 일부 시스템에서 비용을 획기적으로 줄였다.

시스템 온 칩(SoC)은 컴퓨터 또는 다른 시스템에 필요한 모든 구성 요소를 단일 칩에 통합한 집적 회로이다.[167] 이러한 기기의 설계는 복잡하고 비용이 많이 들지만, 적은 제조 비용과 조립 비용, 그리고 상당히 줄어든 전력 소모로 상쇄될 수 있다.

3차원 집적 회로(3D-IC)는 여러 층의 활성 전자 소자를 수직 및 수평으로 통합한 것이다.[168] 층간 통신은 단일 실리콘에서 이뤄지는 신호를 이용하며, 결과적으로 전력 소모가 분리된 동일 회로보다 적게 든다. 짧은 수직 회로 선을 이용하면 작동 속도를 높일 수 있다.

4. 회로 설계

복잡한 집적 회로를 설계하고 개발하는 데 드는 비용은 매우 높으며, 일반적으로 수천만 달러에 달한다.[78][79] 따라서 고부가가치의 집적 회로 제품을 생산하는 것이 경제적으로 타당하며, 이로 인해 비반복적 엔지니어링(NRE) 비용은 일반적으로 수백만 개의 생산 유닛에 분산된다.

현대의 반도체 칩은 수십억 개의 구성 요소를 가지고 있으며, 수작업으로 설계하기에는 너무 복잡하다. 설계자를 돕는 소프트웨어 도구가 필수적이다. 전자 설계 자동화(EDA)(전자 컴퓨터 지원 설계(ECAD))[80]는 집적 회로를 포함한 전자 시스템을 설계하기 위한 소프트웨어 도구의 범주이다. 이러한 도구는 엔지니어가 전체 반도체 칩을 설계, 검증 및 분석하는 데 사용하는 설계 흐름에서 함께 작동한다. 최신 EDA 도구 중 일부는 인공 지능(AI)을 사용하여 엔지니어가 시간을 절약하고 칩 성능을 향상시키도록 지원한다.

5. 제조

집적 회로 제조는 크게 전공정과 후공정으로 나뉜다. 전공정은 웨이퍼 위에 포토리소그래피, 증착, 식각 등의 단계를 거쳐 회로를 형성하는 과정이다. 후공정은 웨이퍼를 다이 단위로 잘라내고 패키징하여 외부와 연결하고, 테스트를 거쳐 완제품을 만드는 과정이다.[88]

세 개의 금속층을 가진 작은 표준 셀의 렌더링(유전체는 제거됨). 모래색 구조는 금속 상호연결이며, 수직 기둥은 일반적으로 텅스텐 플러그인 접점이다. 붉은색 구조는 폴리실리콘 게이트이며, 바닥의 고체는 결정질 실리콘 벌크이다.


2000년대 초에 제작된 CMOS 칩의 개략적인 구조. 이 그림은 5개의 금속화 층과 플립 칩 본딩을 위한 솔더 범프가 있는 SOI 기판 상의 LDD-MISFET를 보여준다.


주로 단결정 실리콘이 반도체 재료로 사용되며, LED, 레이저 등 특수 용도에는 갈륨 비소와 같은 화합물 반도체가 사용되기도 한다. 포토리소그래피 공정을 통해 웨이퍼의 특정 영역에 도핑하거나, 폴리실리콘, 절연체, 금속(주로 알루미늄 또는 구리) 배선을 형성한다.

집적 회로는 여러 층이 겹쳐진 구조로, 각 층은 포토리소그래피로 패턴을 형성한다. 확산층, 이온 주입층, 도체층, 절연층 등이 조합되어 트랜지스터, 축전기, 저항기 등의 소자를 구성한다. CMOS 소자는 바이폴라 접합 트랜지스터에 비해 전류 소비가 적다.

RAM은 가장 규칙적인 구조를 가지는 집적 회로이며, 마이크로프로세서에도 메모리가 내장된다. 각 소자는 패키징 전에 자동 테스트 장비(ATE)를 통해 테스트되며, 웨이퍼는 다이 단위로 절단된다. 각 다이는 와이어 본딩을 통해 패키지에 연결되고, 최종 테스트를 거쳐 출하된다.[88]

제조 시설(팹) 건설에는 막대한 비용이 소요되며, 공정 미세화에 따라 비용은 더욱 증가한다. 2022년 기준, 첨단 제조 시설 건설에는 120억 달러 이상이 필요할 수 있다.[89]

집적 회로는 집적 소자 제조업체(IDM)에서 자체적으로 제조하거나, 파운드리 모델을 통해 제조할 수 있다. IDM은 설계, 제조, 판매를 모두 수행하는 반면, 팹리스 회사는 설계를 담당하고 제조는 파운드리에 위탁한다.

초기 집적 회로는 세라믹 평면 패키지에 담겼으나, 이후 듀얼 인라인 패키지(DIP)가 널리 사용되었다. 1980년대에는 핀 수가 많은 VLSI 회로를 위해 핀 그리드 어레이(PGA), 리드리스 칩 캐리어(LCC) 패키지가 등장했다. 표면 실장 기술 패키징은 1980년대 후반부터 널리 사용되었으며, 소형 외장형 집적 회로(SOIC) 패키지는 DIP보다 면적을 30~50%, 두께를 70% 줄일 수 있다.

1990년대 후반에는 플라스틱 쿼드 플랫 패키지(PQFP), 박형 소형 외장형 패키지(TSOP)가 널리 사용되었고, PGA는 하이엔드 마이크로프로세서에 사용되었다. 볼 그리드 어레이(BGA) 패키지는 1970년대부터 사용되었으며, 1990년대에는 플립 칩 BGA(FCBGA) 패키지가 개발되어 더 많은 핀 수를 수용할 수 있게 되었다.

패키지된 집적 회로는 제조사, 부품 번호, 생산 배치 번호, 제조 날짜 등의 정보를 포함한다. 제조 날짜는 일반적으로 연도와 주(week) 코드로 표시된다. (예: 8341 코드는 1983년 41주차에 제조)

5. 1. 웨이퍼 제조

집적 회로의 기반이 되는 웨이퍼는 주로 단결정 실리콘으로 만들어진다. 웨이퍼의 크기는 수율과 비용에 큰 영향을 미치는데, 2007년 말을 기준으로 웨이퍼의 직경은 300mm에 달했다.[173] 잉곳이 클수록 결정결함을 줄이는 것이 어려워 많은 제조사들이 어려움을 겪었으나, 초전도 자석을 사용하여 녹은 실리콘의 대류를 억제함으로써 결함이 적은 단결정을 제조하는 기술이 개발되었다.[172]

5. 2. 전공정

전공정은 설계자가 만든 회로 레이아웃에 따라 웨이퍼 위에 집적 회로를 만드는 과정이다.[86] 광학 기술, 정밀 가공 기술, 진공 기술, 통계 공학, 플라즈마 공학, 무인화 기술, 미세 섬유 공학, 고분자 화학, 컴퓨터 프로그래밍, 환경 공학 등 다양한 기술이 사용된다.

집적 회로는 반도체 표면에 여러 번의 표면 처리를 거쳐 제조된다. 먼저 웨이퍼에 이온 주입을 통해 도핑 물질을 주입하여 불순물 농도를 높인다. SOI에서는 웨이퍼에 절연층을 굽거나 접합하여 누설 전류를 억제한다. 이후 레지스트 막 도포, 스테퍼를 이용한 노광, 현상 처리 등의 레지스트 공정을 반복하고, 그 사이에 실리콘 증착, 이온 주입을 통한 도핑 물질 주입, 절연막 생성, 금속 스퍼터링을 통한 배선, 에칭을 통한 불필요한 부분 제거 등이 이루어진다(포토리소그래피).[87]

최근 또는 고성능 IC는 평면 트랜지스터 대신 다게이트 FinFET 또는 GAAFET 트랜지스터를 사용하기도 한다.[86]

반도체 공장 생산 라인 자체는 거대한 클린룸이다. 반도체 제조 현장의 청정도는 생물학적 클린룸보다 훨씬 높다. 웨이퍼 위의 박테리아 세포 하나는 트랜지스터 100개 가까이를 덮을 수 있으며, 2008년의 첨단 공정 규칙인 45nm바이러스보다 작다. 제조 중인 반도체는 나트륨에 매우 취약하여, 나트륨이 절연막에 침투하면 CMOS 트랜지스터에 치명적인 결함을 유발한다.

반도체 공장 클린룸에 들어오는 공기는 공간별로 설정된 청정도에 따라 HEPA 필터와 ULPA 필터로 공기 중 미립자를 걸러낸 것을 사용한다. 또한 물은 이온교환수지와 필터를 통해 수중 미립자를 철저히 제거한 초순수를 사용한다.

클린룸 내에서는 “우주복”이라 불리는 클린슈트를 착용하여 제조 라인을 오염시키지 않도록 한다. 공장은 고도로 자동화되어 있어 사람이 제조 라인에 나서는 경우는 기계 고장 등 문제가 발생했을 때뿐이다.

웨이퍼 위에 회로 형성이 완료되면, 반도체 시험 장비를 이용하여 회로가 정상적으로 작동하는지 확인하는 웨이퍼 테스트를 실시한다. 반도체의 동작 특성은 온도에 영향을 받으므로, 상온 외에 고온 및 저온 환경에서도 시험한다. 웨이퍼 테스트 결과는 다이에 표시되며, 양품으로 표시된 다이만 조립 대상이 된다.

5. 3. 후공정

전공정에서 양품으로 마킹된 회로를 웨이퍼에서 잘라내어 시트에 부착하고 패키지에 실장한다. 단자와 배선하고 수지로 봉입하여 최종 제품 형태를 만든다. 그 후, 초기 불량을 찾아내는 번인 테스트와 제품 기능을 확인하는 최종 테스트를 거쳐 출하한다.[88]

다이싱 공정에서는 앞 공정에서 제조된 웨이퍼를 칩 형태로 분리한다. 다이싱에는 얇은 연마석을 사용하여 절단하는 방법과 레이저를 사용하는 방법이 주로 쓰인다.

칩을 패키지 기판에 실장하고, 칩 측 단자와 패키지 단자를 연결하는 공정을 본딩이라고 한다. 본딩을 통해 배선이 완료되면, 외부 충격이나 수분으로부터 집적회로를 보호하기 위해 봉지(封止) 공정을 수행한다. 일반적인 집적회로는 몰딩제를 사용하여 칩과 본딩 와이어를 보호하기 위해 사출 성형을 한다. 집적회로의 검은 외관은 이 수지 때문이다. 수지가 굳은 후, 칩별로 분리하면 집적회로가 완성된다. 최근 CPU와 GPU, 액정 드라이버 IC 등 초고집적 집적회로에는 몰딩제를 사용하지 않고, 언더필이라고 불리는 일액 경화 수지를 사용한다. 본딩 후, 기판과 IC 사이에 주입하여 큐어로라는 장치로 리플로우하여 경화시킨다.

집적회로 고장률은 일반적으로 욕조곡선이라고 불리는 확률 분포를 따른다. 욕조곡선에서는 사용 시작 직후 높은 불량률을 보이는 초기 불량 기간을 거쳐 낮은 불량률을 유지하는 우발 고장 기간으로 이행한다. 열화를 가속하는 조건에서 단시간에 집적회로를 동작시켜 초기 불량을 찾아내는 공정이 번인(burn-in, 소성, 에이징이라고도 함)이다. 번인으로 찾아낸 초기 불량은 다음 품질 검사에서 제거된다.

구체적으로 고온에서 일정 시간 집적회로에 전류를 흘려 열화를 가속화한다. 이는 열화를 화학 반응으로 간주했을 때, 열화 속도와 온도는 아레니우스 식 관계를 따른다는 생각에 따른 것이다.

마지막으로, 집적회로가 제품으로서 정상적으로 기능하는지 확인하는 검사를 실시한다. 봉지 수지에 흠집이나 균열이 있는지, 리드 프레임이나 BGA 패키지 볼 단자에 이상이 없는지 확인하는 외관 검사와, 본딩에 의한 전기 연결이 확실하게 이루어지고 칩이 완전히 작동하는지 반도체 검사 장비로 확인하는 전기 검사를 실시한다.

EEPROM이나 플래시 메모리 등 기억 소자를 내장한 제품에서는, 프로그램을 이들에 기록하는 작업도 수행된다. 프로그램 내용을 바꿈으로써, 동일한 마스크로부터 서로 다른 등급이나 입출력 단자가 다른 집적 회로를 만들 수 있다. 또한 CPU 등 제품에서, 실제로 동작 가능한 최고 속도에 맞는 클록 배율을 후처리로 설정함으로써, 서로 다른 등급 제품을 동일 생산 라인에서 제조하고 있다.

5. 4. 공정 규칙 (Process Rule)

집적 회로 제조 공정의 미세화 정도를 나타내는 지표는 공정 규칙(Process Rule)이다. 일반적으로 최소 공정 치수는 게이트 배선의 폭 또는 간격을 의미한다. 게이트 배선 폭을 좁히면 금속 산화물 반도체 전계 효과 트랜지스터 (MOSFET)의 게이트 길이가 짧아져 소스와 드레인 간 간격이 짧아지고 채널 저항이 감소한다. 결과적으로 트랜지스터의 구동 전류가 커져 고속 동작이 가능해진다. 이러한 이유로, 공정 규칙은 '''게이트 길이'''를 가리키는 경우가 있으며, 특히 고속화를 기대할 수 있다.

프로세스 룰이 절반이 되면, 같은 면적에 4배의 트랜지스터와 배선을 배치할 수 있어, 같은 트랜지스터 수라면 면적이 4분의 1로 줄어든다. 다이 면적이 작아지면 한 장의 웨이퍼에서 얻을 수 있는 다이 수가 늘어나고 수율이 개선되어 더 많은 다이를 얻을 수 있다. 또한, 트랜지스터 소자가 작아지면 MOSFET의 채널 길이가 짧아지고 ON/OFF 임계값 전압(Vth)을 낮출 수 있어, 저전압에서 고속 스위칭 동작이 가능해진다. 이는 누설 전류 문제를 고려하지 않을 경우, 소비 전력을 낮추면서 성능을 향상시킬 수 있음을 의미한다.

전파 지연(\tau)은 다음 식과 같은 관계를 갖는다.

  • \tau = \frac{C_{load}V_{dd}T_{ox}L}{W\mu\epsilon(V_{dd}-V_t)^2}
  • \tau : 전파 지연
  • C_{load} : 부하 용량
  • V_{dd} : 전원 전압
  • T_{ox} : 게이트 산화막 두께
  • L : 게이트 길이
  • W : 게이트 폭
  • \mu : 캐리어 이동도
  • \epsilon : 게이트 산화막 유전율
  • V_t : 임계값 전압[132]


프로세스 룰은 포토마스크에서 웨이퍼에 회로를 전사하는 반도체 노광 장치의 광학 분해능, 에칭 공정의 치수 변환 차이 개선 등을 통해 업데이트된다. 무어의 법칙은 프로세스 룰의 미래 예측에 자주 인용된다.

반도체 노광 장치는 매우 높은 작업 정밀도를 요구하며, 제조 과정 대부분은 사람의 수작업으로 이루어진다. 웨이퍼를 싣는 슬라이드 테이블은 매우 고운 입자의 연마석으로 장인이 연마한 레일 위에 놓여 높은 수평도를 유지한다. 또한, 미세 패턴을 웨이퍼에 전사하는 광학계에는 원자 단위로 표면 곡률이 수정된 초정밀 렌즈가 사용된다.

5. 5. 미세화

주기율표의 화학 원소 중 반도체는 '고체 진공관'에 가장 적합한 재료로 확인되었다. 산화구리에서 시작하여 게르마늄, 그 다음 실리콘으로 이어지는 재료들은 1940년대와 1950년대에 체계적으로 연구되었다. 오늘날 단결정 실리콘은 IC에 사용되는 주요 기판이지만, 갈륨 비소와 같은 일부 III-V 주기율표의 화합물은 LED, 레이저, 태양 전지 및 최고 속도의 집적 회로와 같은 특수 응용 분야에 사용된다. 반도체 재료의 결정 구조에서 결함이 최소화된 결정을 만드는 방법을 완벽하게 만드는 데 수십 년이 걸렸다.

반도체 IC는 평면 공정으로 제작되며, 여기에는 포토리소그래피, 증착(예: 화학 기상 증착), 식각의 세 가지 주요 공정 단계가 포함된다. 주요 공정 단계는 도핑 및 세척으로 보완된다. 최근 또는 고성능 IC는 22 nm 노드(Intel) 또는 16/14 nm 노드에서 시작하여 평면 트랜지스터 대신 다게이트 FinFET 또는 GAAFET 트랜지스터를 사용할 수 있다.[86]

프로세스 룰(process rule)은 집적 회로를 웨이퍼에 제조하는 공정 조건을 의미하며, 최소 공정 치수를 사용하여 표현한다. 프로세스 룰에 따라 회로 설계에서 소자와 배선의 치수를 규정하는 디자인 룰(design rule)이 결정된다.

일반적으로 최소 공정 치수는 게이트 배선의 폭 또는 간격이다. 게이트 배선 폭을 좁힐 수 있다면 금속 산화물 반도체 전계 효과 트랜지스터 (MOSFET)의 게이트 길이가 짧아지므로 소스와 드레인 간의 간격이 짧아지고 채널 저항이 감소한다. 따라서 트랜지스터의 구동 전류가 커지고 고속 동작을 기대할 수 있다. 이 때문에 프로세스 룰은 고속화를 기대하여 '''게이트 길이'''를 가리키는 경우도 있다. 특히 DRAM 공정에서는 게이트 길이가 게이트 배선의 최소 치수를 사용하지 않는 경우도 있으며, 확산층과 메탈층을 도통시키는 콘택트의 직경이 최소 공정 치수인 경우도 있다. 즉, 프로세스 룰은 제조상의 기술적인 고도화나 어려움을 나타내는 지표라고 할 수 있다.

프로세스 룰이 절반이 되면, 다이의 외부 배선부를 제외하면 같은 면적에 4배의 트랜지스터와 배선을 배치할 수 있으므로, 같은 트랜지스터 수라면 4분의 1의 면적이 된다. 다이 면적이 4분의 1로 축소되면 한 장의 웨이퍼에서 얻을 수 있는 다이가 4배가 될 뿐만 아니라, 수율이 개선되므로 더 많은 다이를 얻을 수 있다. 트랜지스터 소자가 작아지면 MOSFET의 채널 길이가 짧아지고 ON/OFF의 임계값 전압(Vth)을 낮출 수 있어 저전압에서 고속의 스위칭 동작이 가능해지므로, 누설 전류 문제를 고려하지 않으면 소비 전력을 낮추면서 성능이 향상된다.

프로세스 룰은 포토마스크에서 웨이퍼에 회로를 전사하는 반도체 노광 장치의 광학 분해능이나, 에칭 공정의 치수 변환 차이의 개선 등으로 업데이트되어 왔다. 프로세스 룰의 미래 예측에는 무어의 법칙이 자주 인용된다.

반도체 노광 장치는 매우 높은 작업 정밀도가 요구되며, 제조의 대부분이 사람의 수작업으로 이루어진다. 웨이퍼를 싣는 슬라이드 테이블은 높은 수평도를 실현하기 위해 매우 고운 입자의 연마석으로 장인이 연마한 레일 위에 놓인다. 미세 패턴을 웨이퍼에 전사하는 광학계에는 원자 단위로 표면의 곡률이 수정된 초정밀 렌즈가 사용된다.

반도체 노광 장비 제조업체는 1~2개의 최첨단 반도체 제조업체와 공동으로 차세대 및 차차세대 반도체 노광 장비를 개발하여 우선 해당 반도체 제조업체에 공급한다. 그렇게 개발된 장비는 2~3년 후 최첨단을 잇는 반도체 제조업체가 양산을 위해 구매할 무렵이면, 최첨단 반도체 제조업체는 그 다음 세대 장비의 시험 운용을 시작한다. 이러한 순환 때문에 연산 프로세서의 공정 규칙은 350 nm/250 nm/180 nm/130 nm/90 nm/65 nm/45 nm/32 nm/22 nm/14 nm/10 nm과 같이 불연속적인 값이 일반적이다. 2020년 시점에서 최첨단 공정 규칙은 5nm에 도달했으며[133], 3nm, 2nm로 미세화가 진행될 것으로 예상된다.[134][135][136] 반면 DRAM이나 플래시 메모리와 같은 메모리 반도체는 공정 규칙을 점진적으로 축소하고 있다. DRAM에서 일반적인 공정 규칙은 2007년 65nm, 2008년 57nm로 축소되었고, 2013년에는 32nm를 예상하고 있다. 이는 제품의 급격한 저가격화로 인해 각 제조업체가 신규 투자를 자제하고 기존 설비 개선을 통해 생산성을 향상시키려는 목적이다.[137] 그러나 최첨단 미세화가 요구되는 휴대 단말기용 등에는 2010년 시점에 25nm 제품이, 2020년 시점에 10nm 제품이 출시되었다.[138]

  • 2015년, 2016년 5세대와 6세대 Intel Core를 14nm로 제조했다. 2016년 중에 10nm를 실용화(실제로는 2019년[139]), 2017년에는 7nm(실제로는 2023년 예정[140])로[141].
  • 2015년 7월, IBM은 7nm 공정의 시제품을 발표[142]하여 한 자릿수 나노미터 공정의 시대를 맞이했다.
  • 2016년 3월, 인텔은 Xeon E5-2600 v4 CPU, 14nm, 22코어/44스레드를 출시했다.[143]
  • 2016년 3월, 삼성은 18nm라고 알려진 DRAM을 출하했다.
  • 2020년 9월, TSMC의 5nm 공정으로 제작된 애플 A14가 출하되었다.[144]


미세화에 따라 공정 규칙이 사용되는 광원의 파장보다 짧아지면, 빛의 회절과 간섭으로 인해 마스크의 형태와 웨이퍼에 생성되는 패턴의 차이가 커져 설계대로의 회로를 형성할 수 없게 된다. 이 문제를 해결하기 위해 130nm 이하의 규칙에서 이러한 광학 효과를 미리 회로 설계에 반영하는 광학 근접 효과 보정이 이루어지게 되었다. 광학 근접 효과 보정은 EDA에 의한 자동화가 보편화되고 있다.

2020년경에는 5nm에 도달하여 CMOS를 이용한 미세화의 한계가 올 것이라는 추측이 있으며, 새로운 소재·구조 연구와 미세화에 의존하지 않는 집적도 향상 방안도 모색되고 있다.[145]

또한 휴대전화의 소형 카메라 이미지 센서에서는 풋프린트의 제약 때문에 매우 미세화된 이미지 센서를 사용한다. 그러나 이 센서의 화소 밀도는 가시광선 파장에서는 기존의 컬러 필터 방식이 전혀 효과가 없게 된다. 따라서 금속층으로 빛을 회절시켜 분광을 수행하거나, 질화물 반도체 소자를 사용하여 분광함으로써 공정 규칙보다 훨씬 긴 가시광선을 포토다이오드로 유도한다. APS-C 사이즈로 2000만 화소를 넘는 것도 마찬가지이다.[146]

6. 수율

수율은 웨이퍼에서 얻을 수 있는 모든 다이에 대한 양품 다이의 비율을 가리키며, 이율(yield rate)이라고도 한다. PC용 CPU처럼 같은 생산 라인에서 같은 제조 공정을 거친 제품을 완성품으로 만든 후 테스트를 통해 등급(동작 주파수)을 나누는 경우가 있으므로, 등급을 낮추면(낮은 클록으로만 동작하는 CPU라도 양품으로 간주할 수 있으므로) 수율이 상승하는 결과가 된다.[1]

7. 반도체 고장 분석

반도체 고장 분석이란 매우 많은 소자들의 집합체인 집적 회로에서 어디가, 어떻게 고장 났는지를 분석하는 기술이다. LSI 테스터(반도체 시험 장치)에서는 불량품이라는 것은 알 수 있지만, 그 회로의 어디에 이상이 있는지는 알 수 없다. 수천만 개의 트랜지스터가 집적된 회로에서 하나하나를 시험하는 것은 현실적이지 않고, 배선 불량 등이 있을 수도 있다. 따라서 집적 회로가 등장한 초기부터 집적도 향상에 따라 고장 분석 기술도 발전하고 있다.

8. 분류

집적 회로는 구성, 집적도, 패키지, 기능 등에 따라 다양하게 분류할 수 있다.

집적 회로는 크게 아날로그 회로,[81] 디지털 회로,[82] 혼합 신호 집적 회로[83]로 분류할 수 있으며, 혼합 신호 집적 회로는 동일한 IC에 아날로그 및 디지털 신호를 포함한다.

디지털 집적 회로는 수십억 개[57]의 논리 게이트, 플립플롭, 멀티플렉서 및 기타 회로를 몇 평방 밀리미터에 포함할 수 있다. 이러한 회로의 소형화는 기판 수준 통합에 비해 고속, 저전력 소모 및 제조 비용 절감을 가능하게 한다. 이러한 디지털 IC는 일반적으로 마이크로프로세서, 디지털 신호 프로세서(DSP) 및 마이크로컨트롤러이며, 부울 대수를 사용하여 "1"과 "0" 신호를 처리한다.

인텔 8742의 다이(집적 회로). 12MHz로 작동하는 CPU, 128바이트의 RAM, 2048바이트의 EPROM, 그리고 입출력(I/O)을 하나의 칩에 포함한 8비트 NMOS 마이크로컨트롤러인 인텔 MCS-48의 다이


가장 발전된 집적 회로 중에는 개인용 컴퓨터, 휴대전화 등에 사용되는 마이크로프로세서 또는 "코어"가 있다. 여러 코어를 단일 IC 또는 칩에 통합할 수 있다. 디지털 메모리 칩과 주문형 집적 회로(ASIC)는 다른 집적 회로 계열의 예이다.

센서, 전력 관리 회로 및 연산 증폭기(op-amp)와 같은 아날로그 IC는 연속 신호를 처리하고 증폭, 능동 필터링, 복조 및 믹싱과 같은 아날로그 기능을 수행한다.

IC는 칩에 아날로그 및 디지털 회로를 결합하여 아날로그-디지털 컨버터 및 디지털-아날로그 컨버터와 같은 기능을 만들 수 있다. 이러한 혼합 신호 회로는 크기가 작고 비용이 저렴하지만 신호 간섭을 고려해야 한다.

집적회로의 발명은 여러 회사들의 경쟁 속에서 이루어졌다. 각 기업은 집적회로의 실현을 목표로 RCA의 마이크로 모듈, 웨스팅하우스 일렉트릭의 분자 전자 장치, 텍사스 인스트루먼츠의 솔리드 스테이트 회로를 개발했다.[127]

초기 집적회로의 개념은 현재의 하이브리드 IC에 가까웠으며, 기판에 진공 증착으로 저항 소자와 축전기를 형성하여 트랜지스터와 결합하는 박막 집적회로나, 프린티드 일렉트로닉스 기술을 사용하여 저항, 배선, 축전기 등을 하나의 세라믹 기판에 집적한 후막 집적회로가 개발되었다.[127]

1961년 2월에는 웨스팅하우스와 기술 제휴한 미쓰비시 전기에서 11종류의 모레트론을 발표했다.[127] 일본 최초의 모놀리식 집적회로는 도쿄대학과 일본전기(NEC)의 공동 개발로 여겨진다.[128]

집적회로 관련 특허는 미국의 두 기업, 텍사스 인스트루먼츠의 잭 킬비와 페어차일드 세미컨덕터의 로버트 노이스에게 각각 발행되었다. 킬비의 특허("Miniaturized electronic circuits")는 1959년 2월에 출원되어 1964년 6월에,[128] 노이스의 특허("Semiconductor device-and-lead structure")는 1959년 7월에 출원되어 1961년 4월에[128] 각각 특허를 받았다. 하지만, "킬비 특허 분쟁"으로 불리는 많은 논쟁이 있었다.

집적도는 소자 수에 따라 다음과 같이 분류된다.

약칭영어일본어소자 수
SSIsmall scale integration소규모 집적회로2 - 100
MSImedium scale integration중규모 집적회로100 - 1000
LSIlarge scale integration대규모 집적회로1000 - 10만
VLSIvery large scale integration초대규모 집적회로10만 - 1000만
ULSIultra-large scale integration극초대규모 집적회로1000만 초과
GSIgiga scale integration기가 스케일 집적회로10억 초과



제조 기술 발전에 따른 고집적화 진전에 맞춰 새로운 명칭이 붙여졌지만, 규모 차이가 사용 방법에 차이를 가져오는 것은 아니므로 점차 폐기되었다. 현재는 "LSI"를 제외하고는 거의 사용되지 않는다.

8. 1. 구성

모놀리식 집적 회로는 한 개의 칩에 트랜지스터, 다이오드, 저항기 등의 회로 소자를 형성하고, 소자 간을 알루미늄(Aluminium) 등의 증착으로 배선한 후, 수 mm에서 십수 mm 각의 작은 조각으로 잘라낸 것이다. 조립 공정 수가 적기 때문에 저렴하다.

규소(Si) 단결정 기판 위에 평면적으로 구성하는 트랜지스터(플래너형 트랜지스터)를 발전시킨 것이다. 아날로그 IC와 디지털 IC는 모두 1960년대부터 발전이 시작되었지만, 1990년대에는 제조 공정의 발전에 따라 고도의 아날로그-디지털 혼합 회로도 볼 수 있게 되었다.

CAN형 IC의 내부


하이브리드 집적회로


멀티칩 모듈


하이브리드 집적 회로는 비교적 작은 인쇄 회로 기판에 다수의 개별 부품이나 여러 개의 칩(멀티칩 모듈) 등을 직접 고밀도로, 심지어 입체적으로 실장·배선하고, 더 나아가 몰딩하는 등으로 하나의 부품으로 만든 것이다.[1]

제어 회로가 일체화된 고전력 증폭 회로나 스위칭 회로(인텔리전트 파워 모듈), 고밀도 실장이 요구되는 휴대기기·자동차·항공기·군사용, 집적회로 간의 거리가 연산 속도에 영향을 미치는 슈퍼컴퓨터나 메인프레임 컴퓨터 등에 사용된다. 메인프레임 컴퓨터나 슈퍼컴퓨터에 사용되는 멀티칩 모듈은 100층이 넘는 세라믹 기판을 소결하여 생성한 매우 고도의 입체 회로를 구성하고 있다. 인쇄회로기판에서도 빌드업이라고 불리는 여러 개의 다층 기판을 접합하여 회로를 구성하는 기술이 개발되었기 때문에, 하이브리드 집적회로의 다층화 제품과 인쇄회로기판의 다층화 제품의 경계는 없어지고 있다.[1]

IBM의 System/360에 사용된 "SLT"라고 불리는 하이브리드 집적회로

8. 2. 기능별 분류

집적 회로는 기능에 따라 다음과 같이 분류할 수 있다.

종류설명
범용 LSI
범용 로직 IC
ASIC, 시스템 LSI특정 용도 IC・LSI
ASSP특정 용도 표준 제품
프로그래머블 로직 디바이스FPGA
음성합성 LSI
LCD 드라이버
(DSP)
영상 처리 컨트롤러, GPU
LAN 제어
SCSI 제어
모뎀
비디오·오디오 부호화·복호화용
마이크로프로세서
마이크로컨트롤러
DRAM
SRAM (의사 SRAM)
ROM (EPROM, EEPROM)
플래시 메모리
FeRAM
FIFO 메모리
듀얼포트 메모리 (VRAM)
캐시 메모리
연산 증폭기
아날로그-디지털 변환 회로
디지털-아날로그 변환 회로
전원 회로
파워 앰프, 드라이버
음향용 앰프 회로
액정 디스플레이 드라이버
모터 드라이버
RF 회로
영상 신호 처리 (NTSC 신호 처리)
타이밍 회로 (PLL, VCO)
반도체 센서CMOS 이미지 센서, CCD 이미지 센서, 온도 센서, 압력 센서, 가속도 센서
반도체 릴레이
SiP
SoC
IC 카드



현대의 전자 부품 유통업체는 종종 집적 회로를 다음과 같이 세분화하기도 한다.


  • 디지털 집적 회로: 논리 IC (마이크로프로세서 및 마이크로컨트롤러 등), 메모리 칩 (MOS 메모리 및 플로팅 게이트 메모리 등), 인터페이스 IC (레벨 시프터, 직렬화/역직렬화 등), 전력 관리 IC 및 프로그래머블 디바이스.
  • 아날로그 집적 회로: 선형 집적 회로 및 RF 회로 (무선 주파수 회로).
  • 혼합 신호 집적 회로: 데이터 수집 IC (A/D 컨버터, D/A 컨버터, 디지털 포텐시오미터 포함), 클록/타이밍 IC, 스위치드 커패시터(SC) 회로 및 RF CMOS 회로.
  • 3차원 집적 회로(3D IC): 실리콘 관통 전극(TSV) IC와 Cu-Cu 연결 IC.

9. 보안 칩

보안 칩은 컴퓨터에 내탬퍼 기능을 부여하기 위한 시스템 온 칩(SoC) 모듈이다. 입출력 포트와 전원 단자만을 갖추고 있으며, 마이크로컨트롤러로서 모든 로직을 단일 칩에 통합하고 있다. 키 관리, 키 블록의 등록 및 발급, 웜 기능 등이 포함되어 중간자 공격 및 측채널 공격으로부터 컴퓨터 시스템을 보호한다.

세계에서 가장 많이 사용되는 보안 칩은 IC 카드이다. IC 카드는 시스템 방어의 핵심으로 사용되지만, 일반적으로 독립적으로 작동하지 않고 백엔드 시스템에 데이터베이스를 갖추고 있으며, 해당 데이터베이스에 접근하는 키가 저장된다. 과거에는 실제 데이터를 저장하는 IC 카드도 있었지만, 내탬퍼 성능이 낮아 B-CAS 카드 등 제한 수신 시스템을 제외하고는 철회되었다. 일본과 EU에서는 카드가 분석 및 변조되어 제한 수신 시스템이 붕괴되기도 했다.

오사이후 케타이 및 Suica에서 알 수 있듯이 무선 전자 결제 및 전자 발권 시스템도 보안 칩을 사용한다. 이 시장에서는 소니가 개발한 Felica가 주류이며, NFC로서 ISO에서 표준화되었다. 휴대전화의 SIM 카드도 보안 칩의 일종이다.

마이크로소프트 윈도우는 Windows Vista부터 보안 칩을 본격적으로 채택하기 시작했다. 보안 칩에 전자 인증서를 저장하고 하드 디스크를 암호화한다. 그 이전에는 전자 서명 기반의 EFS를 탑재했지만, 사용자 프로필이 소멸되면 사용자 인증서도 함께 손실되어 데이터 손실 사고가 발생했다. 또한 시스템 전체를 암호화할 수 없었다. 인텔은 vPro를 통해 Windows NT에 보안 칩을 옵션으로 채택한 암호화 시스템을 제공했지만, 일반 사용자에게는 사용되지 않았으며 주로 IT 전문가가 운영하는 대규모 시스템에서 사용되었다.

내탬퍼 기술은 날마다 발전하고 있다. 긴 키를 처리할 수 있는 고성능 프로세서를 탑재하고, 광소거 EPROM을 이용하여 칩 반출을 어렵게 하는 등(칩에 빛을 쬐면 플로팅 게이트에서 전하가 방출되어 데이터가 소멸됨) 개선이 거듭되고 있다.

10. 지적 재산권

집적회로 설계 디자인은 지적 재산권으로 보호받으며, 많은 나라에서 이를 위한 법률을 채택하고 있다.[94] 특히 집적회로의 각 층을 사진으로 촬영하여 포토마스크를 제작, 복제하는 행위를 막기 위해 이러한 법률이 제정되었다.[94] 미국의 1984년 반도체 칩 보호법(Semiconductor Chip Protection Act of 1984)은 집적회로 생산에 사용되는 포토마스크에 대한 지적 재산권을 확립했다.[94]

1989년 워싱턴 D.C.에서 집적회로에 관한 지적 재산권 조약(워싱턴 조약 또는 IPIC 조약)을 채택하는 외교 회의가 열렸으나, 이 조약은 현재 발효되지 않고 TRIPS 협정에 부분적으로 통합되었다.[95][96]

여러 국가에서 집적회로 배치 설계를 보호하는 법률을 채택했는데, 여기에는 일본,[97] EC,[98] 영국, 오스트레일리아, 한국 등이 포함된다. 영국은 초기에는 저작권법으로 칩 토폴로지를 보호했으나, 이후 브리티시 레일랜드 모터 코퍼레이션 대 암스트롱 특허 회사(British Leyland Motor Corp. v. Armstrong Patents Co.) 판례를 거쳐 1988년 저작권, 디자인 및 특허법을 제정했다. 미국 칩 산업은 영국의 저작권 접근 방식이 불충분하다고 비판하기도 했다.[99]

오스트레일리아는 1989년 회로 배치법(Circuit Layouts Act)을 통해 칩 보호를 위한 특별한 형태의 법률을 제정했다.[100] 한국은 1992년에 「반도체 집적회로 배치설계에 관한 법률」을 제정하여 시행하고 있다.[101]

11. 집적 회로에서의 발전

코어마이크로프로세서컴퓨터, 휴대폰부터 전자레인지까지 모든 것을 통제하는 가장 발전한 집적 회로이다. 디지털 메모리칩과 ASIC는 현대 정보사회에서 중요한 집적 회로의 다른 예이다. 복잡한 집적 회로를 설계하고 개발하는 비용은 꽤 높지만, 각각의 집적 회로 비용은 보통 수백만 개의 제품에 사용되면서 낮아진다. 집적 회로는 작은 크기로 인해 빠른 작동이 가능하게 하는 저전력 논리회로를 구현할 수 있기 때문에 성능이 좋다.

집적 회로는 한 칩에 더 많은 회로가 내장될 수 있도록 작은 크기를 지향해 왔다. 이것은 비용을 줄이거나 더 많은 기능을 할 수 있도록 집적회로의 용량을 늘려왔다. 무어의 법칙에서는 2년마다 집적 회로에 포함되는 트랜지스터의 개수가 2배씩 늘어난다고 한다. 일반적으로 크기가 줄어들수록 거의 모든 것이 향상된다. 비용과 전력 소모는 줄고 속도는 올라간다. 하지만 나노미터 크기의 집적 회로는 누설전류 같은 문제가 발생한다. 이 문제는 현재 하이-k 유전체로 해결하고 있다. 이러한 속도 저하와 전력 소모가 최종 사용자에게는 분명히 느껴지기 때문에 더 정밀한 집적 회로를 생산하기 위한 제조 기업들 간의 치열한 경쟁이 있다. 이러한 과정과 몇 년 안에 일어날 것으로 예상되는 발전은 ITRS가 묘사하고 있다.

현재 연구 프로젝트에서 집적 회로는 생체전자공학이나 의학 삽입물에서 센서로 사용될 목적으로 개발되고 있다. 각각의 봉합은 노출된 반도체 물질에 의한 부식이나 분해를 막기 위해 유기물로 이뤄져야 한다[169]. CMOS에서 사용되는 이러한 소수의 물질들 중 하나로, 의료삽입물에서 전극 역할에 접합하고 안정하다고 밝혀진 질화티타늄(TiN)이 있다[170][171].

1980년대 설계가능논리소자가 개발되었다. 이 장치들은 논리 함수와 연결성을 사용자가 설계할 수 있는 회로를 포함한다. 이것은 한 개의 칩이 논리 함수, 가산기, 레지스터 같은 다른 LSI 함수를 실행할 수 있도록 설계하게 한다. 현재 FPGA(Field Programmable Gate Array)라고 불리는 장치들은 동시에 수만 개의 LSI 회로를 실행할 수 있고, 1.5GHz까지 작동한다.

지난 30년간 집적회로 산업에 최적화된 기술들은 미세전자기계시스템으로 알려진 기술을 이용하는 매우 작은 기계 장치를 만드는 데 사용되어 왔다. 이러한 장치들은 다양한 상업적, 군사적 목적들을 수행한다. 예를 들어 DLP 프로젝터, 잉크젯 프린터, 가속계와 자동차 에어백에 사용되는 MEMS 자이로스코프 같은 것들이 있다.

2014년, 평면에 2차원 플레이너 공정을 하는 방식으로 한 개 층이나 실리콘 칩의 한 면에 수많은 트랜지스터들이 생산되고 있다. 연구원들은 다음과 같은 여러 유망한 대안들의 프로토타입을 생산했다.


  • 작은 실리콘 구의 전체 표면에 트랜지스터를 생산하는 것[175][176]
  • 3차원 집적회로나 모놀리식 3D, 적층 본딩와이어 같은 여러 겹으로 쌓여진 트랜지스터의 접근 방법[177] stacked wire bonding,[178].
  • 다른 물질로 만들어진 트랜지스터: 그래핀 트랜지스터, 탄소 나노튜브 전계 효과 트랜지스터, 질화 갈륨 트랜지스터, 트랜지스터와 유사한 나노와이어 전자기기, 유기전계효과 트랜지스터 등.
  • 말 수 있는 컴퓨터를 실현 가능케 할 기판에서의 변화. 예를 들어, 플렉서블 트랜지스터, 플렉서블 디스플레이나 다른 플렉서블을 응용한 전자기기.


과거에는, 라디오는 마이크로프로세서 같은 저비용 공정으로는 생산될 수 없었다. 하지만 1998년부터, 많은 수의 라디오 칩들이 CMOS 공정을 이용하여 개발되었다. 예를 들어 인텔의 DECT 무선 전화기나 Atheros의 802.11 카드가 있다.

이미 인텔과 AMD가 사용 중인 멀티코어나 멀티 프로세서 패러다임의 뒤를 잇는 발전이 일어날 것으로 보인다. Rapport Inc나 IBM은 2006년 256코어 마이크로프로세서인 KC256을 생산하기 시작했다. 인텔은 2011년 2월에서 8월까지, 판매용은 아니지만, 80코어의 프로토타입을 공개했다. 각각의 코어는 다른 것들과는 독립적으로 작업을 처리할 수 있다. 이 디자인은 칩 프로그래밍에 새로운 도전을 부여한다. 오픈소스인 X10 같은 병렬 프로그램 언어가 이 작업을 돕기 위해 설계되었다[179].

2000년대 초반부터, 모듈레이터, 감지기, 라우팅 같은 CMOS에 기초한 광학 기기를 결합한 집적 광 송수신기에 기초한 실리콘의 성공적인 상용화의 결과로 학문적 연구나 산업 분야에서 광학 기능의 통합이 활발하게 연구되고 있다[180].

12. 집적 회로의 예


  • 555 타이머 IC
  • 연산 증폭기
  • 7400 시리즈
  • 4000 시리즈 (7400 시리즈의 CMOS 대응 제품, 관련 항목: 74HC00 시리즈)
  • 인텔 4004 (일반적으로 최초의 상용 마이크로프로세서로 여겨짐, 8008, 8080 CPU, 8086, 8088 (최초의 IBM PC에 사용됨), 8088/8086과 완벽하게 하위 호환되는 80286, 80386/i386, i486 등으로 이어짐)
  • MOS 테크놀로지 6502 및 ZILOG Z80 마이크로프로세서 (1980년대 초 많은 가정용 컴퓨터에 사용됨)
  • 컴퓨터 관련 칩의 모토롤라 6800 시리즈 (68000 및 88000 시리즈로 이어짐. 68000 시리즈는 매우 성공적이었으며 애플 리사와 PowerPC 기반 이전 매킨토시, 코모도어 Amiga, 아타리 ST/TT/Falcon030, 넥스트 계열 컴퓨터와 80년대 많은 제조업체의 워크스테이션 및 서버의 여러 모델, 그리고 다른 많은 시스템 및 장치에 사용됨)
  • 아날로그 집적 회로의 LM 시리즈

13. 한국의 집적 회로 산업

IC영어 산업은 대한민국 경제에서 매우 중요한 위치를 차지하고 있다. 특히 삼성전자와 SK 하이닉스는 메모리 반도체 분야에서 세계 1, 2위를 다투는 기업이다. 이들 기업은 D램과 낸드 플래시 등 메모리 반도체 시장에서 높은 점유율을 차지하며 한국 경제 성장에 크게 기여하고 있다.

한국 정부는 이러한 반도체 산업의 중요성을 인식하고, 이를 국가 핵심 전략 산업으로 육성하기 위한 다양한 정책적 지원을 제공하고 있다. 연구 개발 투자 확대, 세제 혜택, 인력 양성 등 다각적인 지원을 통해 기업들의 경쟁력 강화를 돕고 있다.

메모리 반도체 분야의 성공에 이어, 한국은 비메모리 반도체 분야에서도 경쟁력 강화를 위해 노력하고 있다. 시스템 반도체, 파운드리 등 다양한 분야에 투자를 확대하며 기술 개발과 시장 확대를 추진하고 있다. 특히, 인공지능, 자율주행차, 5G 통신 등 미래 산업의 핵심 부품인 시스템 반도체의 중요성이 커짐에 따라 이 분야에 대한 투자가 더욱 집중되고 있다.

참조

[1] 웹사이트 Integrated circuit (IC) http://www.jedec.org[...] JEDEC
[2] 웹사이트 The first monolithic integrated circuits http://homepages.nil[...] 2011-03-14
[3] 서적 The Art of Electronics https://archive.org/[...] Cambridge University Press
[4] 웹사이트 Loewe 3NF Multi-valve - The first integrated circuit. http://www.electrics[...] 2014
[5] 웹사이트 Loewe 3NF radio valve, 1926-1966 | Science Museum Group Collection https://collection.s[...]
[6] Youtube Loewe 3NF Integrated Lamp https://www.youtube.[...] 2010-11-20
[7] 뉴스 The first "integrated circuit" from 1926! https://www.eetimes.[...] EE Times 2006-05-04
[8] 서적 The Race for Wireless: How Radio was Invented (Or Discovered?) https://books.google[...] AuthorHouse 2011
[9] 서적 Principles of VLSI and CMOS Integrated Circuits https://books.google[...] S. Chand 2016
[10] 웹사이트 Who Invented the IC? https://www.computer[...] Computer History Museum 2014-08-20
[11] 웹사이트 Integrated circuits help Invention http://integratedcir[...] Integratedcircuithelp.com 2012-08-13
[12] 특허 Halbleiterverstärker"
[13] 웹사이트 The Hapless Tale of Geoffrey Dummer http://www.epn-onlin[...] 2005-10-01
[14] 특허 Oxidation of semiconductive surfaces for controlled diffusion https://patents.goog[...]
[15] 논문 Surface Protection and Selective Masking during Diffusion in Silicon https://iopscience.i[...] 1957
[16] 서적 History of Semiconductor Engineering Springer Science & Business Media 2007
[17] 논문 Diffusion of Lithium into Germanium and Silicon https://link.aps.org[...] 1953-07-01
[18] 논문 Diffusivity and Solubility of Copper in Germanium https://link.aps.org[...] 1954-03-15
[19] 논문 Diffusion of Donor and Acceptor Elements in Silicon https://pubs.aip.org[...] 1956-05-01
[20] 논문 Diffusion, solubility, and electrical behavior of copper in gallium arsenide https://www.scienced[...] 1958-08-01
[21] 논문 Diffusion of Aluminum in Single Crystal Silicon https://pubs.aip.org[...] 1956-12-01
[22] 웹사이트 Micromodules: the ultimate package http://www.eetimes.c[...] 2018-04-23
[23] 웹사이트 The RCA Micromodule http://www.chipsetc.[...] 2018-04-23
[24] 서적 American Microelectronics Data Annual 1964–65 https://books.google[...] Elsevier 2014-05-16
[25] 웹사이트 The Chip That Jack Built Changed the World http://www.ti.com/co[...] 1997-09-09
[26] 특허 Miniaturized Electronic Circuits
[27] 서적 Media Technology and Society: A History: From the Telegraph to the Internet https://books.google[...] Routledge
[28] 웹사이트 Texas Instruments – 1961 First IC-based computer http://www.ti.com/co[...] Ti.com 2012-08-13
[29] 웹사이트 The Nobel Prize in Physics 2000 https://www.nobelpri[...] 2000-10-10
[30] 웹사이트 Integrated circuits https://www.hq.nasa.[...] 2019-08-13
[31] 웹사이트 1959: Practical Monolithic Integrated Circuit Concept Patented https://www.computer[...] 2019-08-13
[32] 서적 Journey to the Moon: The History of the Apollo Guidance Computer https://books.google[...] American Institute of Aeronautics and Astronautics 2023-10-05
[33] 웹사이트 Computer Pioneers – James L. Buie https://history.comp[...] 2020-05-25
[34] 논문 Thin Film Transistor Technology—Past, Present, and Future https://www.electroc[...] 2013-01-01
[35] 특허 Oxidation of semiconductive surfaces for controlled diffusion https://patents.goog[...]
[36] 논문 Frosch and Derick: Fifty Years Later (Foreword) https://iopscience.i[...] 2007-09-01
[37] 논문 Surface Protection and Selective Masking during Diffusion in Silicon https://iopscience.i[...] 1957
[38] 논문 Silicon-Silicon Dioxide Surface Device https://doi.org/10.1[...] 1961
[39] 서적 History of Semiconductor Engineering Springer-Verlag Berlin Heidelberg 2007
[40] 논문 The mechanisms for silicon oxidation in steam and oxygen https://linkinghub.e[...] 1960
[41] 서적 History of Semiconductor Engineering Springer Science & Business Media 2007
[42] 웹사이트 Who Invented the Transistor? https://www.computer[...] 2013-12-04
[43] 서적 To the Digital Age: Research Labs, Start-up Companies, and the Rise of MOS Technology https://books.google[...] Johns Hopkins University Press 2002
[44] 서적 To the Digital Age: Research Labs, Start-up Companies, and the Rise of MOS Technology https://books.google[...] Johns Hopkins University Press 2007
[45] 웹사이트 Milestones:First Semiconductor Integrated Circuit (IC), 1958 http://www.ieeeghn.o[...] IEEE 2011-08-03
[46] 웹사이트 Milestones:List of IEEE Milestones – Engineering and Technology History Wiki https://ethw.org/Mil[...] 2020-12-09
[47] 웹사이트 Tortoise of Transistors Wins the Race – CHM Revolution https://www.computer[...] 2019-07-22
[48] 웹사이트 1964 – First Commercial MOS IC Introduced http://www.computerh[...]
[49] 논문 The Surprising Story of the First Microprocessors https://spectrum.iee[...] Institute of Electrical and Electronics Engineers 2016-08-30
[50] 웹사이트 1968: Silicon Gate Technology Developed for ICs https://www.computer[...] 2019-07-22
[51] 웹사이트 1968: Silicon Gate Technology Developed for ICs https://www.computer[...] Computer History Museum 2019-10-13
[52] 논문 Metal–Oxide–Semiconductor Technology 1973
[53] 웹사이트 Why SOI is the Future Technology of Semiconductors http://semimd.com/bl[...] 2013-12-23
[54] 웹사이트 Moore's Law to roll on for another decade https://www.cnet.com[...] 2003-02-11
[55] 뉴스 CMOS scaling for high performance and low power-the next ten years http://www.cisl.colu[...]
[56] 웹사이트 Qualcomm and Samsung Collaborate on 10nm Process Technology for the Latest Snapdragon 835 Mobile Processor https://news.samsung[...] 2017-02-11
[57] 웹사이트 Inside Pascal: NVIDIA's Newest Computing Platform https://devblogs.nvi[...] 2016-04-05
[58] 웹사이트 International Roadmap for Devices and Systems https://rebootingcom[...] IEEE
[59] 웹사이트 The Nobel Prize in Physics 2009 http://nobelprize.or[...] Nobel Foundation 2009-10-06
[60] 학회 A decade of MEMS and its future
[61] 논문 A 40-Gb/s QSFP optoelectronic transceiver in a 0.13 µm CMOS silicon-on-insulator technology http://www.opticsinf[...]
[62] 웹사이트 Optical chipmaker focuses on high-performance computing https://physicsworld[...] 2022-04-07
[63] 논문 Technology modules from micro- and nano-electronics for the life sciences
[64] 논문 Commercialisation of CMOS Integrated Circuit Technology in Multi-Electrode Arrays for Neuroscience and Cell-Based Biosensors
[65] 웹사이트 Why SOI is the Future Technology of Semiconductors http://semimd.com/bl[...] 2013-12-23
[66] 웹사이트 Samsung's Eight-Stack Flash Shows up in Apple's iPhone 4 https://sst.semicond[...] 2010-09-13
[67] 논문 Spherical semiconductor radio temperature sensor http://www.natureint[...]
[68] 문서 MEMS applications of Ball Semiconductor Technology http://asia.stanford[...]
[69] 웹사이트 Advanced Packaging https://semiengineer[...]
[70] 웹사이트 2.5D https://semiengineer[...]
[71] 웹사이트 3D ICs https://semiengineer[...]
[72] 웹사이트 Chiplet https://en.wikichip.[...] 2021-02-28
[73] 잡지 To Keep Pace With Moore's Law, Chipmakers Turn to 'Chiplets' https://www.wired.co[...] 2018-06-11
[74] 웹사이트 This is the year of the CPU 'chiplet' https://www.engadget[...] 2019-04-16
[75] 웹사이트 Building Power Electronics with Microscopic Plumbing Could Save Enormous Amounts of Money - IEEE Spectrum https://spectrum.iee[...]
[76] 웹사이트 Startup shrinks Peltier cooler, puts it in the chip package https://arstechnica.[...] 2008-01-10
[77] 웹사이트 Wire Bond Vs. Flip Chip Packaging | Semiconductor Digest https://sst.semicond[...] 2016-12-10
[78] 웹사이트 FinFET Rollout Slower Than Expected http://semiengineeri[...] Semiconductor Engineering 2015-04-16
[79] 논문 From Design to Tape-out in SCL 180 nm CMOS Integrated Circuit Fabrication Technology 2019-10-09
[80] 웹사이트 About the EDA Industry https://web.archive.[...] Electronic Design Automation Consortium 2015-07-29
[81] 서적 Analysis and Design of Analog Integrated Circuits Wiley
[82] 서적 Digital Integrated Circuits https://archive.org/[...] Pearson
[83] 서적 CMOS: Mixed-Signal Circuit Design Wiley
[84] 뉴스 Stratix 10 Device Overview https://www.altera.c[...] Altera 2015-12-12
[85] 웹사이트 20.2: A Dual-band CMOS MIMO Radio SoC for IEEE 802.11n Wireless LAN https://web.archive.[...] IEEE 2016-10-22
[86] 웹사이트 16nm/14nm FinFETs: Enabling The New Electronics Frontier https://www.electron[...] 2013-01-17
[87] 서적 Introduction to VLSI systems https://archive.org/[...] Addison Wesley Publishing Company
[88] 웹사이트 Hot Work Ultrasonic Bonding – A Method Of Facilitating Metal Flow By Restoration Processes https://sites.google[...]
[89] 웹사이트 TSMC to build 5nm fab in arizona, set to come online in 2024 https://www.anandtec[...] Anandtech 2020-05-15
[90] 웹사이트 145 series ICs (in Russian) http://www.155la3.ru[...] 2012-04-22
[91] 뉴스 AMD Zen CPU & AM4 Socket Pictured, Launching February 2017 – PGA Design With 1331 Pins Confirmed https://wccftech.com[...] Wccftech 2016-09-16
[92] 뉴스 Ryzen 5 2500U – AMD – WikiChip https://en.wikichip.[...] wikichip.org
[93] 뉴스 AMD's 'TR4' Threadripper CPU socket is gigantic https://www.pcworld.[...] PCWorld 2017-05-30
[94] 웹사이트 Federal Statutory Protection for Mask Works https://copyright.go[...] 2016-10-22
[95] 웹사이트 Washington Treaty on Intellectual Property in Respect of Integrated Circuits https://www.wipo.int[...]
[96] 문서 Agreement on Trade-Related Aspects of Intellectual Property Rights (TRIPs)
[97] 문서 Japanese "Act Concerning the Circuit Layout of a Semiconductor Integrated Circuit" 1985
[98] 문서 Council Directive 1987/54/EEC 1986-12-16
[99] 논문 MicroLaw
[100] 논문 Sixteen Years after the Passage of the U.S. Semiconductor Chip Protection Act: Is International Protection Working https://heinonline.o[...] 2000
[101] 논문 The Need to Abolish Registration for Integrated Circuit Topographies under Trips https://heinonline.o[...] 1997-1998
[102] 웹사이트 Intel enters billion-transistor processor era http://www.eetimes.c[...] 2005-10-14
[103] 웹사이트 Les Microprocesseurs https://web.archive.[...] 2015-06-07
[104] 서적 Bulletin de la Société fribourgeoise des sciences naturelles, Volumes 62 à 63 https://books.google[...]
[105] 논문 System on Chip – Integrated Circuits https://books.google[...] 2015-03
[106] 서적 Digital Apollo: Human and Machine in Spaceflight The MIT Press
[107] 서적 Economic impact of large public programs: the NASA Experience Olympus Publishing Company
[108] 서적 Advanced Materials Innovation: Managing Global Technology in the 21st century https://books.google[...] John Wiley & Sons 2016
[109] 서적 We were burning: Japanese entrepreneurs and the forging of the electronic age https://books.google[...] Basic Books
[110] 웹사이트 Making Your First Million (and other tips for aspiring entrepreneurs) http://www.eecs.umic[...] 2007-10-12
[111] 학술지 Miniaturized electronic circuits [US Patent No. 3,138, 743] https://www.research[...] 2007
[112] 특허
[113] 학술지 Metal-Oxide-Semiconductor Technology 1973
[114] 웹사이트 Intel's Accidental Revolution https://www.cnet.com[...] 2002-01-16
[115] 학술지 Engineering for systems using large scale integration http://www.computer.[...]
[116] 웹사이트 Intel enters billion-transistor processor era https://www.eetimes.[...] 2022-05-23
[117] 웹사이트 Samsung First to Mass Produce 16Gb NAND Flash Memory https://phys.org/new[...] 2022-05-23
[118] 학술지 Ultra-large scale integration
[119] 특허 Wafer scale integration
[120] 웹사이트 Hungry for AI? New supercomputer contains 16 dinner-plate-size chips https://arstechnica.[...] 2022-11-14
[121] 특허 System-on-a-chip
[122] 학술지 Three-dimensional integrated circuits
[123] 문서 die
[124] 학술지 私とハイブリッドマイクロエレクトロニクスの出会い -戦後40年のやきもの
[125] 웹사이트 米誌に触発された電試グループ http://www.shmj.or.j[...]
[126] 웹사이트 固体回路の一試作 昭和36(1961)年4月8日 電気四学会連合大会 http://www.shmj.or.j[...]
[127] 웹사이트 1960年代初 国産ICのスタート http://www.shmj.or.j[...]
[128] 웹사이트 東大グループは「固態型論理回路」 半導体産業人協会 日本半導体歴史館 志村資料室 第II部 http://www.shmj.or.j[...]
[129] 서적 The Bipolar Digital Integrated Circuits Data Book 日本テキサスインスツルメンツ
[130] 문서 Introduction to VLSI Systems
[131] 학술지 Stretchable and Foldable Silicon Integrated Circuits https://www.science.[...] 2008-04-25
[132] 서적 はじめての半導体シリコン 工業調査会 2006-09-15
[133] 웹사이트 TSMC、5nmプロセス「N5」を2020年上半期に立ち上げ {{~}}6 nmは予定通り年内量産開始の見込み https://pc.watch.imp[...] 2021-04-08
[134] 웹사이트 TSMC、3 nmプロセスのリスク生産を2021年内にも開始 https://pc.watch.imp[...] 2021-04-08
[135] 웹사이트 Samsung、3 nmプロセスで独自のGAAFET構造「MBCFET」採用へ ~6nmは年内、5nmを2020年より量産開始 https://pc.watch.imp[...] 2021-04-08
[136] 웹사이트 【福田昭のセミコン業界最前線】 2020年も半導体はおもしろい(前編) https://pc.watch.imp[...] 2021-04-08
[137] 간행물 激安DRAMを活かす 日経エレクトロニクス 2007-11-05
[138] 웹사이트 Samsung、業界初のEUV採用DRAMモジュールの出荷開始 https://pc.watch.imp[...] 2021-04-08
[139] 웹사이트 笠原一輝のユビキタス情報局ː Intel、第10世代Core発表。10nmプロセスで、L1が1.5倍、L2は倍増に https://pc.watch.imp[...] 2021-04-26
[140] 웹사이트 笠原一輝のユビキタス情報局ː Intel、2023年の製品計画プランを延期。ゲルシンガー氏の新体制で強いIntelへの回帰なるか https://pc.watch.imp[...] 2021-04-26
[141] 뉴스 インテルCPUロードマップ 2016年中に10nmプロセスを量産、7nmは2019年 https://ascii.jp/ele[...] ASCIIデジタル 2016-04-18
[142] 뉴스 ついに“ひと桁”、7 nmプロセス開発へ加速 https://eetimes.itme[...] EE Times Japan Weekly 2016-03-28
[143] 뉴스 “Broadwell-EP”こと「Xeon E5-2600 v4」が販売開始 https://ascii.jp/ele[...] ASCII 2016-04-01
[144] 웹사이트 アップル異例の「順番入れ替わり」、それでも「プロセッサー自前開発」で強みを見せる (1/2) https://ascii.jp/ele[...] 2021-04-08
[145] 문서 New nano logic devices for the 2020 time frames https://web.archive.[...]
[146] 뉴스 マイクロ分光素子を用いたイメージセンサの高感度化技術を開発 http://news.panasoni[...] Panasonic Newsroom プレスリリース 2013-02-04
[147] 웹인용 아리조나에 새 공장을 짓는데 50억달러가 넘는 돈을 투자하는 인텔 http://newsroom.inte[...] 2013-02-03
[148] 웹인용 인텔® 22nm 기술 http://www.intel.com[...] 2014-07-26
[149] 웹인용 Integrated circuit (IC) http://www.jedec.org[...] JEDEC
[150] 웹인용 The first monolithic integrated circuits http://homepages.nil[...] 2011-03-14
[151] 서적 The Art of Electronics Cambridge University Press
[152] 웹인용 Integrated circuits help Invention http://integratedcir[...] Integratedcircuithelp.com
[153] 특허 Halbleiterverstärker 1952-05-15
[154] 뉴스 The Hapless Tale of Geoffrey Dummer http://www.epn-onlin[...] Electronic Product News 2008-07-08
[155] 뉴스 Micromodules: the ultimate package http://www.eetimes.c[...] EE Times 2008-07-08
[156] 웹사이트 The Chip that Jack Built http://www.ti.com/co[...] Texas Instruments 2008-05-29
[157] 서적 Media Technology and Society: A History : From the Telegraph to the Internet http://books.google.[...] Routledge
[158] 웹인용 Texas Instruments – 1961 First IC-based computer http://www.ti.com/co[...] Ti.com 2012-08-13
[159] 뉴스 The Nobel Prize in Physics 2000 http://nobelprize.or[...] Nobel Web AB 2000-10-10
[160] 특허 isolation p–n junction 1962-04-10
[161] 뉴스 Intel enters billion-transistor processor era http://www.eetimes.c[...] EE Times 2005-10-14
[162] 서적 디지털 논리회로: 이론 실습 시뮬레이션 HANBIT media, Inc.
[163] 뉴스 Intel enters billion-transistor processor era EE Times 2005-11-14
[164] 뉴스 Samsung begins production of 16-Gb flash EE Times 2007-04-30
[165] 웹사이트 Ultra-large scale integration http://ieeexplore.ie[...] IEEE 2014-09-21
[166] 웹사이트 Wafer scale integration https://www.google.c[...] 2014-09-21
[167] 웹사이트 System-on-a-chip https://www.google.c[...] 2014-09-21
[168] 웹사이트 Three-dimensional integrated circuits http://ieeexplore.ie[...] International Business Machines Corporation (IBM) 2014-09-21
[169] 저널 Commercialisation of CMOS Integrated Circuit Technology in Multi-Electrode Arrays for Neuroscience and Cell-Based Biosensors
[170] 저널 Biostability of micro-photodiode arrays for subretinal implantation
[171] 저널 Corrosion-resistant metal layers from a CMOS process for bioelectronic applications http://www.researchg[...]
[172] 문서 Hot Work Ultrasonic Bonding – A Method Of Facilitating Metal Flow By Restoration Processes https://sites.google[...] Proc. 20th IEEE Electronic Components Conf. Washington, D.C. 1970-05
[173] 웹사이트 Intel Fab 28 and Fab 18 cost http://www.theinquir[...]
[174] 웹인용 145 series ICs (in Russian) http://www.155la3.ru[...] 2012-04-22
[175] 뉴스 Spherical semiconductor radio temperature sensor http://www.natureint[...] NatureInterface 2002
[176] 웹사이트 MEMS applications of Ball Semiconductor Technology http://asia.stanford[...] 2015-01-01
[177] 웹사이트 Why SOI is the Future Technology of Semiconductors http://semimd.com/bl[...] 2014-11-29
[178] 웹사이트 Samsung’s Eight-Stack Flash Shows up in Apple’s iPhone 4 http://electroiq.com[...] 2014-11-29
[179] 간행물 Chip revolution poses problems for programmers
[180] 저널 A 40-Gb/s QSFP optoelectronic transceiver in a 0.13 µm CMOS silicon-on-insulator technology http://www.opticsinf[...]
[181] 웹사이트 실리콘 아트 갤러리 http://www.chipworks[...] 2012-07-22

관련 사건 타임라인

( 최근 20개의 뉴스만 표기 됩니다. )



본 사이트는 AI가 위키백과와 뉴스 기사,정부 간행물,학술 논문등을 바탕으로 정보를 가공하여 제공하는 백과사전형 서비스입니다.
모든 문서는 AI에 의해 자동 생성되며, CC BY-SA 4.0 라이선스에 따라 이용할 수 있습니다.
하지만, 위키백과나 뉴스 기사 자체에 오류, 부정확한 정보, 또는 가짜 뉴스가 포함될 수 있으며, AI는 이러한 내용을 완벽하게 걸러내지 못할 수 있습니다.
따라서 제공되는 정보에 일부 오류나 편향이 있을 수 있으므로, 중요한 정보는 반드시 다른 출처를 통해 교차 검증하시기 바랍니다.

문의하기 : help@durumis.com